一種ito鍍膜工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種ITO鍍膜工藝，所述工藝包括：首先，將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃；然后，將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗；然后，將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光；然后，將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗；然后，將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理；然后，將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜；最后，將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光，實(shí)現(xiàn)了ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好，導(dǎo)電性較好，表面雜質(zhì)較少，表面平整，膜的厚度均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻一致，工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
【專利說明】—種ITO鍍膜工藝

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及工業(yè)加工制造領(lǐng)域，尤其涉及一種ITO鍍膜工藝。

【背景技術(shù)】
[0002]ITO導(dǎo)電玻璃是在鈉鈣基或硅硼基基片玻璃的基礎(chǔ)上，利用磁控濺射的方法鍍上一層氧化銦錫(俗稱ΙΤ0)膜加工制作成的。液晶顯示器專用ITO導(dǎo)電玻璃，還會(huì)在鍍ITO層之前，鍍上一層二氧化硅阻擋層，以阻止基片玻璃上的鈉離子向盒內(nèi)液晶里擴(kuò)散。
[0003]ITO玻璃是觸摸屏生產(chǎn)制造的重要原料，而ITO玻璃的質(zhì)量關(guān)系著觸摸屏的質(zhì)量，傳統(tǒng)的ITO玻璃制造工藝在切割完成后進(jìn)行清洗直接進(jìn)行鍍膜，并沒有進(jìn)行表面處理，導(dǎo)致鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多等問題，且由于鍍膜機(jī)傳輸速度不穩(wěn)定，導(dǎo)致在鍍膜時(shí)，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，導(dǎo)致生產(chǎn)出來的產(chǎn)品工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求，且采用傳統(tǒng)工藝加工出來的ITO玻璃表面粗糙不平，質(zhì)量較差。
[0004]綜上所述，本申請(qǐng)發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)實(shí)施例中發(fā)明技術(shù)方案的過程中，發(fā)現(xiàn)上述技術(shù)至少存在如下技術(shù)問題:
在現(xiàn)有技術(shù)中，由于傳統(tǒng)的ITO玻璃制造工藝在切割完成后進(jìn)行清洗直接進(jìn)行鍍膜，并沒有進(jìn)行表面處理，導(dǎo)致鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多等問題，且由于鍍膜機(jī)傳輸速度不穩(wěn)定，導(dǎo)致在鍍膜時(shí)，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，導(dǎo)致生產(chǎn)出來的產(chǎn)品工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求，且采用傳統(tǒng)工藝加工出來的ITO玻璃表面粗糙不平，質(zhì)量較差，所以，現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計(jì)不合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多，表面粗糙不平，質(zhì)量較差，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明提供了一種ITO鍍膜工藝，解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計(jì)不合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多，表面粗糙不平，質(zhì)量較差，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題，實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好，導(dǎo)電性較好，表面雜質(zhì)較少，表面平整，膜的厚度均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻一致，工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0006]為解決上述技術(shù)問題，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種ITO鍍膜工藝，所述工藝包括: 首先，將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃；
然后，將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗；
然后，將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光；
然后，將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗；
然后，將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理；
然后，將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜；
最后，將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光。
[0007]進(jìn)一步的，所述一次清洗、所述二次清洗均為采用清水進(jìn)行清洗。
[0008]進(jìn)一步的，所述將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理具體包括:
首先，用去離子水超聲清洗30分鐘；
然后，用丙酮超聲清洗30分鐘；
然后，用無(wú)水乙醇超聲清洗30分鐘；
最后，用純氮?dú)獯蹈伞?br> [0009]進(jìn)一步的，所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體為:將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜，所述真空鍍膜機(jī)設(shè)有傳輸速度控制單元，用于控制基片的移動(dòng)速度。
[0010]進(jìn)一步的，所述將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光具體為:使用A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面。
[0011]進(jìn)一步的，所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體包括:
首先，在玻璃表面進(jìn)行S12鍍膜；
然后，將鍍有S12膜的玻璃傳輸至新的真空室進(jìn)行ITO鍍膜。
[0012]本申請(qǐng)實(shí)施例中提供的一個(gè)或多個(gè)技術(shù)方案，至少具有如下技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn): 由于采用了首先將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃，然后將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗，然后將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光，然后將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗，然后將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理，然后將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜，最后將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光的工藝來制造ITO玻璃，即，在鍍膜前將玻璃表面進(jìn)行了處理，如:首先用去離子水超聲清洗30分鐘；然后用丙酮超聲清洗30分鐘；然后用無(wú)水乙醇超聲清洗30分鐘；最后用純氮?dú)獯蹈?，保障了表面的工藝要求，使得表面雜質(zhì)較少，干凈平整，便于鍍膜時(shí)靶材更好的吸附在基片上，且在鍍膜機(jī)上設(shè)置了速度控制單元，用于控制鍍膜機(jī)基片的傳輸速度，使得基片傳輸速度平穩(wěn)均勻，保障在鍍膜時(shí)膜的厚度均勻，且在鍍膜后進(jìn)行拋光處理，使得ITO玻璃表面平整，所以，有效解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計(jì)不合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多，表面粗糙不平，質(zhì)量較差，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好，導(dǎo)電性較好，表面雜質(zhì)較少，表面平整，膜的厚度均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻一致，工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本申請(qǐng)實(shí)施例一中ITO鍍膜工藝的流程圖。

【具體實(shí)施方式】
[0014]本發(fā)明提供了一種ITO鍍膜工藝，解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計(jì)不合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多，表面粗糙不平，質(zhì)量較差，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題，實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好，導(dǎo)電性較好，表面雜質(zhì)較少，表面平整，膜的厚度均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻一致，工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0015]本申請(qǐng)實(shí)施中的技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問題。總體思路如下:采用了首先將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃，然后將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗，然后將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光，然后將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗，然后將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理，然后將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜，最后將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光的工藝來制造ITO玻璃，即，在鍍膜前將玻璃表面進(jìn)行了處理，如:首先用去離子水超聲清洗30分鐘；然后用丙酮超聲清洗30分鐘；然后用無(wú)水乙醇超聲清洗30分鐘；最后用純氮?dú)獯蹈?，保障了表面的工藝要求，使得表面雜質(zhì)較少，干凈平整，便于鍍膜時(shí)靶材更好的吸附在基片上，且在鍍膜機(jī)上設(shè)置了速度控制單元，用于控制鍍膜機(jī)基片的傳輸速度，使得基片傳輸速度平穩(wěn)均勻，保障在鍍膜時(shí)膜的厚度均勻，且在鍍膜后進(jìn)行拋光處理，使得ITO玻璃表面平整，所以，有效解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計(jì)不合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多，表面粗糙不平，質(zhì)量較差，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好，導(dǎo)電性較好，表面雜質(zhì)較少，表面平整，膜的厚度均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻一致，工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0016]為了更好的理解上述技術(shù)方案，下面將結(jié)合說明書附圖以及具體的實(shí)施方式對(duì)上述技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的說明。
[0017]實(shí)施例一:
在實(shí)施例一中，提供了一種ITO鍍膜工藝，請(qǐng)參考圖1，所述工藝包括:
S10，將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃；
S20，將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗；
S30，將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光；
S40，將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗；
S50，將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理；
S60，將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜；
S70，將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光。
[0018]其中，在本申請(qǐng)實(shí)施例中，所述一次清洗、所述二次清洗均為采用清水進(jìn)行清洗。
[0019]其中，在本申請(qǐng)實(shí)施例中，所述將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理具體包括:
首先，用去離子水超聲清洗30分鐘；
然后，用丙酮超聲清洗30分鐘；
然后，用無(wú)水乙醇超聲清洗30分鐘；
最后，用純氮?dú)獯蹈伞?br> [0020]其中，在實(shí)際應(yīng)用中，使用去離子水、丙酮、無(wú)水乙醇進(jìn)行超聲清洗，可以有效的去掉玻璃表面的雜質(zhì)，達(dá)到更好的表面光潔度，滿足工藝要求。
[0021]其中，在本申請(qǐng)實(shí)施例中，所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體為:將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜，所述真空鍍膜機(jī)設(shè)有傳輸速度控制單元，用于控制基片的移動(dòng)速度。
[0022]其中，在實(shí)際應(yīng)用中，傳輸速度控制單元具體為電流大小控制器，用于控制輸出電流的大小，進(jìn)而控制與鍍膜機(jī)連接的伺服電機(jī)的轉(zhuǎn)速，來逐漸改變膜的均勻，使得在鍍膜時(shí)，傳輸速度穩(wěn)定，膜的厚度均勻。
[0023]其中，在本申請(qǐng)實(shí)施例中，所述將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光具體為:使用A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面。
[0024]其中，在實(shí)際應(yīng)用中，用大量A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面，借助其動(dòng)能將表面層的微觀凸起部位削平或壓平，以實(shí)現(xiàn)拋光的目的。此法操作簡(jiǎn)單，表面微觀型貌良好，無(wú)方向性，主要用于清除表面積污、微觀凸起及較淺線條，并具有強(qiáng)化表面的作用，表面粗糙度能在原有基礎(chǔ)上有改善。
[0025]其中，在本申請(qǐng)實(shí)施例中，所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體包括:
首先，在玻璃表面進(jìn)行S12鍍膜；
然后，將鍍有S12膜的玻璃傳輸至新的真空室進(jìn)行ITO鍍膜。
[0026]其中，在實(shí)際應(yīng)用中，在更換至新的真空室后，雜質(zhì)較少，便于更好的鍍膜。
[0027]上述本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案，至少具有如下的技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn): 由于采用了首先將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃，然后將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗，然后將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光，然后將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗，然后將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理，然后將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜，最后將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光的工藝來制造ITO玻璃，即，在鍍膜前將玻璃表面進(jìn)行了處理，如:首先用去離子水超聲清洗30分鐘；然后用丙酮超聲清洗30分鐘；然后用無(wú)水乙醇超聲清洗30分鐘；最后用純氮?dú)獯蹈?，保障了表面的工藝要求，使得表面雜質(zhì)較少，干凈平整，便于鍍膜時(shí)靶材更好的吸附在基片上，且在鍍膜機(jī)上設(shè)置了速度控制單元，用于控制鍍膜機(jī)基片的傳輸速度，使得基片傳輸速度平穩(wěn)均勻，保障在鍍膜時(shí)膜的厚度均勻，且在鍍膜后進(jìn)行拋光處理，使得ITO玻璃表面平整，所以，有效解決了現(xiàn)有的ITO鍍膜工藝存在設(shè)計(jì)不合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較差，導(dǎo)電性較差，表面雜質(zhì)較多，表面粗糙不平，質(zhì)量較差，膜的厚度不均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻不一致，工藝達(dá)不到相應(yīng)的要求的技術(shù)問題，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)了 ITO鍍膜工藝設(shè)計(jì)合理，鍍膜后的產(chǎn)品質(zhì)量較好，導(dǎo)電性較好，表面雜質(zhì)較少，表面平整，膜的厚度均勻，膜面點(diǎn)各方塊電阻一致，工藝達(dá)到相應(yīng)的要求的技術(shù)效果。
[0028]盡管已描述了本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例，但本領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員一旦得知了基本創(chuàng)造性概念，則可對(duì)這些實(shí)施例作出另外的變更和修改。所以，所附權(quán)利要求意欲解釋為包括優(yōu)選實(shí)施例以及落入本發(fā)明范圍的所有變更和修改。
[0029]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種ITO鍍膜工藝，其特征在于，所述工藝包括: 將大片玻璃進(jìn)行切割成預(yù)設(shè)尺寸的小片玻璃； 將所述小片玻璃進(jìn)行一次清洗； 將清洗后的玻璃進(jìn)行拋光； 將拋光后的玻璃進(jìn)行二次清洗； 將二次清洗后的玻 進(jìn)行表面處理； 將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜； 將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述一次清洗、所述二次清洗均為采用清水進(jìn)行清洗。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述將二次清洗后的玻璃進(jìn)行表面處理具體包括: 用去離子水超聲清洗30分鐘； 用丙酮超聲清洗30分鐘； 用無(wú)水乙醇超聲清洗30分鐘； 用純氮?dú)獯蹈伞?br> 4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體為:將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜，所述真空鍍膜機(jī)設(shè)有傳輸速度控制單元，用于控制基片的移動(dòng)速度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述將鍍膜后的玻璃進(jìn)行機(jī)械拋光具體為:使用A1203微粉狀噴丸流高速噴向ITO表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的工藝，其特征在于，所述將表面處理后的玻璃放入真空鍍膜機(jī)內(nèi)進(jìn)行鍍膜具體包括: 在玻璃表面進(jìn)行S12鍍膜； 將鍍有S12膜的玻璃傳輸至新的真空室進(jìn)行ITO鍍膜。
【文檔編號(hào)】C03C17/23GK104163576SQ201410395714
【公開日】2014年11月26日 申請(qǐng)日期:2014年8月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月13日
【發(fā)明者】林華業(yè) 申請(qǐng)人:成都派萊克科技有限公司