用于增加外反射率的功能層上帶有吸收層的低輻射涂層制品的制作方法
【專利摘要】一種涂層制品，包括低輻射涂層，所述低輻射涂層具備吸收層，位于功能層（紅外反射層）之上，被設計用來使所述涂層具有增強的外反射（例如，在絕緣玻璃窗單元中）和較好的選擇性。在示例性實施例中，吸收層是金屬性的或基本金屬性的，并直接位于兩個紅外反射層中的較低層之上并與其接觸。在示例性實施例中，氮化物的層（例如，氮化硅或其他）可直接位于所述吸收層之上并與其接觸，用來減少及防止熱處理期間的氧化（例如，熱鋼化、熱彎曲、和/或熱強化），從而可實現(xiàn)預測的顏色，較高的外反射值、和/或較好的選擇性。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的涂層制品可用于絕緣玻璃（IG）窗單元、車船窗、其他類型的窗、或其他任何合適的應用。
【專利說明】用于增加外反射率的功能層上帶有吸收層的低輻射涂層制
口
叩
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種涂層制品，包括低輻射涂層。在示例性實施例中，所述低輻射涂層的吸收層位于功能層(紅外反射層)之上，被設計用來使所述涂層具有增強的外反射(例如，在絕緣玻璃窗單元中)和/或增強的玻璃面可見反射率(例如，單片測量)、以及較好的選擇性。在示例性實施例中，吸收層是金屬性的或基本金屬性的，并直接位于兩個紅外反射層中的較低層之上并與其接觸。在示例性實施例中，氮化物層(例如，氮化硅等)可直接位于所述吸收層之上并與其接觸，用來減少及防止熱處理期間的氧化(例如，熱鋼化、熱彎曲、和/或熱強化)，從而可在熱處理后實現(xiàn)預測的顏色，較高的外反射值、和/或較好的選擇性。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的涂層制品可用于絕緣玻璃(IG)窗單元、車船窗、其他類型的窗、或其他任何合適的應用。
[0002]發(fā)明背景
在現(xiàn)有技術中，涂層制品被用在絕緣玻璃(IG)窗單元、車船窗、和/或其他等類似的玻璃應用中。在一些已知實施例中，通常是將涂層制品進行熱處理(例如，熱鋼化、熱彎曲、和/或熱強化)來達到鋼化、彎曲、或其他目的。
[0003]在一些情況下，出于審美目的，涂層制品的設計往往希望具有較高的外反射率，并具有較好的選擇性、透光率、低輻射(或輻射率)、和較低的表面電阻率(Rs)。低輻射(1w-E)和較低的表面電阻性質(zhì)可使涂層制品切斷大量的紅外輻射，來減少類似車輛或建筑內(nèi)部的熱氣。但是，涂層制品的熱處理通常要求使用至少580°C的溫度，優(yōu)選是至少6000C，且更優(yōu)選是至少620°C。但上述高溫的使用(例如5-10分鐘，或更多)經(jīng)常導致涂層斷裂，具有不理想的較低的外反射率，和/或由于不可取的方式而導致上述性質(zhì)惡化
共同擁有的美國專利文件2005/0202254被納入此處作為參考，其公開了一種涂層制品，從玻璃基板往外，具有下述玻璃基板上的層:
層
玻璃基板
TiO2
Si3N4
ZnO
Ag
NiCrOx
SnO2
Si3N4
SnO2
ZnO
Ag
NiCrOx
SnO2Si3N4
雖然上述的涂層制品可熱處理，并具有許多理想及優(yōu)選的特性，但是問題在于當涂層制品被用于絕緣玻璃窗單元時，具有較低的外反射率。特別是，美國專利2005/0202254中示出具涂層的絕緣玻璃窗單元僅可實現(xiàn)1-12%.的外部玻璃面可見反射率。
[0004]在另一個實施例中，雖然美國專利N0.8，017，243的涂層制品具有許多理想及優(yōu)選的特性，但其問題在于具有較低的外反射或玻璃面可見反射率。特別是，美國專利N0.8，017，243中示出具涂層的絕緣玻璃窗單元僅可實現(xiàn)1_14% (見RgY值)的外部玻璃面可見反射率。
[0005]在另一個實施例中，雖然美國專利7，419，725的涂層制品具有許多理想及優(yōu)選的特性，但其問題在于具有較低的外反射或玻璃面可見反射率。特別是，美國專利N0.7，419，725中示出具涂層的絕緣玻璃窗單元僅可實現(xiàn)16.9-17.7% (見RgY值)的外部玻璃面可見反射率。
[0006]如上所述，本領域的技術人員需要一種具理想的光學特性(例如，低輻射的絕緣玻璃窗單元具有較高的外部玻璃面可見反射率和理想的透光率)的涂層制品的技術。
[0007]發(fā)明的示例性實施例概述
本發(fā)明涉及一種涂層制品，包括低輻射涂層。在示例性實施例中，所述低輻射涂層的吸收層位于功能層(紅外反射層)之上，被設計用來使所述涂層具有增強的外反射(例如，在絕緣玻璃窗單元中)和/或增強的玻璃面可見反射率(例如，單片測量)、以及較好的透光率、選擇性、較低的得熱系數(shù)SHGC、以及低輻射。在示例性實施例中，吸收層是金屬性的或基本金屬性的，并直接位于兩個紅外反射層中的較低層之上并與其接觸。在示例性實施例中，金屬或基本金屬的吸收層(例如，NiCr)，其厚度約為25-50A，并在絕緣玻璃窗單元的應用中發(fā)現(xiàn)具有增強的外反射率，和/或單片測量時具有增強的玻璃面可見反射率，且仍舊具有理想的透光率和低輻射。在示例性實施例中，氮化物層(例如，氮化硅等)可直接位于所述吸收層之上并與其接觸，用來減少及防止熱處理期間的氧化(例如，熱鋼化、熱彎曲、和/或熱強化)，從而可在熱處理后實現(xiàn)預測的顏色，較高的外反射值、和/或較好的選擇性。根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的涂層制品可用于絕緣玻璃(IG)窗單元、車船窗、其他類型的窗、或其他任何合適的應用。
[0008]在本發(fā)明的示例性實施例中，提供一種涂層制品，包括由玻璃基板支持的涂層，，所述涂層包括:含有銀的第一、第二紅外(IR)反射層，其中，所述第一紅外反射層比所述第二紅外反射層更接近所述玻璃基板，且其中，含有銀的所述第一紅外反射層位于含有氧化鋅的第一層之上并與其直接接觸；基本金屬吸收層，位于所述第一紅外反射層之上并與其直接接觸；含有氮化物的層，位于基本金屬吸收層之上并與其直接接觸；含有金屬氧化物的層，位于所述含有氮化物的層之上；至少一個介質(zhì)層，位于所述第二紅外反射層之上，且其中，所述涂層的表面電阻為<3.0 Ω/平方米，且單片測量的所述涂層制品的透光率為20-70%,玻璃面可見反射率至少為20%。在示例性實施例中，涂層制品可被熱處理(例如，熱鋼化，當涂層位于所述玻璃基板上時執(zhí)行回火)。在示例性實施例中，涂層制品可被用于絕緣玻璃窗單元。
[0009]附圖簡要說明
圖1是根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的涂層制品的橫截面圖。[0010]圖2是根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的絕緣玻璃單元的橫截面圖。
[0011 ] 示例性實施例的具體說明
在此，涂層制品可用在包含有單個或多個玻璃基板的絕緣玻璃窗單元、車船窗、單片建筑窗、住宅窗、和/或其他合適的應用中。
[0012]在本發(fā)明的示例性實施例中，涂層包括雙銀堆棧，但本發(fā)明并不局限于該實施例。
[0013]例如，在本發(fā)明的示例性實施例中，熱處理(HT)和/或非熱處理的涂層制品具有多個紅外反射層(例如兩個具間隔的基于銀的層)可實現(xiàn)< 3.0 (優(yōu)選是< 2.5，更優(yōu)選是
≤2.0，最優(yōu)選是≤1.7)的表面電阻在示例性實施例中，在熱處理(HT)之后和/或
之前，以及以單片形式測量時，涂層制品可實現(xiàn)約20-70%的透光率(111.C，2 degree),優(yōu)選是30-60%，更優(yōu)選是35-55%，且最優(yōu)選是40_50%。進一步，在示例性實施例中(熱處理或非熱處理)，當耦合至其他玻璃基板形成絕緣玻璃窗單元時，根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的絕緣玻璃單元涂層制品可實現(xiàn)20-70%的透光率，優(yōu)選是30-60%，更優(yōu)選是35-55%，更優(yōu)選是40-50%，且最優(yōu)選是41-46%。在示例性實施例中，在熱處理(HT)之后和/或之前，以及以單片形式測量時，玻璃面可見反射率(RgY%)明顯較高(例如，至少比薄膜面可見反射率(RfY%)高5%，更優(yōu)選是高10%-15%)。例如，當玻璃面可見反射率為24%，薄膜面可見反射率為12%時，玻璃面可見反射率比薄膜面可見反射率高12% (24%-12%=12%)。在本發(fā)明的示例性實施例中，在熱處理(HT )之后和/或之前，以及以單片形式測量時，涂層制品可實現(xiàn)至少20%的玻璃面可見反射率(RgY%)，優(yōu)選是20-50%，更優(yōu)選是20-40%，更優(yōu)選是20_35%，甚至更優(yōu)選是22-35%，最優(yōu)選是24-30%。進一步，在示例性實施例中(熱處理或非熱處理)，當耦合至其他玻璃基板形成絕緣玻璃窗單元時，根據(jù)本發(fā)明的示例性實施例的絕緣玻璃單元涂層制品可實現(xiàn)至少20%的玻璃面可見反射率(RgY%)，優(yōu)選是20-50%，更優(yōu)選是20-40%，更優(yōu)選是20-35%，甚至更優(yōu)選是22-35%，更優(yōu)選是23-30%或24_29%，最優(yōu)選是25_27%。在示例性實施例中，通過與在此所述的任何實施例相結合，涂層可使絕緣玻璃單元的得熱系數(shù)SHGC值為0.27以下，更優(yōu)選是0.25以下，最優(yōu)選是0.24以下。
[0014]在此使用的“熱處理(heat treatment)”和“熱處理(heat treating)”表示將制品加熱至一定的溫度來實現(xiàn)玻璃制品的熱鋼化、熱彎曲、和/或熱加強。該定義，例如，在烤爐或熔爐中以至少580°C的溫度來加熱涂層制品，更優(yōu)選是至少600°C，以足夠的時間來執(zhí)行鋼化、彎曲、和/或熱強化。在一些情況下，熱處理至少進行4到5分鐘。在本發(fā)明的不同實施例中，涂層制品可熱處理也可不熱處理。
[0015]圖1是例示出根據(jù)本發(fā)明的非限制性實施例的涂層制品的橫截面圖。該涂層制品包括:基板I (例如，純色、綠色、銅色、或藍綠色玻璃基板，厚度為1.0-10.0mm，更優(yōu)選是
1.0-7.0mm,最優(yōu)選是5_7mm,示例厚度約為6 mm);低福射涂層(或?qū)芋w系)30,直接或間接地位于基板I上。涂層(或?qū)芋w系)30包括:基于和/或包含氮化硅的底部介質(zhì)層3，其可以是高硅類型的Si3N4 (在一些實施例中可摻雜類似鋁的其他材料，也可不摻雜)，用于去霧處理，或是本發(fā)明的另一個實施例中的任何其他合適的化學計量的氮化硅；第一下部介質(zhì)接觸層7 (與下部紅外反射層9接觸);第一導電和金屬紅外反射層9 ;金屬或基本金屬吸收層4 (例如，包括鎳鉻或其他等)，位于紅外反射層9之上并直接與其接觸；基于和/或包含氮化硅的介質(zhì)層14，位于吸收層4之上并直接與其接觸；基于和/或包含氧化錫的夾層15 ；第二下部介質(zhì)接觸層17 (其與紅外反射層19接觸)、第二導電和金屬紅外反射層19 ;上部接觸層21 (其與紅外反射層19接觸)；介質(zhì)層23 ;和保護性介質(zhì)層25。所述接觸層7、17、21分別至少與一個紅外反射層(例如基于銀的層)接觸。上述的層3-25形成低輻射(即，低放射)涂層30，并提供至玻璃或玻璃基板I上。在示例性實施例中，下部的紅外反射層9和玻璃基板I之間不存在介電的高折射率層(例如，二氧化鈦層)，“高折射率層”表示折射率為
2.15以上的層。
[0016]在示例性實施例中，所解決的問題是如何生成玻璃面反射(RgY )與薄膜面反射(RfY )之間具高差異的涂層，包括在熱處理(例如，熱鋼化)之后的過程。通常情況下，雙銀涂層設計使玻璃面可見反射和薄膜面可見反射之間光度差異較低，而一些市場，特別是一部分商業(yè)市場在審美上要求高差異。因此，在本發(fā)明的示例性實施例中，涂層制品被設計成具有較高的類似鏡子的玻璃面可見反射，同時維持較低的薄膜面可見反射。雖然，現(xiàn)有技術中的單一銀涂層可做到這一點，但本發(fā)明的示例性實施例涉及一種多銀涂層來實現(xiàn)上述要求。單一銀涂層的缺點在于，其可能具有較高的0.29的太陽熱獲取系數(shù)(得熱系數(shù)SHGC)，且由于高太陽能負荷十分常見，因此不能滿足提出的SHGCX0.25的能源代碼標準。在本發(fā)明的示例性實施例中，當維持上述的高反射差異理論時可實現(xiàn)0.23的SHGC來滿足能源代碼標準。在本發(fā)明的示例性實施例，通過使用金屬或基本金屬的“吸收”鎳鉻層來代替位于底部銀之上的“透明的氧化鎳鉻層，從而在熱處理之后可實現(xiàn)較高的RgY/RfY差異。在示例性實施例中，為了避免加熱過程中嚴重氧化的鎳鉻進入位于底部銀之上的氧化鎳鉻層，將類似氮化硅的氮化物層直接置于含鎳鉻的吸收層之上。進一步，在示例性實施例中，為了在加熱期間減少或降低霧傳播并維持光學特性，可將少量的氮(50mL)引入至位于底部銀之上的吸收層中。氮對鎳鉻的即時光學特性具有較小的影響，但可使其在加熱期間保持金屬或基本金屬質(zhì)。
[0017]在為單片時，如圖1所示，涂層制品僅包括一個玻璃基板I。但是，該單片的涂層制品可能用于類似疊層的車輛擋風玻璃、絕緣玻璃窗單元等裝置中。在用于絕緣玻璃窗單元時，絕緣玻璃窗單元可包括兩個具間隔的玻璃基板。在美國專利N0.7，189，458示出并說明了有關絕緣玻璃窗單元的一個示例，其公開的內(nèi)容被納入此處作為參考。示例性絕緣玻璃窗單元可包括:如圖1中示出的玻璃基板1，通過墊片、密封劑等被耦合至另一個玻璃基板，并在其之間定義間隔。在一些情況下，該絕緣玻璃單元的實施例中的基板之間的間隔中，可填入類似氬(Ar)的氣體。在一些情況下，示例性絕緣玻璃單元可包括一對具間隔的玻璃基板，厚度分別為3-7mm (例如，6mm)，其中的一個涂有在此所述的涂層30，其中基板之間的間隔可為5-30mm，更優(yōu)選是10-20mm，且最優(yōu)選是約為12mm。在示例中，涂層30可施加在面對間隔的任何一個基板的內(nèi)表面，但是，在優(yōu)選的實施例中，涂層30可施加在如圖2所示的外玻璃基板I的內(nèi)表面。圖2中也示出絕緣玻璃窗單元的示例,可包括:圖1中所示的涂層的玻璃基板1，通過墊片、密封劑等4被耦合至另一個玻璃基板2，其之間定義有間隔6。在一些情況下，絕緣玻璃單元中的基板之間的間隔6中可填入類似氬(Ar)的氣體。在本發(fā)明的另一個實施例中，間隔6的壓力可小于大氣,或不小于大氣。
[0018] 仍參照圖2，示例性絕緣玻璃單元可包括一對具間隔的玻璃基板(I和2)，厚度分別為6 mm，其中的一個涂有在此所述的涂層30，其中基板之間的間隔6可為5_30mm，更優(yōu)選是10-20 mm，且最優(yōu)選是12-16 mm。在示例性實施例中，涂層30可施加在如圖2所示的外玻璃基板I的內(nèi)表面(即，外部方向的表面#2之上)，當然，在本發(fā)明的另一個實施例中，涂層也可施加在另一個基板2上。
[0019]在本發(fā)明的示例性實施例中，吸收層4位于下部的紅外反射層9之上并直接與其接觸。在示例性實施例中，位于吸收層4之上并與其直接接觸的層14是氮化物層，并基本或完全非氧化。其優(yōu)點在于可防止(或減少)熱處理期間吸收層被氧化，從而更好地使吸收層執(zhí)行其預期的功能，特別是吸收至少一些數(shù)量的可見光(例如，至少5%，更優(yōu)選是10%)。應理解，當熱處理期間，層被過多氧化時，其不能執(zhí)行作為吸收層的適當功能。
[0020]在本發(fā)明的示例性實施例中，吸收層4可包括鎳和/或鉻(例如，具任何N1: Cr合適比例的鎳鉻)。在示例性實施例中，吸收層4包括0-10%的氧氣,優(yōu)選是0-5%的氧氣,且更優(yōu)選是0-2%的氧氣(原子百分比)。進一步，吸收層4中加入0-20%的氮氣，更優(yōu)選是1-15%的氮氣，且最優(yōu)選是1-10%的氮氣(原子百分比)。雖然對于吸收層4來說鎳鉻(例如，在示例性實施例中可能被氮化)是優(yōu)選材料，但也可使用其他材料，或?qū)⑵渌牧咸砑又伶嚭?或鉻中。例如，在本發(fā)明的示例性實施例中，吸收層4可以是或包括N1、Cr、NiCrNx、CrN、ZrN等。在非熱處理的實施例中，類似其他T1、Zr、Ni0x等材料,任何一個上述的材料可用于吸附/吸收層4。
[0021]低輻射涂層的吸收層4被設計用來使涂層和/或涂層制品(包括實施例中的絕緣玻璃單元)具有增強的外(或是玻璃面)反射(例如在絕緣玻璃窗單元)，并具有理想的透光率、選擇性、較低的得熱系數(shù)、以及低輻射。在示例性實施例中，金屬或基本金屬吸收層(例如，NiCr )4比上部接觸層21薄，吸收層的厚度約為25-80A，更優(yōu)選是25-50 A，更優(yōu)選是30-40 A，且最優(yōu)選是33-37 A(例如，厚度約35 A)。進一步，在示例性實施例中，吸收層14可以是金屬或是輕微被氧化，則上部接觸層21明顯被氧化(例如，至少50%被氧化)。由此，層4可作為吸收層并使涂層制品的外部或玻璃面反射率明顯增加，且上部接觸層21不作為吸收層。
[0022]在示例性實施例中，金屬或基本金屬吸收層14直接位于金屬或基本金屬紅外反射層9和氮化物層14之間并與其接觸，用來減少或防止熱處理期間層4的氧化(例如，熱鋼化、熱彎曲、和/或熱強化)，從而可隨熱處理(HT)達到反射率和透光率。
[0023]進一步，在示例性實施例中，基于和/或包含金屬氧化物的層15 (或是包含氧化錫)可配置在氮化物層14與上部紅外反射層19之間，特別是，在示例性實施例中，層15可位于氮化物層14與基于和/或包含氧化鋅的接觸層17之間并直接與其接觸。在示例中發(fā)現(xiàn)，包含氧化錫的中間層15的使用可使涂層制品實現(xiàn)理想的光學特性。
[0024] 在本發(fā)明的實施例中，介質(zhì)層3、14和25可以是氮化硅或包括氮化硅。氮化硅層
3、14、和25可位于其他材料之間，來增加涂層制品的熱處理性，例如，熱鋼化或其他。在本發(fā)明的另一個實施例中，這些層的氮化硅可以是化學計量的類型(即，Si3N4),或是高硅類型。例如，高硅的氮化硅13 (和/或14)與基于銀的紅外反射層下的氧化鋅和/或氧化錫相結合，允許銀沉積(例如，通過濺射或其他方式)，從而與將其他材料配置在銀之下相比，表面電阻減少。進一步，高硅的氮化硅層3中的自由硅的存在，可使類似鈉(Na)的原子在熱處理期間從基板I向外遷移，從而在到達銀之前，通過高硅的氮化硅層3被有效地停止。由此，在本發(fā)明的示例性實施例中，高硅的SixNy可減少熱處理期間對于含銀層的損害，從而可減少表面電阻(Rs)或以符合要求的方式來維持幾乎相同。進一步，在本發(fā)明的選擇性實施例中，層3中的高硅SixNy可減少熱處理期間對于吸收層4的損害(例如，氧化)。在示例性實施例中，高硅的氮化硅被用于層3和/或?qū)?4時，高硅的氮化硅層以SixNy層被沉積，其中，x/y為0.76-1.5，更優(yōu)選是0.8-1.4，且更優(yōu)選是0.85-1.2。進一步，在示例性實施例中，熱處理之前和/或熱處理之后，高硅的SixNy層的折射率“η”至少為2.05，更優(yōu)選是至少2.07，且一些情況下為2.10 (例如，632nm)(在此，也可使用化學計量的Si3N4，其折射率“η”為2.02-2.04 )。在示例性實施例中，當高硅的SixNy層被沉積，折射率“η”至少為2.10時，可獲得提高的熱穩(wěn)定，更優(yōu)選是至少2.20，且最優(yōu)選是2.2-2.4。
[0025]在本發(fā)明的示例性實施例中，在此所述的任何和/或所有氮化硅層可摻雜類似不銹鋼或鋁的材料。例如，在本發(fā)明的示例性實施例中，上述的任何和/或所有氮化硅層(例如，3、14、和/或25)可選擇性包括0-15%的鋁、更優(yōu)選是1-10%的鋁。在本發(fā)明的實施例中，通過濺射硅或硅鋁氮化硅被沉積。在一些情況下，還可提供氧氣至一個或多個氮化硅層。由于層14用來保護吸收層4防止其在熱處理期間被氧化，在本發(fā)明的實施例中，氮化硅層14至少比氮化硅層3和/或25薄50Α，更優(yōu)選是至少薄100Α。在示例性實施例中，氮化硅層14至少比氮化硅層25薄100Α，并至少比氮化硅層3薄50Α。在本發(fā)明的實施例中，雖然氮化硅是用于層3、14、25的優(yōu)選材料，但應理解，在其他實施例中，其他材料也可代替或被添加來用于一個或多個上述層。
[0026]優(yōu)選是，紅外(IR)反射層9、19為基本或完全金屬和/或?qū)щ姷?，并可包含或是由銀(Ag)、金構成，或是其他合適的紅外反射材料。紅外反射層9、19可使涂層具有低輻射和/或較好的太陽能控制特性。在本發(fā)明的實施例中，紅外反射層可被輕微氧化。在示例性實施例中，上部紅外反射層19比下部紅外反射層9厚(例如，至少厚5Α，更優(yōu)選是厚10-15Α)。
[0027]在本發(fā)明的示例性實施例中，上部接觸層21可以是氧化鎳或包括氧化鎳(Ni)、氧化鉻(Cr)、或是類似氧化鎳鉻(NiCrOx )的氧化鎳合金，或是其他合適的材料。上述材料的使用，例如，層21中的NiCrOx可增加耐久性。在本發(fā)明的實施例中(即，完全化學計量)，層21中的NiCrOx可完全(或基本上完全)被氧化，或是部分被氧化。在一些情況下，氧化鎳鉻層21可至少50%被氧化。在本發(fā)明的另一個實施例中，接觸層21 (例如，包括氧化鎳和/或氧化鉻)可被氧化分級或不氧化分級。氧化分級表示根據(jù)層的厚度，層中氧化級別的改變，例如，接觸層可被分級，與紅外反射層19緊鄰的接觸界面中被氧化的程度，要小于遠離或更遠離紅外反射層19的接觸層部分。在本發(fā)明的另一個實施例中，接觸層21(例如，包括氧化鎳和/或氧化鉻)可基本穿過整個紅外反射層19或不穿過。
[0028]在本發(fā)明的示例性實施例中，介質(zhì)層15可包括氧化錫。但是，與在此所述的其他層一樣，在不同的情況下可使用其他材料。
[0029]在本發(fā)明的示例性實施例中，下部接觸層7和/或17可以是氧化鋅或包括氧化鋅(例如ΖηΟ)。層7、17的氧化鋅可包含類似鋁和/或錫的其他材料(例如，生成ΖηΑ10χ)。例如，在本發(fā)明的示例性實施例中，一個或多個基于氧化鋅的層7、17可摻雜1-10%的鋁，更優(yōu)選是1-5%的鋁，且最優(yōu)選是1-4%的鋁。
[0030]在本發(fā)明的示例性實施例中，介質(zhì)層23可以是氧化錫或包括氧化錫。在本發(fā)明的示例性實施例中，類似其他涂層，可選擇性地配置層23或不配置。在一些情況下，介質(zhì)層25可以是覆蓋層，包括氮化硅(例如，Si3N4)或任何其他合適的材料。選擇性地，可在層25之上配置其他層(例如:包括氧化鋯的層)。層25用于增加耐久性，并在熱處理期間和環(huán)境中保護底下層。在示例性實施例中，層25可具有1.9-2.2的折射率，更優(yōu)選是1.95-2.05。[0031]示出的涂層下或涂層上也可配置其他層。雖然層體系或?qū)?0位于基板I “之上”或由基板I “支持”(直接或非直接)，但在其之間可也配置其他層。由此，即使層3和基板I之間配置有其他層，圖1的涂層也被視為位于基板I “之上”或由基板I “支持”。進一步，在實施例中，示出的涂層中的一些層可被除去，且另一個實施例中，也可在多個層中添加其他沒有示出的層，或是在不脫離本發(fā)明的實施例的思想范圍下，在本發(fā)明的其他實施例中可將一些層與添加在分開部分之間的其他層分離。
[0032]在本發(fā)明的另一個實施例中，各種厚度和材料可用于層中，以下，示出圖1中位于玻璃基板I上的各濺射沉積的厚度和材料，順序為自玻璃基板向外:
示例性材料/厚度；圖1的實施例
【權利要求】
1.一種涂層制品，包括由玻璃基板支持的涂層，所述涂層包含: 含有氮化娃的第一層，由玻璃基板支持； 含有氧化鋅的第一層，由玻璃基板支持，并位于所述含有氮化硅的第一層之上與其直接接觸； 含有銀的第一、第二紅外反射層，其中，所述第一紅外反射層比所述第二紅外反射層更接近所述玻璃基板，且其中，含有銀的所述第一紅外反射層位于所述含有氧化鋅的第一層之上并與其直接接觸； 含有鎳和/或鉻的金屬吸收層，位于所述第一紅外反射層之上并與其直接接觸； 含有氮化硅的第二層，位于所述金屬吸收層之上并與其直接接觸； 含有金屬氧化物的層，位于所述含有氮化硅的第二層之上并與其直接接觸； 含有氧化鋅的第二層，位于所述含有金屬氧化物的層之上，并位于所述第二紅外反射層之下與其直接接觸； 至少一個介質(zhì)層，位于所述第二紅外反射層之上，且 其中，所述涂層的表面電阻為<3.0 Ω/平方米，且單片測量的所述涂層制品的透光率為20-70%，玻璃面可見反射率至少為20%，且所述玻璃面可見反射率至少比所述涂層制品的薄膜面可見反射率高5%。
2.如權利要求1所述的涂層制品，其中，所述第一紅外反射層和所述玻璃基板之間不存在高折射率層。
3.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，單片測量的所述涂層制品的透光率為35-55%。
4.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，單片測量的所述涂層制品的玻璃面可見反射率為20-50%。
5.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，單片測量的所述涂層制品的玻璃面可見反射率為20-35%。
6.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，單片測量的所述涂層制品的玻璃面可見反射率為24-30%。
7.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述金屬吸收層的厚度為25-50A。
8.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述涂層制品的透光率為30-60%ο
9.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述涂層制品的透光率為35-45%。
10.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述吸收層包含鎳鉻。
11.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述涂層制品被熱處理。
12.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述涂層制品被熱鋼化，且由于回火，玻璃面反射ΛE*值為≤4.5。
13.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述含有氮化硅的第二層至少比所述含有氮化硅的第一層薄50Α。
14.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述金屬氧化物為氧化錫。
15.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述至少一個介質(zhì)層位于所述第二紅外反射層之上，所述第二紅外反射層包括含有氮化硅的第三層。
16.如權利要求15所述的涂層制品，其中，所述含有氮化硅的第二層至少比所述含有氮化硅的第三層薄100A。
17.如上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，其中，所述含有氧化鋅的第二層直接接觸所述含有金屬氧化物的層。
18.—種絕緣玻璃窗單元,包括: 上述權利要求中任何一項所述的涂層制品，被耦合至另一個玻璃基板，其之間具間隔。
19.如權利要求18所述的絕緣玻璃窗單元，其中，所述涂層位于最接近太陽的所述玻璃基板的內(nèi)表面，且所述絕緣玻璃窗單元的外反射率為23-30%，且得熱系數(shù)SHGC為0.25以下。
20.一種涂層制品，包括由玻璃基板支持的涂層，所述涂層包含: 含有銀的第一、第二紅外反射層，其中，所述第一紅外反射層比所述第二紅外反射層更接近所述玻璃基板，且其中，含有銀的所述第一紅外反射層位于含有氧化鋅的層之上并與其直接接觸； 金屬吸收層，位于所述第一紅外反射層之上并與其直接接觸； 含有氮化物的層，位于所述金屬吸收層之上并與其直接接觸； 含有金屬氧化物的層，位于所述含有氮化物的層之上； 至少一個介質(zhì)層，位于所述第二紅外反射層之上，且 其中，所述涂層的表面電阻為<3.0 Ω/平方米，且單片測量的所述涂層制品的透光率為20-70%，玻璃面可見反射率至少為20%。
21.如權利要求20所述的涂層制品，其中，所述第一紅外反射層和所述玻璃基板之間不存在高折射率層。
22.如權利要求20-21中任何一項所述的涂層制品，其中，單片測量的所述涂層制品的玻璃面可見反射率為24-30%。
23.如權利要求20-22中任何一項所述的涂層制品，其中，所述金屬吸收層的厚度為25-50A。
24.如權利要求20-23中任何一項所述的涂層制品，其中，所述吸收層包含鎳鉻的氮化物。
25.如權利要求20-23中任何一項所述的涂層制品，其中，所述吸收層包含鎳鉻。
26.如權利要求20-25中任何一項所述的涂層制品，其中，所述涂層制品被熱鋼化，且由于回火，玻璃面反射ΔΕ*值為≤4.5。
27.如權利要求20-26中任何一項所述的涂層制品，其中，所述玻璃面可見反射率至少比所述涂層制品的薄膜面可見反射率高5%。
28.如權利要求20-27中任何一項所述的涂層制品，其中，所述玻璃面可見反射率至少比所述涂層制品的薄膜面可見反射率高10%。
29.如權利要求20-28中任何一項所述的涂層制品，其中，所述玻璃面可見反射率至少比所述涂層制品的薄膜面可見反射率高15%。
【文檔編號】C03C17/36GK103958431SQ201280058312
【公開日】2014年7月30日 申請日期:2012年9月14日 優(yōu)先權日:2011年10月12日
【發(fā)明者】凱文·奧康納, 勞敬宇, 約翰·沃爾福 申請人:葛迪恩實業(yè)公司