專利名稱：玻璃基板蝕刻方法、玻璃板材及玻璃基板蝕刻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用來(lái)蝕刻玻璃基板來(lái)減少玻璃基板厚度的裝置，尤其涉及一個(gè)蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置在至少一個(gè)玻璃基板下設(shè)置有一個(gè)固定裝置，該固定裝置用來(lái)可分離的以預(yù)先與地面有一定的傾斜度固定和支撐玻璃基板；該裝置還在玻璃基板上面設(shè)置有一個(gè)噴涂裝置，該噴涂裝置用來(lái)噴涂蝕刻劑到玻璃基板上，以此來(lái)減少玻璃基板的厚度，且 玻璃板材也以上述方式制造。
背景技術(shù)：
回應(yīng)當(dāng)前信息時(shí)代的發(fā)展，光電元件和設(shè)備顯著發(fā)展且廣泛應(yīng)用。尤其，用在電視或個(gè)人電腦上的用來(lái)顯示圖像的顯示設(shè)備更是受到了加速的研究。因此，更多的研究還應(yīng)用于用于基板的玻璃板材和玻璃板材的制作方法，該玻璃板材是顯示設(shè)備的關(guān)鍵部件。制作顯示燈和薄顯示面板的傳統(tǒng)方法通常包括機(jī)械拋光方法和化學(xué)濕式蝕刻方法。雖然在顯示設(shè)備的早期發(fā)展階段廣泛應(yīng)用機(jī)械拋光方法，但是化學(xué)濕式蝕刻方法具有極好的生產(chǎn)率，最近開始用于需要超細(xì)產(chǎn)品的場(chǎng)合。對(duì)于濕式蝕刻方法，浸涂法首先應(yīng)用于用于薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-IXD)的細(xì)長(zhǎng)面板的制造。盡管噴涂(spray)方法和射流方法比浸涂法更先進(jìn)，他們的原理是相似的。噴涂(spray)方法和射流方法與浸涂法在應(yīng)用蝕刻劑、散播反應(yīng)生成物和移除反應(yīng)生成物的宏觀原理上是不同的。簡(jiǎn)要描述一下化學(xué)濕式蝕刻方法，它利用的是在蝕刻劑主要成分例如氫離子(H+)、氟化氫(HF)、二氟化氫(HF2_)和玻璃基板的主要成分例如二氧化硅(SiO2)當(dāng)攪拌蝕刻劑后的化學(xué)反應(yīng)。反應(yīng)依據(jù)下列公式進(jìn)行Si02+4HF — SiF4+2H20使用包含HF—蝕刻劑來(lái)蝕刻玻璃基板的制程可被分為以下5個(gè)步驟，該步驟決定了蝕刻的質(zhì)量。該5個(gè)步驟是(I)蝕刻劑散播到臨近玻璃基板的擴(kuò)散層上；(2)蝕刻劑的成分被吸收到玻璃基板的表面上；(3)蝕刻劑的成分和玻璃基板進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)；(4)化學(xué)反應(yīng)后，反應(yīng)生成物從玻璃基板上分離出來(lái)；(5)反應(yīng)生成物從臨近玻璃基板的擴(kuò)散層中移除。以下是對(duì)基于上述化學(xué)反應(yīng)的化學(xué)濕式蝕刻方法的浸涂法、噴涂(spray)方法和射流方法的描述。浸涂法是在一個(gè)蝕刻槽中包含蝕刻劑，將玻璃基板沉浸在蝕刻劑中且在蝕刻槽底部產(chǎn)生氣泡，因此氣泡在玻璃基板的表面產(chǎn)生連續(xù)不斷的蝕刻劑。此處，氣泡和蝕刻劑或者反應(yīng)生成物的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)相關(guān)，例如蝕刻劑的散播，反應(yīng)生成物的分離，和反應(yīng)生成物從擴(kuò)散層的移除。由于氣泡增加了蝕刻劑和反應(yīng)生成物的運(yùn)動(dòng)能力，因此加速了蝕刻劑和反應(yīng)生成物的接觸、散播、和分離。
換句話說(shuō)，氣泡用來(lái)快速地為玻璃基板應(yīng)用新的蝕刻劑，以及從玻璃基板表面移除蝕刻劑。由于蝕刻劑充滿了蝕刻槽，一些玻璃基板可以適合卡座的狀態(tài)同時(shí)放置入，因此基于以上原理的浸涂法具有高生產(chǎn)率的優(yōu)點(diǎn)。然而，作為浸涂法的缺點(diǎn)，剩余在蝕刻槽內(nèi)部的反應(yīng)生成物粘在玻璃基板的表面，因此造成了表面質(zhì)量的副作用。結(jié)果使通過(guò)增加蝕刻量來(lái)減少玻璃基板厚度變得困難，因此，大量的蝕刻劑用于蝕刻玻璃基板。噴涂(spray)方法是用來(lái)彌補(bǔ)浸涂法的缺陷。噴涂(spray)方法在質(zhì)量上比浸涂法高級(jí)的多。如圖I所示，噴涂(spray)方法包括從噴嘴11向玻璃基板13上噴涂蝕刻劑
12?；谖g刻原理的蝕刻步驟和以上描述的浸涂法的步驟一樣。然而，噴涂(spray)方法使用一個(gè)作為噴霧器的工具，通過(guò)垂直注射蝕刻劑到玻璃基板上，該噴霧器產(chǎn)生大量的動(dòng)力能量，且能更快速和均勻的提供新的蝕刻劑和移除反應(yīng)生成物。另外，和浸涂法相比，噴涂(spray)方法在同樣溫度下能獲得更高的質(zhì)量和更高的蝕刻率。噴涂(spray)方法可以使用一個(gè)具有較大容量的槽，因此反應(yīng)生成物可以方便的移除且蝕刻劑可以不斷地流過(guò)該槽和蝕刻空間。另外，噴涂(spray)方法可以有利地地保 持極好的表面質(zhì)量且由于蝕刻劑可以在處理反生成物時(shí)不斷使用，還能減少使用的蝕刻劑的數(shù)量。然而，由于噴涂(spray)方法只能一個(gè)接一個(gè)的加工玻璃基板,噴涂(spray)方法的生產(chǎn)效率比較低。射流方法被設(shè)計(jì)來(lái)克服以上提到的問題。射流方法可以被視為浸涂法和噴涂(spray)方法的結(jié)合。射流法包括將蝕刻槽填滿蝕刻劑，將玻璃基板浸沒在蝕刻劑中，在一面產(chǎn)生蝕刻劑的強(qiáng)大的流量，其作用如浸涂法中的氣泡一樣。另外，新的蝕刻劑不斷應(yīng)用于蝕刻槽,流過(guò)蝕刻槽的蝕刻劑的一部分被收集和重新利用。即使射流法能夠增加生產(chǎn)率,但是它有一個(gè)缺點(diǎn)就是初始成本很高。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明用來(lái)解決現(xiàn)有技術(shù)的上述問題。本發(fā)明的一個(gè)目的是提供用來(lái)蝕刻玻璃基板的裝置，該裝置在至少一個(gè)玻璃基板下設(shè)置有一個(gè)固定裝置，該固定裝置可分離的固定和支撐玻璃基板，使其預(yù)先與地面有一定的傾斜度；該裝置還在玻璃基板上面設(shè)置有一個(gè)噴涂裝置，該噴涂裝置用來(lái)噴涂蝕刻劑到玻璃基板上，以便減少玻璃基板的厚度。本發(fā)明的另外一個(gè)目的是提供了一個(gè)由上述裝置制造的質(zhì)量改善了的玻璃基板。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)目的，蝕刻玻璃基板的裝置可以包括一個(gè)設(shè)置在一個(gè)或者多個(gè)玻璃基板下的固定裝置，該固定裝置可分離的固定和支撐玻璃基板，使其預(yù)先與地面有一定的傾斜度；該裝置還包含一個(gè)設(shè)置在玻璃基板上面的噴涂裝置，來(lái)在玻璃基板上噴涂蝕亥Ij劑，通過(guò)蝕刻減少了該玻璃基板的厚度。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例中，噴涂裝置可以包含用來(lái)噴涂蝕刻劑的一個(gè)或者多個(gè)噴嘴頭和一個(gè)或者多個(gè)噴嘴。在本發(fā)明的另外一個(gè)實(shí)施例中，末端噴嘴以預(yù)先設(shè)置的距離設(shè)置在離開玻璃基板的位置上，該距離由噴嘴之間的間距和噴嘴的蝕刻劑噴涂的角度確定。在本發(fā)明的進(jìn)一步的一個(gè)實(shí)施例中，玻璃基板傾斜于延伸到噴嘴的垂直面，傾斜的角度范圍是0-45度。
在本發(fā)明的另外一個(gè)實(shí)施例中，玻璃基板以預(yù)設(shè)的間距排列在固定裝置上，該間距范圍是5_300_。在本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步的實(shí)施例中，蝕刻玻璃基板的裝置進(jìn)一步包含一個(gè)和噴涂裝置連接的蝕刻槽，和一個(gè)設(shè)置在固定裝置較低部分的反應(yīng)生成物槽，該反應(yīng)生成物槽用來(lái)收集噴嘴噴涂的蝕刻劑和玻璃基板之間反應(yīng)過(guò)程中產(chǎn)生的反應(yīng)生成物，其蝕刻劑的未反應(yīng)部分從反應(yīng)生成物槽中流向蝕刻劑槽。在本發(fā)明的另外一個(gè)實(shí)施例中，反應(yīng)生成物槽包括一個(gè)過(guò)濾裝置來(lái)將反應(yīng)生成物從蝕刻劑的未反應(yīng)部分分離出來(lái)。在本發(fā)明的進(jìn)一步一個(gè)實(shí)施例中，蝕刻劑是氟化氫，且根據(jù)蝕刻劑氫離子、氟化氫、二氟化氫濃度的不同玻璃基板的蝕刻率也不同。在本發(fā)明的進(jìn)一步的另外一個(gè)實(shí)施例中，固定裝置包含一個(gè)玻璃基板接觸裝置，該接觸裝置用來(lái)方便的固定玻璃基板和將反應(yīng)生成物流入反應(yīng)生成物槽。根據(jù)本發(fā)明的另外一個(gè)目的，用于薄膜晶體管液晶顯示器的玻璃板材由以上描述的裝置制造，該玻璃板材的厚度范圍為0. 3-lmm，面積范圍為1000X1200mm2到1100X 1300mm2。通過(guò)方便的將玻璃基板加工為薄玻璃板材，以上陳述的本發(fā)明的實(shí)施例可以改善生產(chǎn)率，且通過(guò)允許蝕刻劑沿著玻璃基板流動(dòng)，上述實(shí)施例可以提高玻璃質(zhì)量。進(jìn)一步，在厚度低于0. 3mm、面積大于1000X 1200mm2上進(jìn)行的超細(xì)蝕刻性能，可以提高經(jīng)濟(jì)競(jìng)爭(zhēng)。


根據(jù)以下結(jié)合附圖的描述，本發(fā)明的某些實(shí)施例的以上和其他目的、特征和優(yōu)點(diǎn)會(huì)更加明顯。圖I是描述傳統(tǒng)方法的基板蝕刻制程的示意圖。圖2根據(jù)本發(fā)明用于蝕刻玻璃基板的裝置的第一個(gè)實(shí)施例的透視圖；圖3根據(jù)本發(fā)明蝕刻玻璃基板的制程的第一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖4是玻璃基板和垂直面的幾何構(gòu)造的側(cè)面和正面視圖，根據(jù)本發(fā)明該垂直面垂直延伸向噴嘴。圖5是本發(fā)明玻璃蝕刻方法和傳統(tǒng)的玻璃蝕刻方法的對(duì)比示意圖。圖6說(shuō)明了應(yīng)用在玻璃基板表面的蝕刻劑的數(shù)量分別與蝕刻率和表面質(zhì)量之間關(guān)系的曲線圖。圖7說(shuō)明了應(yīng)用在玻璃基板表面的蝕刻劑的數(shù)量和在垂直方向的玻璃基板厚度變化之間關(guān)系的曲線圖。圖8是展示根據(jù)玻璃基板的間距所產(chǎn)生的蝕刻厚度差別分布的示意圖。圖9根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例來(lái)展示的玻璃基板和噴嘴的幾何關(guān)系的示意圖。以及圖10根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例展示玻璃基板和固定裝置之間的幾何關(guān)系的示意圖。
具體實(shí)施方式
根據(jù)相應(yīng)的示范性實(shí)施例的附圖，在下文中將要詳細(xì)描述本發(fā)明。在附圖中，圖I是描述傳統(tǒng)方法的基板蝕刻制程的示意圖。圖2是本發(fā)明用于蝕刻玻璃基板的裝置的第一個(gè)實(shí)施例的透視圖；圖3是本發(fā)明蝕刻玻璃基板的制程的第一個(gè)實(shí)施例的示意圖。圖4是玻璃基板和垂直平面的幾何構(gòu)造的側(cè)面和正面視圖，根據(jù)本發(fā)明該垂直平面垂直延伸向噴嘴。圖5是本發(fā)明玻璃蝕刻方法和傳統(tǒng)的玻璃蝕刻方法的對(duì)比示意圖。圖6是說(shuō)明應(yīng)用在玻璃基板表面的蝕刻劑的數(shù)量分別與蝕刻率和表面質(zhì)量之間關(guān)系的曲線圖。圖7展示了應(yīng)用在玻璃基板表面的蝕刻劑的數(shù)量和在垂直方向的玻璃基板厚度變化之間關(guān)系的曲線圖。圖8是展示根據(jù)玻璃基板的間距所產(chǎn)生的蝕刻厚度差別分布的示意圖。圖9根據(jù)本發(fā)明的第一個(gè)實(shí)施例來(lái)說(shuō)明的玻璃基板和噴嘴的幾何關(guān)系的示意圖。另外，圖10根據(jù)本發(fā)明的第二個(gè)實(shí)施例展示玻璃基板和固定裝置之間的幾何關(guān)系的不意圖。如圖2和圖3所示，提供的是用于蝕刻玻璃基板的裝置100，通過(guò)蝕刻玻璃基板300的表面，該裝置減少了玻璃基板300的厚度。該裝置100包括一個(gè)噴涂裝置101，向下噴涂蝕刻劑到玻璃基板300上，還包括一個(gè)固定裝置200來(lái)固定玻璃基板300。排列了一個(gè)或者多個(gè)玻璃基板300。當(dāng)若干個(gè)玻璃基板300被裝入裝置100中，就可以在同一時(shí)間產(chǎn)生若干個(gè)玻璃板材。該玻璃基板300需要包含娃(Si)或者氧化娃(SiO2),以便可以被蝕刻劑例如氟化氫(HF)蝕亥lj。然而，此不是意圖限制本發(fā)明，且該玻璃基板300還可以有其他形式。固定裝置200用來(lái)從下面固定和支撐玻璃基板300，因此，玻璃基板300傾斜于地面。此處，不需要以和蝕刻劑供應(yīng)裝置呈90度排列基板。固定裝置200由聚合樹脂或者有機(jī)材料制成，且被配置來(lái)使用最小的接觸面積來(lái)固定玻璃基板300。這是由于蝕刻劑需要被噴涂到玻璃基板300上且和玻璃基板完全反應(yīng)。然而，只要固定裝置200能固定玻璃基板300，就并不局限于使用聚合物。另外，固定裝置200可設(shè)置有彼此間隔的凹槽來(lái)固定若干玻璃基板300。固定裝置200的寬度可以被設(shè)置為和玻璃基板300相同，且基板300以最小的面積固定在固定裝置200上。由于若干個(gè)的玻璃基板300可以固定地設(shè)置在固定裝置200上，可以將固定裝置200和玻璃基板300的組裝體放置在一個(gè)蝕刻區(qū)域內(nèi)蝕刻該玻璃基板300，然后將該組裝體移開蝕刻區(qū)域。因此，由于固定裝置200可以很方面的放入到蝕刻區(qū)域和從蝕刻區(qū)域移開，因此，若干個(gè)玻璃基板300可以同時(shí)被蝕刻。無(wú)論是一個(gè)玻璃基板或者多個(gè)玻璃基板蝕刻，本發(fā)明的實(shí)施例是有效的。另外，由于本發(fā)明的實(shí)施例中提供的噴涂(spray)方法可以比浸涂法蝕刻更多的玻璃基板，因此是非常高產(chǎn)和經(jīng)濟(jì)的。由于玻璃基板300基本上不受外力影響，固定裝置200可根據(jù)情況靈活設(shè)置。當(dāng)固定裝置200與玻璃基板300保持接觸時(shí)，反應(yīng)生成物可在固定裝置200上聚積，因此導(dǎo)致了諸如污染之類的缺點(diǎn)。為了解決這個(gè)問題，如圖10所示，固定裝置200包括一個(gè)夾子202，該夾子用來(lái)固定玻璃基板300。由于固定裝置200可以根據(jù)基板的型號(hào)或者制程準(zhǔn)備，因此本發(fā)明的這個(gè)實(shí)施例有利的提供了很大的自由度。這是因?yàn)槲g刻劑104是從上面噴涂到玻璃基板上的，尤其是沿著玻璃基板300的表面進(jìn)行噴涂，因此可以使來(lái)自外界的任何影響最小化。提供了用于將蝕刻劑104從上面噴涂到玻璃基板300上的噴涂裝置101。由于噴涂裝置101設(shè)置在玻璃基板300上面且從上面噴涂蝕刻劑，因此玻璃基板實(shí)際上不受任何外力。由于玻璃基板300僅僅受很小的外力，因此支撐結(jié)構(gòu)就能很容易的設(shè)計(jì)。由于以上原因，可以非常有利的將玻璃基板300的厚度減少到0. Imm或者更薄，蝕刻面積達(dá)到1000X 1200mm2 或者更大。噴涂裝置101在每一個(gè)或者多個(gè)噴嘴102上包括一個(gè)或者多個(gè)噴嘴頭103。每一個(gè)噴嘴102都設(shè)計(jì)用來(lái)噴涂(spray)蝕刻劑。如圖5所示，由于使用少量的蝕刻劑就可以蝕刻較大的面積且蝕刻厚度可以適當(dāng)調(diào)整，所以采用噴涂(spray)方法。噴涂裝置101設(shè)置在玻璃基板300上面來(lái)最小化當(dāng)蝕刻劑104被噴涂時(shí)施加在玻璃基板300上的壓力。當(dāng)蝕刻劑104蝕刻玻璃基板表面時(shí)，首先接觸不同玻璃基板300的上部、中部或下部，接著在表面張力的作用下沿著玻璃基板300向下流動(dòng)。對(duì)比而言，如圖I所示，由于噴涂劑12直接噴涂到玻璃基板13上，傳統(tǒng)的噴涂(spray)方法在玻璃基板13上施加了大量的壓力。如圖4所示，玻璃基板300到噴嘴102的末端的距離由噴嘴102之間的間距和噴嘴102的蝕刻劑噴涂角度(也就是，噴嘴102噴涂蝕刻劑104的角度)共同決定的。從玻璃基板300到末端噴嘴102之間的距離這樣確定的原因在于可以確保玻璃基板300的所有部分都暴露在蝕刻劑104的噴涂范圍之內(nèi)。從玻璃基板300到噴嘴102的末端之間的距離h由以下的公式I決定
權(quán)利要求
1.ー種玻璃基板蝕刻方法，其特征在于，包括以下步驟 a)步驟，以多個(gè)玻璃基板相對(duì)于地面傾斜45度 90度范圍內(nèi)的方式排列所述玻璃基板；以及 b)步驟，從位于比所述玻璃基板高的位置的多個(gè)地方以預(yù)定的噴涂(spray)角度對(duì)所述玻璃基板的基板表面向下噴涂(spray)蝕刻劑而蝕刻所述玻璃基板， 所述蝕刻劑用于在與所述玻璃基板接觸之后沿著所述玻璃基板流下而蝕刻所述玻璃基板的表面。
2.ー種玻璃基板蝕刻方法，其特征在于，包括以下步驟 a)步驟，將多個(gè)玻璃基板以相對(duì)于固定裝置的底面傾斜45度 90度范圍內(nèi)的方式固定在所述固定裝置上；以及 b)步驟，從配置于比所述玻璃基板高的位置的包括多個(gè)噴嘴的噴涂(spray)裝置以預(yù)定的噴涂(spray)角度對(duì)所述玻璃基板的基板表面向下噴涂(spray)蝕刻劑而蝕刻所述玻璃基板， 所述蝕刻劑用于在與所述玻璃基板接觸之后沿著所述玻璃基板流下而蝕刻所述玻璃基板的表面。
3.如權(quán)利要求2所述的玻璃基板蝕刻方法，其特征在于， 所述噴嘴的末端與所述玻璃基板的上端之間的間隔根據(jù)所述噴嘴之間的間距和所述噴嘴的蝕刻劑噴涂(spray)角度來(lái)調(diào)整，以使所述玻璃基板的所有部分都暴露在所述蝕刻劑的噴射范圍之內(nèi)。
4.如權(quán)利要求2所述的玻璃基板蝕刻方法，其特征在于， 所述噴涂(spray)裝置具備多個(gè)噴嘴頭，所述多個(gè)噴嘴頭分別包括多個(gè)噴嘴， 所述噴嘴的末端與所述玻璃基板的上端之間的間隔根據(jù)所述噴嘴頭之間的間距和所述噴嘴的蝕刻劑噴涂(spray)角度來(lái)調(diào)整，以使所述玻璃基板的所有部分都暴露在所述蝕刻劑的噴射范圍之內(nèi)。
5.如權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的玻璃基板蝕刻方法,其特征在于， 所述多個(gè)玻璃基板相對(duì)于所述固定裝置的底面傾斜60度 90度范圍內(nèi)。
6.如權(quán)利要求2 4中任一項(xiàng)所述的玻璃基板蝕刻方法,其特征在于， 還包括以下步驟 在所述a)步驟之后且所述b)步驟之前，將所述固定裝置放入到所述噴涂(spray)裝置的下方的步驟；以及 在所述b)步驟之后，將所述固定裝置從所述噴涂(spray)裝置的下方的位置移開的步驟。
7.如權(quán)利要求5所述的玻璃基板蝕刻方法，其特征在于， 所述固定裝置包括用干支撐所述玻璃基板的夾子(202)和用于點(diǎn)接觸的構(gòu)件(201)。
8.ー種玻璃板材，使用權(quán)利要求5所述的玻璃基板蝕刻方法制造。
9.ー種玻璃基板蝕刻裝置，通過(guò)蝕刻玻璃基板而使所述玻璃基板的厚度減少，其特征在于，包括 固定裝置，該固定裝置能夠以多個(gè)玻璃基板相對(duì)于所述蝕刻裝置的底面傾斜45度 90度的方式可分離地支撐所述玻璃基板；以及噴涂(spray)裝置，該噴涂(spray)裝置設(shè)置在比所述玻璃基板高的上部，并用于以預(yù)定的噴涂(spray)角度對(duì)所述玻璃基板的表面向下噴涂(spray)蝕刻劑,并且包括多個(gè)噴嘴和多個(gè)噴嘴頭， 所述蝕刻劑用于在與所述玻璃基板接觸之后沿著所述玻璃基板流下而蝕刻所述玻璃基板的表面， 所述噴嘴的末端與所述玻璃基板之間的間距(h)與所述噴嘴之間的間距(Np)和所述噴嘴的所述蝕刻劑噴涂(spray)角度(Θ )滿足以下公式，以使所述玻璃基板的所有部分都暴露在所述蝕刻劑的噴射范圍之內(nèi)，
10.ー種玻璃基板蝕刻裝置，通過(guò)蝕刻玻璃基板而使所述玻璃基板的厚度減少，其特征在于，包括 固定裝置，該固定裝置能夠以多個(gè)玻璃基板相對(duì)于所述蝕刻裝置的底面傾斜45度 90度的方式可分離地支撐所述玻璃基板；以及 噴涂(spray)裝置，該噴涂(spray)裝置設(shè)置在比所述玻璃基板高的上部，并用于以預(yù)定的噴涂(spray)角度對(duì)所述玻璃基板的表面向下噴涂(spray)蝕刻劑， 所述蝕刻劑用于在與所述玻璃基板接觸之后沿著所述玻璃基板流下而蝕刻所述玻璃基板的表面， 所述噴嘴的末端與所述玻璃基板之間的間距(h)與所述噴嘴頭之間的間距(Hp)和所述噴嘴的所述蝕刻劑噴涂(spray)角度(Θ )滿足以下公式，以使所述玻璃基板的所有部分都暴露在所述蝕刻劑的噴射范圍之內(nèi)，
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用來(lái)蝕刻玻璃薄片的裝置和利用該裝置制成的玻璃板材。該裝置包括設(shè)置在一個(gè)或者多個(gè)玻璃基板下，可以以預(yù)先設(shè)定的和地面一定角度來(lái)可分離的固定和支撐玻璃基板的固定裝置，和一個(gè)設(shè)置在玻璃基板上面的用于向玻璃基板上噴涂蝕刻劑的噴涂裝置，該噴涂裝置包含用于噴涂蝕刻劑的一個(gè)或者多個(gè)噴頭和一個(gè)或者多個(gè)噴嘴。末端噴頭設(shè)置在預(yù)先設(shè)定好的遠(yuǎn)離玻璃基板的一定的距離上，該距離由噴嘴和噴嘴之間的間距和噴嘴的蝕刻劑噴涂角度決定。
文檔編號(hào)C03C15/00GK102674701SQ201210082749
公開日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2009年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月9日
發(fā)明者樸亨根, 高星宇 申請(qǐng)人:伊可尼股份有限公司, 樸亨根, 高星宇