專利名稱：一種光自潔陶瓷磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種建筑材料，特別涉及一種光自潔陶瓷磚。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，人們對(duì)建筑物的內(nèi)、外裝修水平也提高了，樓房墻壁外貼上陶瓷磚顯得整潔美觀，陶瓷磚作為一種優(yōu)秀的建筑材料也不再是簡(jiǎn)單的構(gòu)建作用和美化作用， 它還可以擁有一些特殊的功能?，F(xiàn)有的瓷磚在使用一段時(shí)間后表面會(huì)蒙上污垢灰塵，一般需要人工定期清洗，才能保持陶瓷磚表面的清潔，這種需要清洗的陶瓷磚維護(hù)費(fèi)用較高，且外墻上一些比較高不容易清潔到的地方，要徹底清潔需要高空作業(yè)，人們?cè)谇逑刺沾纱u的過程中經(jīng)常會(huì)發(fā)生安全事故，安全性極差，另外，人們?cè)谇逑刺沾纱u時(shí)通常需要使用化學(xué)劑，化學(xué)劑會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染，不夠節(jié)能、環(huán)保。
發(fā)明內(nèi)容針對(duì)上述問題，本實(shí)用新型提出一種耐污垢灰塵、耐磨損、節(jié)能環(huán)保，可自行清潔的光自潔陶瓷磚。為解決此技術(shù)問題，本實(shí)用新型采取以下方案一種光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體，還包括釉面層及金屬氧化薄膜層，所述釉面層設(shè)于陶瓷基體上方，所述金屬氧化薄膜層設(shè)于釉面層上方。進(jìn)一步所述釉面層由底釉層及設(shè)于底釉層上方的生料釉層組成。通過采用前述技術(shù)方案，本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型光自潔陶瓷磚，在陶瓷基體上方設(shè)有釉面層，所述釉面層上方設(shè)有金屬氧化薄膜層，金屬氧化薄膜層在光的照射下可以分解陶瓷磚表面各種有機(jī)化合物和部分無機(jī)化合物，從而達(dá)到自潔的功能，而且無須利用化學(xué)劑進(jìn)行人工清洗，既節(jié)省了人力物力又符合環(huán)保要求。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。參考圖1，一種光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體1，還包括釉面層及金屬氧化薄膜層 3，所述釉面層設(shè)于陶瓷基體1上方，所述金屬氧化薄膜層3設(shè)于釉面層上方，所述釉面層由底釉層21及設(shè)于底釉層21上方的生料釉層22組成，所述金屬氧化薄膜層為金屬鈦氧化薄膜層，金屬鈦氧化薄膜層在光的照射，具有超親水性和超親油性，令附著在金屬氧化薄膜層表面的水分變成超親水性水膜，使污跡不易附著，金屬鈦氧化薄膜層在光的照射下可以分解陶瓷磚表面各種有機(jī)化合物和部分無機(jī)化合物，從而使陶瓷磚達(dá)到自我清潔的效果，另外，本新型光自潔陶瓷磚無須利用化學(xué)劑進(jìn)行人工清洗，既節(jié)省了人力物力又符合環(huán)保要求。 以上所記載，僅為利用本創(chuàng)作技術(shù)內(nèi)容的實(shí)施例，任何熟悉本項(xiàng)技藝者運(yùn)用本創(chuàng)作所做的修飾、變化，皆屬本創(chuàng)作主張的專利范圍，而不限于實(shí)施例所揭示者。
權(quán)利要求1.一種光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體，其特征在于還包括釉面層及金屬氧化薄膜層， 所述釉面層設(shè)于陶瓷基體上方，所述金屬氧化薄膜層設(shè)于釉面層上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光自潔陶瓷磚，其特征在于所述釉面層由底釉層及設(shè)于底釉層上方的生料釉層組成。
專利摘要本實(shí)用新型涉及建筑材料，提供一種耐污垢灰塵、耐磨損、節(jié)能環(huán)保，可自行清潔的光自潔陶瓷磚，包括陶瓷基體，還包括釉面層及金屬氧化薄膜層，所述釉面層設(shè)于陶瓷基體上方、所述金屬氧化薄膜層設(shè)于釉面層上方。
文檔編號(hào)E04F13/075GK202194331SQ20112024141
公開日2012年4月18日 申請(qǐng)日期2011年7月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月8日
發(fā)明者黃家洞 申請(qǐng)人:晉江恒達(dá)陶瓷有限公司