專利名稱：：低發(fā)射率窗玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及低發(fā)射率Umissivit"窗玻璃(vitrage);換句話說，涉及反射很大部分紅外線而讓可見光透過的窗玻璃。更準(zhǔn)確地講，本發(fā)明涉及在經(jīng)受劇烈的熱處理，如熱淬火和/或彎曲(bombage)作業(yè)時，保持或改善其光能量特性的低發(fā)射率窗玻璃。
背景技術(shù)：
：具有高透光性的低發(fā)射率窗玻璃通常是通過將薄金屬層，特別是基于銀的層施加在玻璃板上獲得的，所述層由電介質(zhì)型保護(hù)層所保護(hù)以防止各種可能的改變。所述層通過所謂"濺射"類型的真空沉積技術(shù)進(jìn)行施加，其中所述層的材料由電離的粒子轟擊的靶材得到，這些粒子從該靶材上釋放成分，然后這些成分在可能的與氣氛組分的反應(yīng)之后沉積在構(gòu)成基材的玻璃板上。當(dāng)組件具有單一的銀層時，常規(guī)的基本結(jié)構(gòu)為如下類型玻璃/電介質(zhì)I/銀/阻擋層/電介質(zhì)II。在這種結(jié)構(gòu)中，阻擋層基本上為避免在電介質(zhì)II層的施加過程中金屬銀層可能的降解而設(shè)置。當(dāng)電介質(zhì)II層采用所謂的"反應(yīng)性"技術(shù)進(jìn)行沉積時尤其如此，在該技術(shù)中使用金屬靶材在與被沉積金屬反應(yīng)的氣氛中，特別是在氧化或氮化氣氛中進(jìn)行沉積。電介質(zhì)I和II具有多種功能。它們需要構(gòu)成能使可見光波長的反射減少的干涉濾波器，從而使得可以提高透光性。它們的使用還使得可見光的反射部分導(dǎo)致盡可能強的顏色中性，特別M射不導(dǎo)致紫色色調(diào)，以便滿足顧客在這方面的喜好。此外，電介質(zhì)層或電介質(zhì)層體系的選擇使得在最寬的相對于窗玻璃的入射角范圍內(nèi)獲得反射中性。除了這些純粹的光學(xué)功能，電介質(zhì)層必須盡可能導(dǎo)致形成性能得到優(yōu)化的金屬層。對于同樣量的沉積金屬，所述層事實上能夠?qū)е卤容^高的發(fā)射率，這取決于它與電介質(zhì)特別是電介質(zhì)I相接觸地形成的方式。美國專利US5110662因而教導(dǎo)道，在金屬層下緊接地使用薄氧化鋅層使得可以顯著改善組件的性能，特別是就發(fā)射率而言。這種改善可能來自于與沉積的金屬層具有很規(guī)則的界面的鋅層的結(jié)構(gòu)，這有利于該金屬層以良好控制的結(jié)構(gòu)生長。對于很多應(yīng)用，具有層體系的窗玻璃必須能夠經(jīng)受彎曲/淬火類型的熱處理。在這些使窗玻璃在可達(dá)到甚至超過600。C的溫度下停留數(shù)分鐘的處理中，層體系可能發(fā)生改變。根據(jù)條件，這些改變能夠大概通過基于銀的層的晶體結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)變來改善某些性能，特別是發(fā)射率。但是這需要對各層的組合進(jìn)行非常特定的選擇。否則，通常觀察到對窗玻璃所要求的一個或多個基本性能的退化，這涉及例如發(fā)射率、反射著色或者霧狀物("Haze")的出現(xiàn)。所使用的體系是在層的材料及其在組件中的布置方面費力地選擇后的結(jié)果，因為調(diào)整某種特性以改善某種性能可能會對其它性能帶來負(fù)面影響。此外，在阻隔性能方面的要求一向很高。盡管具有小于O.04的發(fā)射率的窗玻璃(無論可淬火與否)直到最近都是符合規(guī)定的，但是最嚴(yán)格的規(guī)定目前要求窗玻璃的發(fā)射率不超過0.038，或者，根據(jù)這些規(guī)定，其中對于由兩塊4mm厚的玻璃板組成的阻隔窗玻璃(該層體系位于3處并且兩板之間的空間為90%的氬氣和10%的干燥空氣)，系數(shù)u如下"1.1W/m2。為了達(dá)到這樣的熱性能，一種已知的方法在于增加^l艮層的厚度。通過進(jìn)行這樣的改變，同時體系的其它方面保持不變，已知反射顏色的中性喪失了。改變后的窗玻璃呈紫色反射。為了在層體系構(gòu)成的干涉體系中恢復(fù)一定的中性，已知需要同時增加位于銀下方的層相應(yīng)的光路。這一步驟并非不影響其他性能，特別是透光性或霧狀物的形成。為了在良好的透光性和良好的中性之間獲得最佳的折中方案，同樣已知的是，在銀下面使用高折射率的層以限制這些電介質(zhì)層厚度的增加和由此產(chǎn)生的缺點。在符合這些條件的層中，氧化鈦除了具有較低的成本外，還具有良好的透光性和高的化學(xué)穩(wěn)定性的優(yōu)點。為此，氧化鈦層的使用可具有優(yōu)勢。這一點對于在形成層之后不經(jīng)過熱處理的窗玻璃確實如此。因此，對于這些窗玻璃，體系中經(jīng)常具有或厚或薄的氧化鈥層。從測試中發(fā)明者發(fā)現(xiàn)，在位于銀層之下的層中引入鈦層導(dǎo)致在窗玻璃經(jīng)受彎曲/淬火類型的熱處理之后該層性能的退化。即使在銀層不與鈦層接觸的情況下也會觀察到這種退化。盡管發(fā)明者對機理的研究還沒有完成，但是看來這種變化與最初沉積的層體系的結(jié)構(gòu)的紊亂有關(guān)。熱處理將會在^L層及與之接觸的層的界面處產(chǎn)生擾動?？僧a(chǎn)生于相鄰層的這種改變，也能夠間接地由那些不直接與4艮接觸的層產(chǎn)生。例如，第一種情況是其上沉積銀的層具有不規(guī)則界面，就像由非常明顯的柱狀結(jié)構(gòu)所產(chǎn)生的那樣。這種類型的結(jié)構(gòu)可以例如在過度厚的氧化鋅層中找到，然而相反地，如上所述，薄層對具有良好性能的銀層的生長非常有利。由于某種還沒有充分分析的原因，似乎在干涉體系中必須具有一定的厚度以便起到抗反射層作用的氧化鈦層的存在，導(dǎo)致在經(jīng)受彎曲/淬火類型的熱處理時該系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)的重新排列。已知氧化鈥才艮據(jù)形成層的條件而具有各種結(jié)構(gòu)。在影響該層的結(jié)構(gòu)的條件中，已經(jīng)確認(rèn)了各種因素。實施濺射的氣氛的類型，特別是該氣氛的氧濃度起作用。沉積速度是另一個以前公認(rèn)的因素。在所有的情況下，對層的性質(zhì)的研究表明，氧化鈦或者是無定型的，或者是金紅石形態(tài)，或者是銳鈥礦形態(tài)，乃至大多數(shù)情況是上述不同形態(tài)的混合態(tài)。同樣已知的是，層所放置的條件能夠?qū)е缕浣Y(jié)構(gòu)的逐步改變。發(fā)明者發(fā)現(xiàn)經(jīng)過熱處理的氧化鈦層的結(jié)構(gòu)發(fā)生改變，這種改變似乎是直接或間接位于其上的層的性能改變的原因。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的一個目的在于在包含至少一層基于氧化鈦的層的體系中，提出可以使該層的結(jié)構(gòu)在經(jīng)受彎曲/淬火類型的熱處理時基本保持不變的手段。本發(fā)明的另一目的在于提出包含至少一層基于4艮的層的層體系，在該基于銀的層之下存在基于氧化鈦或氮氧化鈥的層，所述基于氧化鈦或氮氧化鈦的層具有即使在經(jīng)受上述處理后也基本保持其結(jié)構(gòu)不變的性能。本發(fā)明的再一目的在于提出包含一組層的窗玻璃，其中包括至少一層選擇性地反射紅外線的銀層和位于銀層上方和下方的防反射電介質(zhì)層，其中位于銀下方的至少一層為具有即使在經(jīng)受上述熱處理后也基本保持其結(jié)構(gòu)不變的性能的基于氧化鈦的層。玻璃。發(fā)明者已表明，這些目的能夠至少部分地通過形成基于TiM0x或TiM0xNy型的氧化鈦或氮氧化鈦的層而實現(xiàn)，其中M是一種或多種金屬或硅，這些金屬或硅的加入量使得它們改變該層的結(jié)構(gòu)，以便使其對彎曲/淬火類型的熱處理基本無反應(yīng)。從熱處理引起的晶體結(jié)構(gòu)的變化引起這些改變這一發(fā)現(xiàn)出發(fā)，發(fā)明者把這些改變和位于基于氧化鈦的層之上的銀層的性能變化聯(lián)系在一起。有利地，發(fā)明者還提出根據(jù)其對所述層的期望性能的各自貢獻(xiàn)來對包含在基于氧化鈦或氮氧化鈥的層的成分中的金屬或硅進(jìn)行選擇。特別地，依據(jù)本發(fā)明，使用這樣的金屬是有利的該金屬的氧化物或氮氧化物同時具有良好的可見光透明度和相對高的折射率。除了硅，對于在基于氧化鈦的層中與鈦結(jié)合的金屬，根據(jù)本發(fā)明有利地4吏用選自Zr、Ta、Nb、V、Nd、Ce、Hf、W、Mo、La、Al、Y的一種或多由于優(yōu)選的金屬是那些氧化物具有最高折射率的金屬，因此最有利地使用單獨或混合的Zr、Ta、Nb,特別是Zr。附加的金屬的選擇優(yōu)選使TiM0x氧化物或TiM0xNy氮氧化物具有高于2.2，有利地高于2.3的折射率?；谘趸伝虻趸伒膶又械慕饘倩蚬栌欣赜蓪?yīng)于期望組成的陶資靼或硅靶或金屬靶引入，以便獲得的沉積物實際上對應(yīng)于金屬氧化物或硅的密切混合物，該混合物阻止大尺寸的規(guī)則晶體結(jié)構(gòu)的形成。沉積，特別是對氧化物而言，優(yōu)選在氧化性氣氛中進(jìn)行。對陶瓷靶而言，氣氛可以是中性的，特別是氬氣氣氛，或輕微氧化性的。對金屬或硅粑而言，氣氛是氧化性的。氮氧化物在含有氮氣的氣氛中沉積。眾所周知，相比于氮氣，鈦更容易與氧氣發(fā)生反應(yīng)。為形成這些氮氧化物，沉積氣氛中的氮氣的比例比較高。作為例子，如果沉積是在同時包含氧氣和氮氣的氣氛中用金屬陰極進(jìn)行，則&/02的比率將有利地高于2以便使氮氧化物中含有可觀數(shù)量的氮。上述比例可達(dá)到3或4以便在氮氧化物中獲得大于10%的含氮量。氮氧化鈦中的氮的存在，就像附加的金屬或硅一樣，往往使熱處理過程中氧化鈦的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變更困難。然而，氮氧化鈦中的氮能導(dǎo)致該層的消光系數(shù)增加，也就是說能導(dǎo)致透光性稍稍減小并促進(jìn)霧狀物的出現(xiàn)。由于上述原因，氮的存在應(yīng)該被恰當(dāng)?shù)乜刂埔詢?yōu)化性能。通常，在改性的氮氧化鈦中存在的氮以&/02比率表示通常不超過30%，優(yōu)選小于25%，特別優(yōu)選小于20%。附加的金屬或硅的含量越高，氧化鈥結(jié)構(gòu)中的"無序"也越確定，因此氧化鈥越不會形成可在彎曲/淬火類型的熱處理的作用下變化的網(wǎng)絡(luò)。相反，高比例的附加的金屬或硅的使用往往降低組件的折射率，因為氧化鈥具有最高的折射率。為了獲得顯著的穩(wěn)定效果，附加的金屬或硅的含量至少為混合物中Ti的10原子％。優(yōu)選高于15%，特別優(yōu)選高于20%。為了盡可能地保持層的氧化鈥基材的性能，附加的金屬或硅的原子比例優(yōu)選最多60%，優(yōu)選不超過50%。為了這些光路上的顯著的改變，TiMOx或TiMOxNy層的厚度有利地至少等于6nm，優(yōu)選至少等于8腿，特別優(yōu)選至少等于10nm。除了依據(jù)本發(fā)明使用的TiMOx或TiMOxNy層以外，為了利于能夠?qū)е赂玫男阅?、特別是導(dǎo)電性或低發(fā)射率的銀層的形成，根據(jù)本發(fā)明，在基于銀的層之下并與銀層接觸地沉積有限厚度的基于氧化鋅的層是有利的?；谘趸\的層有利于基于銀的層的生長，因為其厚度保持使其不發(fā)育成柱狀形態(tài)?；谘趸\的層可以包含少量"摻雜"元素。這些元素尤其為A1、Sn或Mg。它們的原子百分比有利地少于15%,優(yōu)選少于10%。特別優(yōu)選的層由包含3%到6%的Sn的氧化鋅構(gòu)成。基于氧化鋅的層的厚度有利地小于10nm，優(yōu)選小于8nm。通常，基于銀的層被阻擋層或犧牲層有利地保護(hù)著。該層的作用主要是防止基于銀的層在重疊于這些基于銀的層之上的電介質(zhì)層的形成過程中發(fā)生退化。為此，阻擋層由能在可使銀退化的氣氛中發(fā)生反應(yīng)的金屬形成。最常用的阻擋層通常是可以起到這種保護(hù)作用且不明顯降低組件的光學(xué)性能的那些。使用非常薄的金屬層以免降低透光性。此外，這些層優(yōu)選在這樣的條件下使用該條件使得在形成的組件中它們盡可能轉(zhuǎn)變?yōu)橥该麟娊橘|(zhì)，該轉(zhuǎn)變特別發(fā)生在位于這些阻擋層以上的層的反應(yīng)性沉積過程中。形成這些阻擋層的優(yōu)選金屬和合金尤其為Ti、Zn、Sn、Zr、Cr和NiCr。優(yōu)選的組分為Ti和合金NiCr。對后者而言，合金以大約80/20的比例形成。優(yōu)選基于鈥的阻擋層因為一旦被氧化，它們呈現(xiàn)非常低的光吸收?；贜iCr的阻擋層具有氧化程度能被相對精確地控制的優(yōu)點。這些至少部分氧化的阻擋層為TiOw(其中，w<2)型或NiCrOv型。由于其各自的優(yōu)點，Ti阻擋層和NiCr合金阻擋層的組合也特別有利。優(yōu)選的選擇因此是與基于銀的層相接觸地沉積NiCr阻擋層，并在其上疊加Ti阻擋層。在所有的情況中，阻擋層都優(yōu)選非常薄。它們一共有利地小于10nm，優(yōu)選小于8nm。分別地，各阻擋層的厚度都不超過6nm。形成干涉濾波器以便尤其控制透光性和顏色中性(特別M射的顏色中性)的層的組件的組成，任選地包括位于TiM0x或TiM0xNy層下方或上方或者上方和下方的附加電介質(zhì)層。在優(yōu)選的附加電介質(zhì)層中，尤其包括至少一層氧化鋅層或Zn/Sn、Zn/Al、Zn/Mg的原子比在30%至70%之間的鋅和錫、鋁或鎂的氧化物的混合物層。這些附加層的厚度特別通過TiM0x或TiM0xNy層的厚度進(jìn)行控制，以建立具有滿意值的光路，以便構(gòu)成與所選銀層的厚度相應(yīng)的干涉濾波器。依據(jù)本發(fā)明的層的組件由于其經(jīng)受熱處理后能夠得到的4艮層質(zhì)量而值得注意。對于一個給定的發(fā)射率，該質(zhì)量通過達(dá)到這一發(fā)射率所需的銀的量來表示。該量越小，銀層越好。單獨就基于銀的層而言，依據(jù)本發(fā)明的窗玻璃的含量有利地在80到160mg/m2之間，優(yōu)選在100到140mg/m2之間。依據(jù)本發(fā)明的窗玻璃有利為在不低于650。C的溫度下熱處理至少3分鐘之后，銀層質(zhì)量使得以mg/i^表示的單位面積的銀質(zhì)量與標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率的乘積(Qxs)小于5，優(yōu)選小于4.8，特別優(yōu)選小于4.6。10下面通過引用附圖對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明，其中圖l表示依據(jù)本發(fā)明的包括一組層的窗玻璃，其中一層反射紅外線；圖2表示依據(jù)本發(fā)明的包括另一組層的窗玻璃，其中一層反射紅外線;圖3表示依據(jù)本發(fā)明的包括一組層的窗玻璃，其中兩層反射紅外線。具體實施例方式圖1表示具有一個層體系的玻璃板1的剖面示意圖，其中包括反射紅外線的基于銀的層4。該基于銀的層在必要時可以用有利于其晶體結(jié)構(gòu)或其耐用性的金屬進(jìn)行"摻雜"。已知這樣的金屬為例如鈀、鉑、鎳和硅。在銀的兩側(cè)，電介質(zhì)層構(gòu)成干涉濾波器并在組件形成過程及隨后窗玻璃的使用壽命中對銀進(jìn)行保護(hù)。依據(jù)本發(fā)明，至少一層電介質(zhì)層2由鈦和另一種金屬或硅形成的Ti0x或Ti0xNy型混合氧化物或混合氮氧化物構(gòu)成。在組件經(jīng)受劇烈的熱處理之時，與基于Ti02的常規(guī)類似層的表現(xiàn)相反，位于銀下方的層4應(yīng)該基本保持其結(jié)構(gòu)。把必要時包含摻雜金屬如Zn、Al或Mg的相對薄的基于氧化鋅的層3有利地與基于銀的層直接接觸地進(jìn)行沉積。該層有利于基于銀的層的結(jié)構(gòu)的生長。由于層3相對于與基于銀的層一起產(chǎn)生基本濾波特性的電介質(zhì)層2或6更薄，在發(fā)生變化時，特別在熱處理過程中，與基于銀的層相對的層3并不掩蔽(masquer)下面層的結(jié)構(gòu)調(diào)整。為了使基于銀的層不被改變，根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)，必須使層2自身結(jié)構(gòu)不發(fā)生顯著改變。在銀以上通常具有薄的阻擋層5，它防止在隨后沉積的層的沉積過程中銀的氧化。在圖示的情況中，最外面的電介質(zhì)層為完成干涉濾波器的厚層6。圖2顯示的結(jié)構(gòu)與上面的類似。類似的層給出了與圖1一致的編號。除了之前描述的層，該結(jié)構(gòu)還包括表面層7和與玻璃板1接觸的第二電介質(zhì)層8。由于電介質(zhì)6的主要特征是參與干涉濾波器的構(gòu)成，因此這些電介質(zhì)的選擇依賴于其光學(xué)性能折射率、透明度等。這些電介質(zhì)不全具有確保在窗玻璃應(yīng)用中的層組件具有良好抗性的機械性能。特別地，這些層并不總能充分抵抗在存儲或運輸過程中可能發(fā)生的劃損。因為上述原因，已知通過在表面沉積具有高抗性且對光學(xué)性能貢獻(xiàn)極小的層來保護(hù)層組件。優(yōu)選的層為例如氧化鈦層。這些層的厚度限于用于提供期望的機械抗性。電介質(zhì)層8參與組件的光學(xué)性能的形成。它一般,。該層也參與保護(hù)組件以對抗來自玻璃板l的離子遷移，該遷移受到熱處理的促進(jìn)。用于該用途的常規(guī)層特別為鋅和錫的混合氧化物層。該混合氧化物具有相對易于生產(chǎn)的優(yōu)點，并且除了具有良好的光學(xué)性能以外，還具有不形成柱狀結(jié)構(gòu)(該結(jié)構(gòu)是例如厚層氧化鋅的特征)的均勻結(jié)構(gòu)。層的順序并非必須如所示那樣，即厚層8的折射率比基于TiOMx或TiOMxNy的層2的低。層的順序可以反過來，例如讓層2與玻璃接觸并由層8覆蓋。附加層也可以包括在組件中。例如，基于圖2所示的結(jié)構(gòu)，可以在層2和層3之間加入一層。該層例如與層8種類相同，但也可以不同。同樣地，層6的上方或下方也可以結(jié)合另外的電介質(zhì)層。阻擋層5可以是單一層或本身由多層組成。特別地，如上所述，它可以是一個首先包含NiCr氧化物層并包含氧化鈦層的組件。圖3示意性地表示出具有兩層基于銀的層4和4'的結(jié)構(gòu)。雙銀層的使用在現(xiàn)有技術(shù)中是眾所周知的。盡管因為需要沉積多層而導(dǎo)致的復(fù)雜性造成高成本，但是兩層銀層的存在使得能夠改善窗玻璃的發(fā)射率，同時也能夠更好地控制反射的顏色中性。同樣原因，也可以使用三層銀層。在此以上，考慮到相應(yīng)體系的復(fù)雜性，附加銀層的優(yōu)點一般較低。對于如上的附加層(2、3'，4、5'，)，圖3給出一個組件，該組件具有對具有適當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)從而特別是在傳導(dǎo)和發(fā)射率方面達(dá)到最佳品質(zhì)的銀層的形成有利的層(2'和3')，i保護(hù)基于銀的層(4')以避免其可能在將要疊加于其上的層的沉積過程中退化的一層或多層阻擋層(5')，和完成該濾波器的一層或多層電^h質(zhì)層(6')。如以上關(guān)于圖2的說明，具有基本光學(xué)功能的層的順序可以改變，所用層的數(shù)量也一樣可以。作為本發(fā)明的實施例，對有或沒有TiOMx或TiOMxNy氧化物或氮氧化物層的層體系的發(fā)射率和反射中性都進(jìn)行了比較。對比實施例下列體系用作對比的基準(zhǔn)，從玻璃開始ZnSnO(50/50)/ZnSnO(90/10)/Ag/Ti0w/ZnSn0(90/10)/ZnSnO(50/50)/Ti0228080120508023560層的厚度單位對電介質(zhì)用埃，對銀用mg/i^表示。對于電解質(zhì)，在氧化性氣氛中由金屬粑進(jìn)行沉積，對于銀層和TiOw阻擋層，在中性氣氛(氬氣)中進(jìn)行。通過將第一層ZnSnO(50/50)減少至180埃，并且在該層上用由氧化鈦制成的陶瓷靶在輕微氧化氣氛中沉積100埃的一層，來進(jìn)行類似的一組層的沉積。最終，該體系的結(jié)構(gòu)為ZnSnO(50/50)/Ti02/ZnSnO(90/10)/Ag/TiOw八"1801008012050將上述體系在預(yù)熱爐中在空氣氣氛中在650'C下熱處理3分鐘。用CIE-LAB系統(tǒng)測量的反射著色、霧狀物(haze)和標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率表示在下表中<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>上述結(jié)果表明，在銀下面引入Ti02層導(dǎo)致該層的發(fā)射率(并因此也導(dǎo)致其導(dǎo)電性)的顯著變化。這一變化是由Ti02層在經(jīng)受熱處理時的晶體性質(zhì)的改變引起的。實施例1:通過將100埃的Ti02層替換為相同厚度的由鈦和鋯的混合氧化物組成的層，根據(jù)本發(fā)明進(jìn)行類似的試驗。該層的沉積由50重量％的TiO、46重量％的ZrO和4重量％的Y0的組成的陶瓷羊巴在輕微氧化性氣氛中進(jìn)行。因而體系的結(jié)構(gòu)為:180100801205080測試的結(jié)果在下表中給出<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>與上一實施例相反，在這種條件下的銀的質(zhì)量(Qxs=4.56)沒有因高折射率的TiZrYO層的引入而改變，并且發(fā)射率仍然非常低，盡管只有較少量的銀。實施例2:通過替換用于鈦和鋯的混合氧化物的沉積的靶，進(jìn)行類似的試驗。鋯的比例降到25重量％，由鈦的比例補償減少的部分。相同測試條件下的結(jié)果列于下表中<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>通過較上一實施例更低比例的改進(jìn)層，還發(fā)現(xiàn)該高折射率層并不大顯著改變經(jīng)過熱處理的窗玻璃的發(fā)射率。實施例3:進(jìn)行與實施例1類似的試驗，這次在氮氣氣氛中沉積基于鈦和鋯(50%)的層。通過使用陶瓷靶，在該條件下荻得的沉積物是氮氧化物，靶中的氧大部分進(jìn)入層的組分中。這一測試的結(jié)果如下發(fā)射率霧狀物a*b*TiZrYO(50%Zr)0.041242.451.8-7.3同上，發(fā)現(xiàn)Ti和Zr的混合氮氧化物層的引入很好地抵抗熱測試。銀層的質(zhì)量沒有明顯變化。實施例4:在這個測試中，同樣在氮氣氣氛中沉積基于混合氧化物的層。陶瓷靶由鈦和硅(8重量％)的混合物構(gòu)成。結(jié)果在下表中說明:發(fā)射率霧狀物a*b*TiSi0(8%Si)0.0413.542.541.38-8.3實施例5:按以上實施例進(jìn)行試驗，但這次使用IOO埃的鈦和鈮的混合氧化物層，其他層如上所示?；旌涎趸飳佑砂?0ff%Nb205的氧化鈥和NbA氧化物的陶瓷靶在輕微氧化性介質(zhì)中進(jìn)行沉積。結(jié)果在下表中給出:發(fā)射率霧狀物a*b*Ti腳0.0432.040.74-0.45-3.41和鈦和鋯的情形一樣，鈥和鈮的混合氧化物層在熱測試下非常穩(wěn)定。銀層保持良好的性能并且反射著色呈非常中性。實施例6:在同樣的鈦和鈮的混合氧化物但在銀之下沒有基于氧化鋅的層的情況下進(jìn)^f亍了兩個補充測試。第一個體系從玻璃開始由下列方式組成15250100120508023560第二個體系具有相同的組成，但鈥和鈮的混合氧化物層的厚度只有80埃而非100埃。結(jié)果在下表中說明Ti腦發(fā)射率霧狀物a*b*(a)0.0422.040.74-O.5-4.72(b)0.0412.041.22-O.49-6.16如上述結(jié)果所顯示，在所考慮的實施例中，銀下面的基于氧化鋅的層可以省略，在這種情況下熱處理不會明顯影響銀層的性能或反射顏色特征。權(quán)利要求1.通過真空沉積技術(shù)(濺射)涂布一組薄層的窗玻璃，該組薄層賦予其紅外線反射性能，同時保持可見光范圍的高透射率，其中層的性能，特別是紅外反射性能，在該窗玻璃經(jīng)過彎曲/淬火類型的熱處理時沒有明顯改變，并且該組薄層包含一層或多層基于銀的層和電介質(zhì)層，其中至少一層基于銀的層下面的至少一層電介質(zhì)層是基于TiMOx或TiMOxNy類型的氧化鈦或氮氧化鈦的層，其中M是一種或多種金屬或硅，該金屬或硅的原子比例足以防止在熱處理作用下之前沉積的基于氧化鈦的層的晶體結(jié)構(gòu)的顯著轉(zhuǎn)變。2.根據(jù)權(quán)利要求1的窗玻璃，其中基于氧化鈦或氮氧化鈦的層的組分中包含的金屬屬于由Zr、Nb、Hf、Ta、Nd、V、Ce、W、Mo、La、Y、Al組成的組。3.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，其中基于氧化鈦或氮氧化鈦的層中金屬或硅與鈦的原子比例M/Ti不小于10%，優(yōu)選大于15%，特別優(yōu)選大于20%。4.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，其中在基于氮氧化鈦的層中的&/02比不大于30%，優(yōu)選不大于25%，特別優(yōu)選不大于20%。5.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，其中基于氧化鈦或氮氧化鈦的層具有不小于6nm的厚度，優(yōu)選不小于8nm，特別優(yōu)選不小于10nm。6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，其中基于氧化鈦或氮氧化鈦的層的組分包含的金屬或硅的選擇及其比例使得所述層具有大于2.2，優(yōu)選大于2.3的折射率。7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，其中在至少一層基于銀的層之下并與其相接觸，具有厚度最多等于10nm、優(yōu)選最多等于8n邁的基于氧化鋅的層。8.根據(jù)權(quán)利要求7的窗玻璃，其中基于氧化鋅的層是ZnO、ZnA10z、ZnSn0z或ZnMg0z類型的層，其中Al/Zn、Sn/Zn或Mg/Zn的原子比例不高于15%,優(yōu)選不高于10%。9.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，其中至少一層基于銀的層被至少一層基于鈦TiOw的阻擋層或NiCrOv層或上述二者覆蓋，其中w<2。10.根據(jù)權(quán)利要求9的窗玻璃，其中Ti0w和/或NiCrOv層總共具有不大于10nm且優(yōu)選不大于8nm的厚度，并且上述層各自具有不大于6nm的厚度。11.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，包含量為80到160mg/W且優(yōu)選100到140mg/m'的單一的基于銀的層。12.根據(jù)權(quán)利要求11的窗玻璃，其中經(jīng)受高于650。C且至少持續(xù)3分鐘的熱處理之后，基于銀的一個或多個層的質(zhì)量使得Qxs<5.0,優(yōu)選Qxs<4.8，特別優(yōu)選Qxs<4.6,其中Q以mg/ii^為單位，s是標(biāo)準(zhǔn)發(fā)射率。13.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的窗玻璃，包含如下的一組層玻璃/TiMOx或TiMOxNy/ZnO或ZnA10z或ZnSnOz或ZnMgOz/Ag/阻擋層/電介質(zhì)II。14.根據(jù)權(quán)利要求13的窗玻璃，另外包含一層或多層電介質(zhì)層，該電介質(zhì)層位于玻璃和TiMOx或TiMOxNy層之間或/和在該層之上，在ZnO或ZnA10z或ZnSnOz或ZnMgOz層之下。15.根據(jù)權(quán)利要求14的窗玻璃，對應(yīng)于下列結(jié)構(gòu)之一銀/阻擋層/電介質(zhì)II,-、，^^銀/阻擋層/電介質(zhì)^n，,^-玻璃/電介質(zhì)/TiMOx或TiMOxNy/電介質(zhì)/ZnO或ZnA10z或ZnSnOz或ZnMgOz/銀/阻擋層/電介質(zhì)II，其中最后一種結(jié)構(gòu)的附加電介質(zhì)層是相同或不同的。16.根據(jù)權(quán)利要求15的窗玻璃，其中在附加電介質(zhì)層中存在至少一層基于鋅和錫的混合氧化物的層，其Zn/Sn的重量比在30%到70%之間。17.根據(jù)權(quán)利要求1到IO之一的窗玻璃，包含至少兩層基于銀的層，在這些層的每個之下具有至少一組如下的層T扁x或TiMOxNy/ZnO或ZnA10z或ZnSnOz或ZnMgOz。18.根據(jù)權(quán)利要求16的窗玻璃，其中除了TiMOx或TiMOxNy層，該TiMOx或TiMOxNy層之上和/或之下有一層或多層附加電介質(zhì)層。全文摘要本發(fā)明涉及通過真空沉積涂布一組薄層的窗玻璃，所述窗玻璃具備紅外線反射性能同時保持可見光范圍的高透射率，并且經(jīng)受彎曲/淬火類型的熱處理時仍保持其性能。所述的窗玻璃由一層或多層基于銀的層和電介質(zhì)層組成，其中在至少一層基于銀的層下面的至少一層電介質(zhì)層是TiMOx或TiMOxNy類型的氧化鈦或氮氧化鈦層，其中M是一種或多種金屬或硅，該金屬或硅的原子比例足以防止在熱處理作用下之前沉積的基于氧化鈦的層的顯著的晶體結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。文檔編號C03C17/36GK101675011SQ200880014802公開日2010年3月17日申請日期2008年3月17日優(yōu)先權(quán)日2007年3月19日發(fā)明者G·迪斯提法諾,J-M·德珀奧申請人:旭硝子歐洲平板玻璃股份有限公司