專利名稱：鍍膜光學元件的制造方法
技術領域：
本發(fā)明是關于一種鍍膜光學元件的制造方法，特別是關于濾光片的制造方法。
背景技術：
鍍膜技術的應用廣泛，其可應用于電子(微電子、光電子等)、機械、光學、能源等工業(yè)方面。在光學工業(yè)中，光學鍍膜主要是運用物理或化學的方法在光學元器件表面制作單一或多層光學膜層，利用光學膜層對波長與膜厚相近的入射光所產生的干涉現(xiàn)象，而達到篩選特定頻譜的目的。鍍膜光學元件的應用已經深入到通信、激光、分析儀器等許多科技領域。
現(xiàn)有技術中，鍍膜光學元件的制造方法包括以下步驟提供一玻璃基板100并對其進行清洗，如圖1所示；在玻璃基板100上鍍光學膜層102，得到鍍膜片104，如圖2所示；切割及后續(xù)加工，得到鍍膜光學元件106，如圖3所示；清洗鍍膜光學元件106。然而，在光學鍍膜中，如果玻璃基板100厚度較薄，而光學膜層102厚度較厚時，往往所鍍出的鍍膜片104存在著較大的應力，鍍膜片104的彎曲度也較大。當鍍膜片104彎曲度較大時，切割就容易造成鍍膜光學元件106崩角或破裂，形成崩角的鍍膜光學元件106，如圖4所示，從而降低鍍膜光學元件106的成品率。

發(fā)明內容有鑒于此，有必要提供一種鍍膜光學元件的制造方法，該方法可以降低整片鍍膜片的彎曲度。
一種鍍膜光學元件的制造方法，其包括下列步驟提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成淺槽；在玻璃基板具有淺槽的一面上鍍光學膜層；沿著淺槽對玻璃基板進行裂片，得到鍍膜光學元件。
所述鍍膜光學元件的制造方法是先在玻璃基板上形成淺槽，再鍍膜。玻璃基板上的淺槽可減少應力，從而降低整片鍍膜片的彎曲度。而且，在鍍膜后只需要沿著淺槽進行裂片，不必像現(xiàn)有技術中要進行切割，從而可以減少崩角或破裂的情況，進而提高成品率。

圖1為現(xiàn)有技術中玻璃基板的側視圖。
圖2為現(xiàn)有技術中鍍膜片的側視圖。
圖3為現(xiàn)有技術中多個鍍膜光學元件的側視圖。
圖4為現(xiàn)有技術中崩角的單個鍍膜光學元件的俯視圖。
圖5至圖9為本發(fā)明實施例紅外截止濾光片制造方法示意圖。
具體實施方式下面將以紅外截止濾光片的制造為例，結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。
請一起參閱圖5至圖9，本發(fā)明實施例紅外截止濾光片的制造方法包括下列步驟步驟一提供一玻璃基板200，如圖5所示。
作為可選的步驟，本步驟之后可進一步包括一清洗步驟。常用的清洗方法為紫外線(Ultraviolet，UV)清洗，又稱為干式清洗，是利用紫外線將空氣中的氧分子轉變成為臭氧分子，臭氧分子將玻璃基板上殘留的有機物質反應并分解。紫外線清洗大約可以清除厚度為100埃的有機物質。此外，還可以進行濕式清洗，其是加入水、或去離子水等洗劑進行清洗。在此步驟中，還可以將清洗后的玻璃基板200進行烘烤，以便去除玻璃基板200上殘留的水份，從而增加玻璃基板200的附著力。
步驟二在玻璃基板200上形成淺槽202。圖6及圖7分別為具有淺槽202的玻璃基板200的側視圖及俯視圖。淺槽202可用切割機(圖未示)進行切割形成。淺槽202深度為玻璃基板200厚度的1/10至1/5。淺槽202的方向及間隔依紅外截止濾光片208(圖9)的形狀及尺寸而定。在本實施例中，淺槽202皆與玻璃基板200的一邊平行，淺槽202的間隔與紅外截止濾光片208的寬度一致。
作為可選的步驟，本步驟之后可進一步包括一濕式清洗步驟，加入水等洗劑進行清洗，除去因切割而產生的碎屑。在此步驟中，還可以將清洗過后的玻璃基板200進行烘烤，以便去除玻璃基板200上殘留的水份，從而增加玻璃基板200的附著力。
步驟三在玻璃基板200上鍍光學膜層204，如圖8所示。
將具有淺槽202的玻璃基板200放入真空鍍膜機(圖未示)中，鍍上光學膜層204，光學膜層204對應于淺槽202的地方形成凹槽205，得到鍍膜片206。當然，凹槽205的深度將會隨光學膜層204的厚度及鍍膜的均勻度而會有所不同。其中，光學膜層204可通過真空蒸鍍或真空濺鍍的方法獲得。玻璃基板200上的淺槽202可減少應力，從而降低整片鍍膜片206的彎曲度。
步驟四使用裂片裝置(圖未示)，沿著淺槽202對玻璃基板200進行裂片，得到多個紅外截止濾光片208，如圖9所示。
作為可選的步驟，本步驟之后可進一步包括一清洗步驟，加入水等洗劑進行清洗，對紅外截止濾光片208進行清洗。在清洗步驟之后，還可以將清洗過后的紅外截止濾光片208進行烘烤，以便去除紅外截止濾光片208上殘留的水份。
本發(fā)明是先在玻璃基板上形成淺槽，再鍍膜。玻璃基板上的淺槽可減少應力，從而降低整片鍍膜片的彎曲度。而且，在鍍膜后只需要沿著淺槽對玻璃基板進行裂片，不必像現(xiàn)有技術中要進行切割，從而可以減少崩角或破裂的情況，進而提高成品率。
可以理解地，本發(fā)明鍍膜光學元件的制造方法不僅限于紅外截止濾光片，亦可適用于其它各種鍍膜光學元件。
另外，本領域技術人員還可以在本發(fā)明精神內做其它變化，當然，這些依據(jù)本發(fā)明精神所做的變化，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍內。
權利要求
1.一種鍍膜光學元件的制造方法，其包括下列步驟提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成淺槽；在玻璃基板具有淺槽的一面上鍍光學膜層；沿著淺槽對玻璃基板進行裂片，得到鍍膜光學元件。
2.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述提供玻璃基板步驟之后進一步包括一清洗玻璃基板的步驟。
3.如權利要求2所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述清洗步驟之后進一步包括一烘烤玻璃基板的步驟。
4.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述淺槽的深度為所述玻璃基板厚度的1/10至1/5。
5.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述淺槽是通過切割機切割形成。
6.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述淺槽皆與玻璃基板的一邊平行。
7.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述鍍膜步驟采用真空蒸鍍或真空濺鍍的方法。
8.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述裂片步驟通過裂片裝置實現(xiàn)。
9.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述裂片步驟之后進一步包括一清洗步驟。
10.如權利要求1所述的鍍膜光學元件的制造方法，其中，所述鍍膜光學元件為紅外截止濾光片或窄帶低通濾光片。
全文摘要
一種鍍膜光學元件的制造方法，其包括下列步驟提供一玻璃基板；在玻璃基板上形成淺槽；在玻璃基板具有淺槽的一面上鍍光學膜層；沿著淺槽對玻璃基板進行裂片，得到鍍膜光學元件。
文檔編號C03C17/00GK101042444SQ200610060009
公開日2007年9月26日 申請日期2006年3月22日 優(yōu)先權日2006年3月22日
發(fā)明者簡士哲 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司