專利名稱：梭式窯可控制還原氣氛燒制陶瓷方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及梭式窯可控制氣氛燒制陶瓷技術(shù)，具體是指梭式窯可控制還原氣氛燒制陶瓷方法。
背景技術(shù)：
梭式窯作為一種間歇性窯爐，具有占地少、一次性投資少、生產(chǎn)靈活等優(yōu)點(diǎn)，因而受到廣大的中小型陶瓷企業(yè)的青睞。在燒制陶瓷制品時(shí)，為了達(dá)到所需的產(chǎn)品質(zhì)量或外觀要求，往往需要在燒制產(chǎn)品的不同溫度階段控制窯爐內(nèi)具有不同的氣氛。窯內(nèi)的氣氛分為三種，即氧化氣氛、還原氣氛、中性氣氛。噴入窯爐內(nèi)的燃料在一定的溫度下與噴入窯內(nèi)的空氣發(fā)生氧化反應(yīng)，當(dāng)空氣過量時(shí)，此時(shí)煙氣內(nèi)還含有一定的游離氧，窯內(nèi)的氣氛為氧化氣氛；當(dāng)剛好燃燒完全時(shí)，窯內(nèi)的氣氛為中性氣氛；當(dāng)空氣量不足時(shí)，此時(shí)窯內(nèi)煙氣中還含有沒有完全燃燒的CO、H等成分，窯內(nèi)的氣氛為還原氣氛。在梭式窯的燒成過程當(dāng)中氣氛的控制對(duì)陶瓷生產(chǎn)質(zhì)量的影響很大，特別是燒制青瓷時(shí)，要求在升到一定溫度后、高溫保溫階段以及在高溫冷卻時(shí)保持有一定濃度的還原氣氛。但是對(duì)于梭式窯來說，操作上較容易在高溫保溫階段產(chǎn)生氧化，原因是高溫保溫階段一般噴入窯內(nèi)的燃料量不多，只要保證維持溫度不變即可，故無法保證足夠的還原氣氛，故即使在前期已經(jīng)還原了的瓷片，亦會(huì)因還原氣氛不足而進(jìn)行二次氧化。特別是在高溫冷卻時(shí)，由于要求降溫不能再噴入燃料，幾乎沒有什么手段可保證還原氣氛或近中性氣氛。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)和不足，提供在高溫保溫尤其是高溫冷卻時(shí)可以保證還原氣氛，陶瓷燒成效果好的梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法。
本發(fā)明的目的通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)本梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在梭式窯溫度為500～1400℃，保溫30～60分鐘時(shí)，將盛有1～2升水的敞口容器置于梭式窯下方的吸火口處，敞口容器的面積不小于吸火口的垂直投影面積。
所述的敞口容器可以為任何形狀，但必須保證可以盛放足夠的水，其上部敞口可以為矩形、圓形、橢圓形、菱形、三角形等；其上部敞口的面積要足夠大，以保證有足夠的蒸發(fā)面積提供足夠的水蒸汽；敞口容器的材質(zhì)可以是已知的任何材質(zhì)，只要是在窯爐底部并能接收窯內(nèi)火焰的高溫輻射不會(huì)發(fā)生軟化變形即可，如不銹鋼、鋁、陶瓷等；放置于窯爐下面的位置也可以不固定，但要使水蒸汽可以很順利的被吸入窯內(nèi)。
本發(fā)明的基本原理是在爐內(nèi)高溫輻射的作用下，水被輻射加熱而加速蒸發(fā)，熱的水蒸汽上升而由吸火口處負(fù)壓吸入窯內(nèi)，在窯內(nèi)的高溫下水可以分解成氫和氧，氫具有很強(qiáng)的還原能力；同時(shí)因?yàn)樗羝拿芏刃∮诳諝獾拿芏?，更容易在吸火口處上升進(jìn)入窯內(nèi)，迫使外面的空氣不易進(jìn)入窯內(nèi)，有利于保持窯內(nèi)的還原氣氛。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn)和有益效果可以很好的避免燒制陶瓷時(shí)的高溫氧化問題，大大提高青瓷產(chǎn)品的質(zhì)量，節(jié)約燃料、減少污染；并且具有成本低，易操作等優(yōu)點(diǎn)。


圖1是本發(fā)明所述敞口容器與梭式窯的位置關(guān)系示意圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)說明，但本發(fā)明的實(shí)施方式不限于此。
實(shí)施例一如圖1所示，在梭式窯中燒制青瓷坯體，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在500℃高溫保溫60分鐘時(shí)，在梭式窯1下方的吸火口3處放置盛有1.5升水的不銹鋼制圓形敞口容器2，敞口容器2的敞口面積可以完全覆蓋住吸火口3的垂直投影面積。
實(shí)施例二如圖1所示，在梭式窯中燒制青瓷坯體，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在1400℃高溫保溫30分鐘時(shí)，在梭式窯1下方的吸火口3處放置盛有2升水的鋁制矩形敞口容器2，敞口容器2的敞口面積可以完全覆蓋住吸火口3的垂直投影面積。
實(shí)施例三如圖1所示，在梭式窯中燒制青瓷坯體，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在1000℃高溫保溫45分鐘時(shí)，在梭式窯1下方的吸火口3處放置盛有1升水的陶瓷制橢圓形敞口容器2，敞口容器2的敞口面積可以完全覆蓋住吸火口3的垂直投影面積。
實(shí)施例四采用不銹鋼制菱形敞口容器2，其他同實(shí)施例一。
實(shí)施例五采用陶瓷制三角形敞口容器2，其他同實(shí)施例三。
實(shí)施例一～五所燒制出的青瓷產(chǎn)品外觀玲瓏剔透，顯得飽滿柔和淡雅，溫潤如玉；而按照普通方法，在梭式窯中相同的燒成溫度下，燒制相同配方的青瓷坯體，燒制出來的產(chǎn)品是帶黃色的。
如上所述，便可較好地實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。
權(quán)利要求
1.梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，其特征在于在梭式窯溫度為500～1400℃，保溫30～60分鐘時(shí)，將盛有1～2升水的敞口容器置于梭式窯下方的吸火口處，敞口容器的面積不小于吸火口的垂直投影面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，其特征在于所述敞口容器的上部敞口形狀包括矩形、圓形、橢圓形、菱形或三角形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，其特征在于所述敞口容器的材質(zhì)包括不銹鋼、鋁或陶瓷。
全文摘要
本發(fā)明提供梭式窯可控制還原氣氛燒成陶瓷方法，步驟包括升溫、干燥、燒成、保溫、冷卻、出窯，在梭式窯溫度為500～1400℃，保溫30～60分鐘時(shí)，將盛有水敞口容器置于梭式窯下方的吸火口處，敞口容器的面積不小于吸火口的垂直投影面積。本方法可以很好的避免燒制陶瓷時(shí)的高溫氧化問題，大大提高青瓷產(chǎn)品的質(zhì)量，節(jié)約燃料、減少污染；并且具有成本低，易操作等優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號(hào)C04B35/64GK1834063SQ200610034770
公開日2006年9月20日 申請(qǐng)日期2006年3月31日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月31日
發(fā)明者張海文, 曾令可, 羅民華, 王慧, 劉平安, 方海鑫, 程小蘇, 稅安澤 申請(qǐng)人:華南理工大學(xué)