專利名稱：一種強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝，特別涉及一種高硅強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝。
背景技術(shù)：
目前，市場上強(qiáng)化瓷主要是高鋁強(qiáng)化瓷，它存在著原料成本高，燒制溫度高(1400℃左右)，耗能大的缺點(diǎn)。高硅質(zhì)瓷雖有報(bào)道，但由于石英(二氧化硅)粒度難以控制，生產(chǎn)中易出現(xiàn)胎體強(qiáng)度不高或者熱穩(wěn)定性差，難以投入工業(yè)化生產(chǎn)的缺點(diǎn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝，特別是提供一種高硅強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝，克服了目前強(qiáng)化瓷原料成本高，燒制溫度高，耗能大；高硅質(zhì)瓷的石英粒度以控制，生產(chǎn)中易出現(xiàn)胎體強(qiáng)度不高或者熱穩(wěn)定性差，難以投入工業(yè)化生產(chǎn)的缺點(diǎn)。
本發(fā)明的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的一種強(qiáng)化瓷，包括以下重量份組分粘土35-50、8-20um的二氧化硅80-90、第二彌散相1-5、和/或第三彌散相1-5。
所述組分優(yōu)選為以下重量份組分粘土48、10-15um的二氧化硅85、第二彌散相3、和/或第三彌散相2。
所述第二彌散相選自α-Al2O3，所述第三彌散相選自超細(xì)ZrSiO4。
所述二氧化硅為12um的二氧化硅。
所述強(qiáng)化瓷的制備方法，包括以下生產(chǎn)工藝將石英在900-1000℃溫度下煅燒、加水碾磨、水簸過篩40目以上、30目以下，制成坯體中粒徑在8-20um的石英顆粒。
所述煅燒的溫度為920℃。
所述水碾為加水80％-90％碾磨。
所述水碾的水可循環(huán)使用，水碾的目的是將石英分為不同粒級的石英。
所述方法還包括以下步驟坯料制作工藝將配料加水分段球磨，過篩，榨泥機(jī)脫水，練泥機(jī)粗練，泥庫陳腐，精練，坯體滾壓成型；釉料制備工藝將釉用原料入球磨，過篩，除鐵，入釉漿池陳腐備用，制成釉料；坯體瓷化上釉，燒制，檢瓷，檢驗(yàn)，彩烤，檢驗(yàn)，即得。
所述坯料過篩為160目；所述除鐵高斯強(qiáng)度為2.2萬高斯強(qiáng)度；所述榨泥機(jī)脫水水份為小于24％；所述陳腐時間為7-15天；所述精練真空度大于或等于0.093MPa，所述燒制溫度為1250-1350℃，燒制時間為5-7小時。
所述釉用原料為石英，長石，粘土，滑石，鐘乳石，ZnO，BaCO3。
本發(fā)明產(chǎn)品內(nèi)在性能指標(biāo)(1)抗折強(qiáng)度可達(dá)到150Mpa以上，(2)熱穩(wěn)定性經(jīng)220-20℃水進(jìn)行一次熱交換不炸裂。
本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)1、通過本發(fā)明可使高硅強(qiáng)化瓷的內(nèi)在性能有顯著的改善，有效地解決了高硅質(zhì)強(qiáng)化瓷生產(chǎn)中存在的技術(shù)難題，是適合工業(yè)化生產(chǎn)的高硅強(qiáng)化瓷。
2、由于坯體中石英粒度控制在10-15um的石英占80-90％，并加入了第二、三彌散相，它不但使坯體達(dá)到最多晶細(xì)晶，而且有效的抑制石英顆粒的長大，減少應(yīng)力源，從而達(dá)到增強(qiáng)的目的。


圖1為本發(fā)明的工藝流程圖。
具體實(shí)施例方式
實(shí)施例1一種強(qiáng)化瓷，為以下重量(千克)組分粘土48、8um的二氧化硅85、第二彌散相3和第三彌散相2。
所述第二彌散相為α-Al2O3，所述第三彌散相為超細(xì)ZrSiO4。
所述強(qiáng)化瓷的制備方法，為以下生產(chǎn)工藝將石英煅燒、加水碾磨、水簸過篩200目，制成坯體中粒徑在8um的石英顆粒。
所述煅燒的溫度為920℃。
所述水碾為加水85％碾磨。
所述方法還為包括以下步驟坯料制作工藝將配料加水分段球磨，過篩，榨泥機(jī)脫水，練泥機(jī)粗練，泥庫陳腐，精練，坯體滾壓成型；釉料制備工藝將釉用原料入球磨，過篩，除鐵，入釉漿池陳腐備用，制成釉料；坯體瓷化上釉，燒制，檢瓷，檢驗(yàn)，彩烤，檢驗(yàn)，即得。
所述坯料過篩為200目；所述除鐵高斯強(qiáng)度為2.2萬高斯強(qiáng)度；所述榨泥機(jī)脫水水份為80％；所述陳腐時間為10天；所述精練真空度0.093MPa，所述燒制溫度為1350℃，燒制時間為4.5小時。
所述釉用原料為石英，長石，粘土，滑石，鐘乳石，ZnO，BaCO3。
本發(fā)明產(chǎn)品內(nèi)在性能指標(biāo)(1)抗折強(qiáng)度160MPa，(2)熱穩(wěn)定性經(jīng)220-20℃水進(jìn)行一次熱交換不炸裂。
實(shí)施例2一種強(qiáng)化瓷，為以下重量(千克)組分粘土35、15um的二氧化硅90、第二彌散相1、第三彌散相1。
所述第二彌散相為α-Al2O3，所述第三彌散相為超細(xì)ZrSiO4。
所述強(qiáng)化瓷的制備方法，為以下生產(chǎn)工藝將石英在1000℃溫度下煅燒、加水碾磨、水簸過篩100目，制成坯體中粒徑在15um的石英顆粒。
所述水碾為加水90％碾磨。
所述方法還為包括以下步驟坯料制作工藝將配料加水分段球磨，過篩，榨泥機(jī)脫水，練泥機(jī)粗練，泥庫陳腐，精練，坯體滾壓成型；釉料制備工藝將釉用原料入球磨，過篩，除鐵，入釉漿池陳腐備用，制成釉料；坯體瓷化上釉，燒制，檢瓷，檢驗(yàn)，彩烤，檢驗(yàn)，即得。
所述坯料過篩為100目；所述除鐵高斯強(qiáng)度為2.2萬高斯強(qiáng)度；所述榨泥機(jī)脫水水份為24％；所述陳腐時間為7天；所述精練真空度3MPa，所述燒制溫度為1250℃，燒制時間為3小時。
所述釉用原料為石英，長石，粘土，滑石，鐘乳石，ZnO，BaCO3。
本發(fā)明產(chǎn)品內(nèi)在性能指標(biāo)(1)抗折強(qiáng)度可達(dá)到150Mpa，(2)熱穩(wěn)定性經(jīng)220-20℃水進(jìn)行一次熱交換不炸裂。
實(shí)施例3一種強(qiáng)化瓷，為以下重量份組分粘土50、20um的二氧化硅85、第三彌散相5。
所述第三彌散相為超細(xì)ZrSiO4。
所述強(qiáng)化瓷的制備方法，為以下生產(chǎn)工藝將石英在1000℃溫度下煅燒、加水碾磨、水簸過篩30目，制成坯體中粒徑在20um的石英顆粒。
所述水碾為加水85％碾磨。
所述方法還有以下步驟坯料制作工藝將配料加水分段球磨，過篩，榨泥機(jī)脫水，練泥機(jī)粗練，泥庫陳腐，精練，坯體滾壓成型；釉料制備工藝將釉用原料入球磨，過篩，除鐵，入釉漿池陳腐備用，制成釉料；
坯體瓷化上釉，燒制，檢瓷，檢驗(yàn)，彩烤，檢驗(yàn)，即得。
所述坯料過篩為30目；所述除鐵高斯強(qiáng)度為2.2萬高斯強(qiáng)度；所述榨泥機(jī)脫水水份為10％；所述陳腐時間為15天；所述精練真空度0.093MPa，所述燒制溫度為1250℃，燒制時間為5小時。
所述釉用原料為石英，長石，粘土，滑石，鐘乳石，ZnO，BaCO3。
本發(fā)明產(chǎn)品內(nèi)在性能指標(biāo)(1)抗折強(qiáng)度可達(dá)到300Mpa，(2)熱穩(wěn)定性經(jīng)220-20℃水進(jìn)行一次熱交換不炸裂。
實(shí)施例4原料方法同實(shí)施例3，不同在于彌散相為第二彌散相5千克。
所述第二彌散相為α-Al2O3，
權(quán)利要求
1.一種強(qiáng)化瓷，包括以下重量份組分粘土35-50、8-20um的二氧化硅80-90、第二彌散相1-5、和/或第三彌散相1-5。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化瓷，所述組分為以下重量份組分粘土48、10-15um的二氧化硅85、第二彌散相3、和/或第三彌散相2。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的強(qiáng)化瓷，所述第二彌散相選自α-Al2O3，所述第三彌散相選自超細(xì)ZrSiO4。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的強(qiáng)化瓷，所述二氧化硅為12um的二氧化硅。
5.權(quán)利要求1-4的強(qiáng)化瓷的制備方法，包括以下生產(chǎn)工藝將石英在900-1000℃溫度下煅燒、加水碾磨、水簸過篩40目以上、30目以下，制成坯體中粒徑在8-20um的石英顆粒。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的強(qiáng)化瓷的制備方法，所述煅燒的溫度為920℃。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的強(qiáng)化瓷的制備方法，所述水碾為加水80％-90％碾磨。
8.根據(jù)權(quán)利要求5的強(qiáng)化瓷的制備方法，所述水碾的水可循環(huán)使用。
9.根據(jù)權(quán)利要求5的強(qiáng)化瓷的制備方法，所述方法還包括以下步驟坯料制作工藝將配料加水分段球磨，過篩，榨泥機(jī)脫水，練泥機(jī)粗練，泥庫陳腐，精練，坯體滾壓成型；釉料制備工藝將釉用原料入球磨，過篩，除鐵，入釉漿池陳腐備用，制成釉料；坯體瓷化上釉，燒制，檢瓷，檢驗(yàn)，彩烤，檢驗(yàn)， 即得。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9的強(qiáng)化瓷的制備方法，所述坯料過篩為160目；所述除鐵高斯強(qiáng)度為2.2萬高斯強(qiáng)度；所述榨泥機(jī)脫水水份為小于24％；所述陳腐時間為7-15天；所述精練真空度大于和等于0.093MPa，所述燒制溫度為1250-1350℃，燒制時間為5-7小時。所述釉用原料為石英，長石，粘土，滑石，鐘乳石，ZnO，BaCO3。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝，特別涉及一種高硅強(qiáng)化瓷及其生產(chǎn)工藝，包括以下重量份組分粘土35－50、8－20um的二氧化硅80－90、第二彌散相1－5、和/或第三彌散相1－5。制備方法，包括以下生產(chǎn)工藝將石英在900℃－1000℃溫度下煅燒、加水碾磨、水簸過篩40目以上、30目以下，制成坯體中粒徑在8－20um的石英顆粒。本發(fā)明強(qiáng)化瓷燒制溫度低，耗能??；高硅質(zhì)瓷的石英粒度易控制，胎體強(qiáng)度高且熱穩(wěn)定性好，可批量投入工業(yè)化生產(chǎn)的優(yōu)點(diǎn)。
文檔編號C04B33/00GK1548400SQ0313073
公開日2004年11月24日 申請日期2003年5月9日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月9日
發(fā)明者郭森鎮(zhèn), 劉賢紀(jì), 丁祿興 申請人:郭森鎮(zhèn)