一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型提供一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，該裝置包括依次放置的蝕刻槽、第一清洗槽、堿洗槽、第二清洗槽、酸洗槽及第三清洗槽；第一清洗槽的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀及第二水刀；該裝置還包括第一儲液槽及第二儲液槽，分別通過連接管道與第三清洗槽及第二水刀相連，當(dāng)?shù)谌逑床壑械囊后w達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至第二儲液槽，第二儲液槽為第二水刀供液；第一儲液槽通過連接管道分別與第一清洗槽及蝕刻槽相連，第一清洗槽為第一水刀供液，當(dāng)?shù)谝磺逑床壑械囊后w達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至第一儲液槽，第一儲液槽中的液體用于為蝕刻槽補(bǔ)水及配液。本實用新型可以有效減少含氮廢水的排放，降低太陽能電池片生產(chǎn)成本。
【專利說明】一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型屬于太陽能電池領(lǐng)域，涉及一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]常見的晶體硅太陽能電池是由背面電極、半導(dǎo)體材料構(gòu)成的？型層、~型層、
結(jié)、減反射薄膜、正面柵電極等部分組成。當(dāng)太陽光照射到太陽能電池表面時，減反射薄膜和絨面結(jié)構(gòu)可有效減少電池表面的光反射損失。太陽能電池中的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)吸收太陽能后。激發(fā)產(chǎn)生電子、空穴對，電子、空穴對被半導(dǎo)體內(nèi)部？4結(jié)自建電場分開，電子流進(jìn)入~區(qū)，空穴流入？區(qū)，形成光生電場，如果將晶體硅太能電池的正、負(fù)極與外部電路連接，外部電路中就有光生電流通過。
[0003]太陽能電池的制作過程包括制絨、擴(kuò)散、刻蝕、鍍膜、絲網(wǎng)印刷和IV效率分選。圖1顯示為現(xiàn)有技術(shù)的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，在太陽能電池片的濕法制絨和刻蝕中，沿硅片行走方向箭頭所示，硅片依次會通過蝕刻槽101、第一清洗槽102、堿洗槽103、第二清洗槽104、酸洗槽105及第三清洗槽106。其中蝕刻槽101所用溶液為硝酸和氫氟酸，它的作用是去除硅片表面的機(jī)械損傷層并形成絨面。第一清洗槽102在利用第一水刀107及第二水刀108對硅片進(jìn)行清洗時會使其含氮，這個過程會產(chǎn)生大量含氮廢水。而酸洗槽105由氫氟酸和鹽酸組成，它的作用是去除硅片表面二氧化硅和金屬離子。第三清洗槽106在對硅片進(jìn)行清洗時不會含氮。如果含氮廢水沒有得到好的處理，就會污染水資源。由于含氮廢水的處理成本相對較高，會提高了電池片的生產(chǎn)成本?，F(xiàn)有濕法蝕刻設(shè)備(即嫩)中，外部去離子水先補(bǔ)充至第三清洗槽106，第三清洗槽106超過預(yù)定液位全部流至第一清洗槽102后進(jìn)行排放，產(chǎn)生的含氮廢水較多。
[0004]因此，提供一種新的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，以減少含氮廢水產(chǎn)生，降低生產(chǎn)成本，成為本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的一個重要問題。
實用新型內(nèi)容
[0005]鑒于以上所述現(xiàn)有技術(shù)的缺點，本實用新型的目的在于提供一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置產(chǎn)生大量含氮廢水，使得處理成本相對較高，提高了太陽能電池片的生產(chǎn)成本的問題。
[0006]為實現(xiàn)上述目的及其他相關(guān)目的，本實用新型提供一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，包括依次放置的蝕刻槽、第一清洗槽、堿洗槽、第二清洗槽、酸洗槽及第三清洗槽；所述第一清洗槽的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀及第二水刀；其中:
[0007]所述濕法蝕刻裝置還包括第一儲液槽及第二儲液槽；
[0008]所述第二儲液槽分別通過連接管道與所述第三清洗槽及所述第二水刀相連，當(dāng)所述第三清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第二儲液槽，所述第二儲液槽為所述第二水刀供液；
[0009]所述第一儲液槽通過連接管道分別與所述第一清洗槽及所述蝕刻槽相連，所述第一清洗槽為所述第一水刀供液，當(dāng)所述第一清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第一儲液槽，所述第一儲液槽中的液體用于為所述蝕刻槽補(bǔ)水，并用于所述蝕刻槽的蝕刻液配液。
[0010]可選地，所述第二儲液槽包括一排放口，當(dāng)所述第二儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體直接排走。
[0011〕 可選地，所述第一儲液槽包括一排放口，當(dāng)所述第一儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體直接排走。
[0012]可選地，所述第一儲液槽與所述蝕刻槽之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥。
[0013]可選地，所述第二儲液槽與所述第二水刀之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥。
[0014]可選地，所述第三清洗槽中的液體為去離子水。
[0015]可選地，所述蝕刻槽中的蝕刻液為硝酸及氫氟酸的混合液；所述酸洗槽中的酸洗液為氫氟酸及鹽酸的混合液。
[0016]如上所述，本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，具有以下有益效果:本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置在原始槽體結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，對第一清洗槽和第三清洗槽的連接管道及第一清洗槽的排放部分進(jìn)行改進(jìn)，減少第一清洗槽含氮廢水的產(chǎn)生，并對第一清洗槽的廢水進(jìn)行再次利用。在利用本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置進(jìn)行濕法蝕刻時，第三清洗槽的水先排放至第二儲液槽進(jìn)行存放，進(jìn)入第二儲液槽的水超過第二儲液槽預(yù)定量直接排走，這部分廢水不含氮。由于第一清洗槽上方設(shè)有兩個水刀清洗硅片，其中第二儲液槽連至第二水刀，第一水刀使用第一清洗槽內(nèi)的水。第一清洗槽噴出的水內(nèi)含氮，對硅片清洗效果不是很好，而第二水刀是利用第三清洗槽提供的不含氮水清洗，這樣整體清洗效果更佳，并且減少了第三清洗槽流入第一清洗槽的水量，減少含氮廢水產(chǎn)生。而第一清洗槽超過預(yù)定液位排放的廢水再排至第一儲液槽收集起來，可供蝕刻槽補(bǔ)水及更換槽體配液時使用，從而對含氮廢水進(jìn)行再次利用，進(jìn)一步減少含氮廢水的排放。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1顯示為現(xiàn)有技術(shù)的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0018]圖2顯示為本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0019]元件標(biāo)號說明
[0020]101，201 蝕刻槽
[0021]102，202 第一清洗槽
[0022]103，203 堿洗槽
[0023]104，204 第二清洗槽
[0024]105，205 酸洗槽
[0025]106，206 第三清洗槽
[0026]107，207 第一水刀
[0027]108，208 第二水刀
[0028]209第一儲液槽
[0029]210第二儲液槽

【具體實施方式】
[0030]以下通過特定的具體實例說明本實用新型的實施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭露的內(nèi)容輕易地了解本實用新型的其他優(yōu)點與功效。本實用新型還可以通過另外不同的【具體實施方式】加以實施或應(yīng)用，本說明書中的各項細(xì)節(jié)也可以基于不同觀點與應(yīng)用，在沒有背離本實用新型的精神下進(jìn)行各種修飾或改變。
[0031]請參閱圖2。需要說明的是，本實施例中所提供的圖示僅以示意方式說明本實用新型的基本構(gòu)想，遂圖式中僅顯示與本實用新型中有關(guān)的組件而非按照實際實施時的組件數(shù)目、形狀及尺寸繪制，其實際實施時各組件的型態(tài)、數(shù)量及比例可為一種隨意的改變，且其組件布局型態(tài)也可能更為復(fù)雜。
[0032]本實用新型提供一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，請參閱圖2，顯示為該裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，包括依次放置的蝕刻槽201、第一清洗槽202、堿洗槽203、第二清洗槽204、酸洗槽205及第三清洗槽206 ；所述第一清洗槽202的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀207及第二水刀208 ；其中:
[0033]所述濕法蝕刻裝置還包括第一儲液槽209及第二儲液槽210。
[0034]具體的，所述第二儲液槽210分別通過連接管道與所述第三清洗槽206及所述第二水刀208相連，當(dāng)所述第三清洗槽206中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第二儲液槽210，所述第二儲液槽210為所述第二水刀208供液；
[0035]所述第一儲液槽209通過連接管道分別與所述第一清洗槽202及所述蝕刻槽201相連，所述第一清洗槽202為所述第一水刀207供液，當(dāng)所述第一清洗槽202中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第一儲液槽209，所述第一儲液槽209中的液體用于為所述蝕刻槽201補(bǔ)水，并用于所述蝕刻槽201的蝕刻液配液。
[0036]具體的，所述第二儲液槽210包括一排放口，當(dāng)所述第二儲液槽210中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體直接排走。所述排放口可設(shè)在該預(yù)設(shè)水位所在高度，當(dāng)所述第二儲液槽210中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體通過所述排放口自動溢出排放。所述排放口也可設(shè)于所述第二儲液槽其它高度，且所述排放口安裝有一閥門，該閥門與一水位傳感器相連，并在所述水位傳感器的控制下開啟或關(guān)閉。當(dāng)所述第二儲液槽210中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，所述閥門在所述水位傳感器的信號作用下開啟，排走多余的液體，當(dāng)所述第二儲液槽210中的液體下降到一定水位時，所述閥門在所述水位傳感器的信號作用下關(guān)閉，使所述第二儲液槽210中保有預(yù)設(shè)量的液體。
[0037]所述第一儲液槽209亦包括一排放口，當(dāng)所述第一儲液槽210中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體直接排走。所述排放口可設(shè)在該預(yù)設(shè)水位所在高度，當(dāng)所述第一儲液槽209中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體通過所述排放口自動溢出排放。所述排放口也可設(shè)于所述第一儲液槽其它高度，且所述排放口安裝有一閥門，該閥門與一水位傳感器相連，并在所述水位傳感器的控制下開啟或關(guān)閉。當(dāng)所述第一儲液槽209中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，所述閥門在所述水位傳感器的信號作用下開啟，排走多余的液體，當(dāng)所述第一儲液槽209中的液體下降到一定水位時，所述閥門在所述水位傳感器的信號作用下關(guān)閉，使所述第一儲液槽209中保有預(yù)設(shè)量的液體。
[0038]具體的，所述第一儲液槽209與所述蝕刻槽201之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥，用于控制所述第一儲液槽209為所述蝕刻槽201的補(bǔ)水速度。
[0039]所述第二儲液槽210與所述第二水刀208之間的連接管道上亦設(shè)有泵體及流量閥，用于控制所述第二儲液槽210為所述第二水刀208的供液速度。
[0040]具體的，所述第三清洗槽206中的液體為去離子水，通過外部供應(yīng)裝置(如去離子水管道)，不斷供應(yīng)新的去離子水，當(dāng)所述第三清洗槽206中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第二儲液槽210，所述第二儲液槽210為所述第二水刀208供液，從而使得所述第二水刀208噴出的水不含氮，使得硅片的清洗效果更佳，同時，流入所述第一清洗槽202的水量減少，減少了含氮廢水的產(chǎn)生。
[0041]具體的，所述蝕刻槽201中的蝕刻液為硝酸及氫氟酸的混合液，硅片浸泡于所述蝕刻槽201中，可以去除硅片表面的機(jī)械損傷層并形成絨面。所述第一水刀207及第二水刀208分別安裝于所述第一清洗槽202的入口及出口處，當(dāng)硅片通過傳動裝置到達(dá)所述第一清洗槽202處時，所述第一水刀207及第二水刀208分別利用所述第一清洗槽202及第二儲液槽210中的水對硅片的正面及背面進(jìn)行清洗。所述酸洗槽205中的酸洗液為氫氟酸及鹽酸的混合液，作用是去除硅片表面二氧化硅和金屬離子。
[0042]本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置在原始槽體結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，對第一清洗槽和第三清洗槽的連接管道及第一清洗槽的排放部分進(jìn)行改進(jìn)，所述第三清洗槽的水只有部分被所述第一清洗槽利用，從而減少了第一清洗槽含氮廢水的產(chǎn)生，并提高了硅片的清洗效果，同時，可以對第一清洗槽的廢水進(jìn)行再次利用，進(jìn)一步減少含氮廢水的產(chǎn)生，從而降低太陽能電池片的生產(chǎn)成本。
[0043]利用本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置進(jìn)行濕法蝕刻的方法步驟如下:
[0044]首先提供一太陽能電池片，本實施例中，所述太陽能電池片以硅片為例。
[0045]然后通過傳送裝置將所述太陽能電池片依次通過蝕刻槽201、第一清洗槽202、堿洗槽203、第二清洗槽204、酸洗槽205及第三清洗槽206 ；
[0046]其中:
[0047]所述第一清洗槽202的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀207及第二水刀208 ；當(dāng)所述太陽能電池片到達(dá)所述第一清洗槽202時，所述第一水刀及第二水刀分別對所述太陽能電池片的正面及背面進(jìn)行噴洗；
[0048]所述第三清洗槽206通過連接管道連接于第二儲液槽210，所述第三清洗槽206中不斷補(bǔ)充去離子水，當(dāng)所述第三清洗槽206中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，通過連接管道排放多余的液體至所述第二儲液槽210，所述第二儲液槽210通過連接管道為所述第二水刀208供液；當(dāng)所述第二儲液槽210中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體通過設(shè)置于所述第二儲液槽210上的排放口直接排走；
[0049]所述第一清洗槽202通過連接管道連接于第一儲液槽209，當(dāng)所述第一清洗槽202中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第一儲液槽209 ；當(dāng)所述第一儲液槽209中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體設(shè)置于所述第一儲液槽209上的排放口直接排走。
[0050]所述蝕刻槽201通過連接管道連接于所述第一儲液槽209，所述第一儲液槽209中的液體通過該連接管道為所述蝕刻槽201補(bǔ)水，并用于所述蝕刻槽的蝕刻液配液。
[0051〕 具體的，所述傳送裝置可以為現(xiàn)有的滾輪式或掛式傳送機(jī)構(gòu)。
[0052]具體的，通過裝設(shè)于所述第一儲液槽209與所述蝕刻槽201之間的連接管道上的泵體及流量閥來控制所述第一儲液槽為所述蝕刻槽的補(bǔ)水速度。
[0053]通過裝設(shè)于所述第二儲液槽210與所述第二水刀208之間的連接管道上的泵體及流量閥來控制所述第二儲液槽210為所述第二水刀208的供液速度。
[0054]在利用本實用新型的太陽能電池片的蝕刻裝置進(jìn)行濕法蝕刻時，第三清洗槽的水先排放至第二儲液槽進(jìn)行存放，進(jìn)入第二儲液槽的水超過第二儲液槽預(yù)定量直接排走，這部分廢水不含氮。由于第一清洗槽上方設(shè)有兩個水刀清洗硅片，其中第二儲液槽連至第二水刀，第一水刀使用第一清洗槽內(nèi)的水。第一清洗槽噴出的水內(nèi)含氮，對硅片清洗效果不是很好，而第二水刀是利用第三清洗槽提供的不含氮水清洗，這樣整體清洗效果更佳，并且減少了第三清洗槽流入第一清洗槽的水量，減少含氮廢水產(chǎn)生。而第一清洗槽超過預(yù)定液位排放的廢水再排至第一儲液槽收集起來，可供蝕刻槽補(bǔ)水及更換槽體配液時使用，從而對含氮廢水進(jìn)行再次利用，進(jìn)一步減少含氮廢水的排放。
[0055]綜上所述，本實用新型的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置在原始槽體結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，對第一清洗槽和第三清洗槽的連接管道及第一清洗槽的排放部分進(jìn)行改進(jìn)，減少第一清洗槽含氮廢水的產(chǎn)生，并對第一清洗槽的廢水進(jìn)行再次利用。在利用本實用新型的太陽能電池片的蝕刻裝置進(jìn)行濕法蝕刻時，第三清洗槽的水先排放至第二儲液槽進(jìn)行存放，進(jìn)入第二儲液槽的水超過第二儲液槽預(yù)定量直接排走，這部分廢水不含氮。由于第一清洗槽上方設(shè)有兩個水刀清洗硅片，其中第二儲液槽連至第二水刀，第一水刀使用第一清洗槽內(nèi)的水。第一清洗槽噴出的水內(nèi)含氮，對硅片清洗效果不是很好，而第二水刀是利用第三清洗槽提供的不含氮水清洗，這樣整體清洗效果更佳，并且減少了第三清洗槽流入第一清洗槽的水量，減少含氮廢水產(chǎn)生。而第一清洗槽超過預(yù)定液位排放的廢水再排至第一儲液槽收集起來，可供蝕刻槽補(bǔ)水及更換槽體配液時使用，從而對含氮廢水進(jìn)行再次利用，進(jìn)一步減少含氮廢水的排放。所以，本實用新型有效克服了現(xiàn)有技術(shù)中的種種缺點而具高度產(chǎn)業(yè)利用價值。
[0056]上述實施例僅例示性說明本實用新型的原理及其功效，而非用于限制本實用新型。任何熟悉此技術(shù)的人士皆可在不違背本實用新型的精神及范疇下，對上述實施例進(jìn)行修飾或改變。因此，舉凡所屬【技術(shù)領(lǐng)域】中具有通常知識者在未脫離本實用新型所揭示的精神與技術(shù)思想下所完成的一切等效修飾或改變，仍應(yīng)由本實用新型的權(quán)利要求所涵蓋。
【權(quán)利要求】
1.一種太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，包括依次放置的蝕刻槽、第一清洗槽、堿洗槽、第二清洗槽、酸洗槽及第三清洗槽；所述第一清洗槽的入口及出口處分別裝設(shè)有第一水刀及第二水刀；其特征在于: 所述濕法蝕刻裝置還包括第一儲液槽及第二儲液槽； 所述第二儲液槽分別通過連接管道與所述第三清洗槽及所述第二水刀相連，當(dāng)所述第三清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第二儲液槽，所述第二儲液槽為所述第二水刀供液； 所述第一儲液槽通過連接管道分別與所述第一清洗槽及所述蝕刻槽相連，所述第一清洗槽為所述第一水刀供液，當(dāng)所述第一清洗槽中的液體達(dá)到預(yù)設(shè)水位時，排放多余的液體至所述第一儲液槽，所述第一儲液槽中的液體用于為所述蝕刻槽補(bǔ)水，并用于所述蝕刻槽的蝕刻液配液。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于:所述第二儲液槽包括一排放口，當(dāng)所述第二儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體直接排走。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于:所述第一儲液槽包括一排放口，當(dāng)所述第一儲液槽中的液體到達(dá)預(yù)設(shè)水位時，多余的液體直接排走。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于:所述第一儲液槽與所述蝕刻槽之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于:所述第二儲液槽與所述第二水刀之間的連接管道上設(shè)有泵體及流量閥。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于:所述第三清洗槽中的液體為去離子水。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的太陽能電池片的濕法蝕刻裝置，其特征在于:所述蝕刻槽中的蝕刻液為硝酸及氫氟酸的混合液；所述酸洗槽中的酸洗液為氫氟酸及鹽酸的混合液。
【文檔編號】B08B3/02GK204243011SQ201420725099
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2014年11月26日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月26日
【發(fā)明者】童銳, 張小剛, 柯希滿, 楊大誼 申請人:太極能源科技（昆山）有限公司