玻璃基板的制造方法及顯示器用玻璃基板的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種在玻璃基板的端面處理方面具有特征的顯示器用玻璃基板的制造方法。通過(guò)清洗玻璃基板的端面，從所述端面去除殘留異物，而抑制以后工序的揚(yáng)塵。本發(fā)明的玻璃基板的制造方法是具有經(jīng)研磨加工的研磨處理部的玻璃板的制造方法，所述處理部通過(guò)與磁性體研磨粒接觸而被研磨，對(duì)經(jīng)研磨的所述處理部供給酸性清洗液，使所述處理部和所述處理部上所附著的所述磁性體的表面同極性帶電，而使所述處理部和所述磁性體相互排斥，從而使所述金屬附著物移動(dòng)到酸性清洗液中。
【專利說(shuō)明】玻璃基板的制造方法及顯示器用玻璃基板的制造方法
[0001]所述實(shí)施形態(tài)中是使用實(shí)施形態(tài)及圖4中所說(shuō)明的研磨裝置40，利用安裝在旋轉(zhuǎn)軸35上的磁力體36a、36b之間所保持的含有磁性體的研磨漿料37而進(jìn)行玻璃基板G的端面33的鏡面研磨加工，也可通過(guò)另一形態(tài)，用于使磁性體研磨粒和玻璃基板的端面接觸而進(jìn)行研磨的玻璃的清洗。圖8表示另一形態(tài)的研磨裝置180。含有磁性體的研磨漿料187從供給部184被供給到具有沒(méi)有圖示的槽的旋轉(zhuǎn)輪182的槽中，利用設(shè)置在旋轉(zhuǎn)輪182上的磁力體185來(lái)保持含有磁性體的研磨漿料187并使之移動(dòng)。含有磁性體的研磨漿料187隨著旋轉(zhuǎn)而接觸玻璃板的端面，并被回收部186回收。另外，圖4(b)表示包含空出間隙(磁場(chǎng)形成部)而配置旋轉(zhuǎn)輪36的兩個(gè)磁力體36a、36b，且在此磁場(chǎng)形成部保持含有磁性體的研磨漿料37的態(tài)樣。但是，也可不使兩個(gè)磁力體36a、36b空出間隙而緊密配置。在不使兩個(gè)磁力體36a、36b空出間隙而緊密配置的情況下，研磨漿料37因旋轉(zhuǎn)輪36所形成的磁場(chǎng)而被保持在旋轉(zhuǎn)輪36的外周面上。
[0002]在所述實(shí)施形態(tài)中，參照?qǐng)D6及圖7對(duì)逐一清洗玻璃基板G的單片清洗方式進(jìn)行了說(shuō)明。但是，在本發(fā)明的清洗工序T5中，也可采用同時(shí)清洗多塊玻璃基板G的批次清洗系統(tǒng)。
[0003]圖9是概念地表示同時(shí)清洗多塊玻璃基板G的批次清洗系統(tǒng)中的多個(gè)液槽700中的一個(gè)的剖面圖。批次清洗系統(tǒng)具備多個(gè)圖9所示的液槽700，并且具備將容納多塊玻璃基板G的卡匣800進(jìn)行搬運(yùn)的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)。各液槽700根據(jù)需要而具備在將玻璃基板G浸潰于液體L中的狀態(tài)下通過(guò)超聲波對(duì)其進(jìn)行清洗的超聲波清洗機(jī)構(gòu)、及調(diào)節(jié)液體L的溫度的溫度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)。另外，批次清洗系統(tǒng)具備向各液槽700中供給液體L的儲(chǔ)罐。
[0004]容納多塊玻璃基板G的卡匣800被搬運(yùn)設(shè)備所搬運(yùn)，并被依序浸潰于液槽700中所儲(chǔ)存的酸性化學(xué)藥液、純水、超純水等液體L中。各液槽700中所儲(chǔ)存的酸性化學(xué)藥液是向用水稀釋玻璃基板G用的清洗劑而成的稀釋液中添加選自草酸、酒石酸及檸檬酸等多元有機(jī)酸中的I種以上的酸性成分而制作。通過(guò)使含有有機(jī)酸的酸性化學(xué)藥液的PH值降低到2。O以下、優(yōu)選I。6以下，使玻璃基板G的表面的ζ電位成為正電位，而使玻璃基板G的端面及主表面所附著的磁性體容易離開(kāi)玻璃基板G。此外，通過(guò)酸性化學(xué)藥液成分的螯合效果，而防止磁性體再附著在玻璃基板G上。通過(guò)發(fā)揮出酸性化學(xué)藥液的這些功能，可有效地清洗玻璃基板G所附著的磁性體。
[0005]另外，在利用酸性化學(xué)藥液進(jìn)行清洗后，也可加入利用堿性清洗液的清洗工序。作為堿性清洗液，例如可使用氫氧化鉀(KOH)的溶液。
[0006][產(chǎn)業(yè)上的利用可能性]
[0007]作為通過(guò)本發(fā)明而制造的玻璃基板，并不限于顯示器用途，可適宜地用于顯示器用
[0008]玻璃基板的制造方法及顯示器用玻璃基板的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0009]本發(fā)明涉及一種在玻璃基板的端面處理方面具有特征的顯示器用玻璃基板的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0010]液晶顯示器等的顯示器用面板及顯示器用玻璃基板的制造工序包括對(duì)切斷玻璃基板而形成的端面進(jìn)行倒角的工序。對(duì)于玻璃基板的端面，利用金剛石砂輪進(jìn)行研削，而除去因切斷而產(chǎn)生的裂痕及銳邊。例如，利用金剛石砂輪以剖面成為R形的方式調(diào)整形狀。其后，玻璃基板的端面是通過(guò)使用例如包含發(fā)泡樹(shù)脂的具有柔軟性的研磨輪的研磨加工而進(jìn)行研磨。
[0011]另外，作為研磨加工技術(shù)，已知有如專利文獻(xiàn)I所記載的將含有磁性體的研磨漿料用于玻璃基板端面的研磨加工的技術(shù)。另外，已知有如專利文獻(xiàn)2、3所記載的為了進(jìn)行表面的鏡面加工而使用含有磁性體的研磨漿料的技術(shù)。
[0012]另外，對(duì)于經(jīng)研磨加工的玻璃基板，需要通過(guò)清洗玻璃基板的表背面(主表面)及端面，而將研磨加工時(shí)所產(chǎn)生的玻璃粉及所附著的研磨材料、研磨顆粒從玻璃基板上去除。
[0013][現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0014][專利文獻(xiàn)]
[0015][專利文獻(xiàn)I]國(guó)際公開(kāi)第2012/067587號(hào)
[0016][專利文獻(xiàn)2]日本專利特開(kāi)2011-83827號(hào)公報(bào)
[0017][專利文獻(xiàn)3]日本專利特開(kāi)2000-233359號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0018][發(fā)明要解決的問(wèn)題]
[0019]近年來(lái)，隨著顯示面板向高精細(xì)化、高分辨率化方向發(fā)展，對(duì)于驅(qū)動(dòng)面板側(cè)要求TFT線寬的細(xì)線化，另外，對(duì)于彩色濾光片面板側(cè)更進(jìn)一步要求黑矩陣的細(xì)線化。為了應(yīng)對(duì)這種對(duì)玻璃基板的要求，對(duì)于玻璃基板的表面要求更高的潔凈度。
[0020]因此，本發(fā)明提供一種玻璃基板的制造方法，其使用清洗因研磨加工而附著在玻璃基板端面的異物的技術(shù)。
[0021 ][解決問(wèn)題的技術(shù)手段]
[0022]作為玻璃基板的主表面所附著的異物的主要產(chǎn)生原因之一，已知有曾附著在玻璃基板的端面的異物附著并殘留在其主表面。利用磁性體研磨粒進(jìn)行鏡面研磨的玻璃基板的端面上也會(huì)殘留存在現(xiàn)有清洗工序無(wú)法去除的異物。
[0023]因此，本發(fā)明是具有經(jīng)研磨加工的處理部的玻璃基板的制造方法，并且所述處理部通過(guò)與包含磁性體的研磨漿料接觸而被研磨，對(duì)經(jīng)研磨的所述處理部供給清洗液，使所述處理部的表面和所述處理部所附著的所述磁性體的表面帶同極電荷，而使所述處理部和所述磁性體相互排斥，從而使所述磁性體移動(dòng)到清洗液中。例如，對(duì)于具有利用磁性體研磨粒進(jìn)行研磨加工的端面的玻璃基板，通過(guò)對(duì)經(jīng)研磨加工的端面供給酸性清洗液、優(yōu)選含有有機(jī)酸的清洗液，使玻璃基板的端面和此端面所附著的磁性體研磨粒即鐵系微粒子的表面帶同極電荷，而使此端面和鐵系微粒子相互排斥，從而使鐵系微粒子移動(dòng)到清洗液中。
[0024]另外，本發(fā)明提供一種顯示器用玻璃基板的制造工序，其具備如下工序作為去除利用磁性體研磨粒進(jìn)行研磨加工的玻璃基板的端面所附著的磁性體研磨粒的方法，此工序是在特定PH值環(huán)境下將玻璃基板的端面所附著的磁性體研磨粒的表面離子化，并且使玻璃基板的端面的表面電位成為正電位，使磁性體研磨粒從玻璃基板的端面上浮，并且通過(guò)螯合作用防止磁性體研磨粒再次附著在玻璃基板的主表面及端面，而從玻璃基板清洗去除磁性體研磨粒。另外，對(duì)于玻璃基板，在端面處理工序及清洗工序之后，經(jīng)過(guò)端面的沖洗工序，進(jìn)行利用堿性清洗劑等所進(jìn)行的玻璃基板的主表面及端面的清洗。
[0025]另外，本發(fā)明的玻璃基板的制造方法具有如下工序:成形工序，由熔融玻璃成形玻璃板；切斷工序，將所述玻璃板切斷而形成玻璃基板；端面處理工序,通過(guò)使包含由磁力體所保持的磁性體的研磨漿料接觸所述玻璃基板的端面而進(jìn)行鏡面研磨；及清洗工序，使用pH值2以下的酸性化學(xué)藥液來(lái)清洗由所述玻璃基板的端面所附著的所述磁性體所產(chǎn)生的鐵系微粒子；并且所述清洗工序的特征是將構(gòu)成所述鐵系微粒子的Fe3+還原成Fe2+離子，通過(guò)所述Fe2+離子的雙齒以上的配位而形成絡(luò)合物。
[0026]另外，本發(fā)明的顯示器用玻璃基板的制造方法具有如下工序:成形工序，由熔融玻璃成形玻璃板；切斷工序，將所述玻璃板切斷而形成玻璃基板；端面處理工序,通過(guò)使包含由磁力體所保持的磁性體的研磨漿料接觸所述玻璃基板的端面而進(jìn)行鏡面研磨處理；及清洗工序，利用酸性化學(xué)藥液來(lái)清洗所述端面。所述端面處理工序是使用磁性體研磨粒的研磨，是使用具備具有和旋轉(zhuǎn)軸一同旋轉(zhuǎn)的第I磁力體及第2磁力體的磁場(chǎng)形成部、和所述包含磁性體研磨粒及液體且被形成在所述第I磁力體和所述第2磁力體之間的磁場(chǎng)所保持的含有所述磁性體的研磨漿料的研磨輪，在使所述旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，使所述研磨漿料和所述玻璃基板的端面接觸而進(jìn)行鏡面研磨加工。而且，所述清洗工序的特征是，為了去除在所述端面處理工序中由所述玻璃基板的端面所附著的所述磁性體研磨粒所產(chǎn)生的鐵系微粒子，而使用PH值2以下、優(yōu)選pH值1.6以下的酸性化學(xué)藥液，將構(gòu)成所述鐵系微粒子的Fe3+還原成Fe2+離子，使所述Fe2+離子的2處以上發(fā)生配位而形成絡(luò)合物。此外，所述鏡面研磨處理所使用的所述研磨衆(zhòng)料中的所述磁性體研磨粒的濃度優(yōu)選85?95wt%。
[0027]另外，本發(fā)明的顯示器用玻璃基板的制造方法具有如下清洗工序，此清洗工序是對(duì)使用磁性體研磨粒進(jìn)行研磨的玻璃基板的端面供給特定PH值以下、優(yōu)選pH值2以下、更優(yōu)選PH值1.6以下的酸性化學(xué)藥液，而物理清洗所述端面。所述清洗工序所使用的所述酸性化學(xué)藥液優(yōu)選在特定PH值下發(fā)揮螯合效果的選自由水楊酸、鄰苯二甲酸、乙醛酸、草酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、丙二酸、琥珀酸、葡萄糖酸、反式烏頭酸、丙醇二酸、乳酸、丙酮酸、檸檬酸、異檸檬酸、乙醇酸、蘋果酸、酒石酸等有機(jī)酸，次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、羥基乙基乙二胺三乙酸、二乙三胺五乙酸等氨基羧酸，絲氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、半胱氨酸等氨基酸所組成的群中的I種以上，更適宜為選自所述群中的2種以上。
[0028]另外，本發(fā)明的清洗工序所使用的具有螯合效果的化學(xué)藥液優(yōu)選選自由草酸、酒石酸及檸檬酸所組成的群中的濃度被調(diào)整為0.5wt%以上的化學(xué)藥液。
[0029][發(fā)明的效果]
[0030]根據(jù)本發(fā)明的玻璃基板的制造方法及顯示器用玻璃基板的制造方法，可去除玻璃基板的端面所附著的磁性體，并且抑制磁性體再次附著在玻璃基板的主表面及端面。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0031]圖1是表示本發(fā)明的玻璃基板的制造方法中的各工序的流程圖。
[0032]圖2表不本發(fā)明中的溶解工序到切斷工序的不意圖。
[0033]圖3表示本發(fā)明的玻璃基板的端面處理的態(tài)樣的圖。
[0034]圖4(a)、(b)是表示使用本發(fā)明的含有磁性體的研磨漿料的研磨加工的態(tài)樣的圖。
[0035]圖5是表示本發(fā)明所加工的玻璃基板的端面部分的示意圖。
[0036]圖6(a)?(C)是表示本發(fā)明所使用的清洗裝置的動(dòng)作的圖。
[0037]圖7(a)?(C)是表示本發(fā)明所使用的清洗裝置所具備的清洗工具的動(dòng)作的圖。
[0038]圖8是表示本發(fā)明的另一實(shí)施形態(tài)的玻璃表面的加工的態(tài)樣的圖。
[0039]圖9是表示本發(fā)明所使用的批次清洗系統(tǒng)的一部分構(gòu)成的剖面圖。

【具體實(shí)施方式】
[0040]以下，參照?qǐng)D式，對(duì)本發(fā)明的玻璃基板的制造方法的一個(gè)實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。此夕卜，在本說(shuō)明書中，玻璃基板包括顯示器用玻璃基板。
[0041](I)玻璃基板的制造方法的概要
[0042]圖1是本實(shí)施形態(tài)的玻璃基板的制造方法的流程圖。玻璃基板如圖1所示是經(jīng)過(guò)熔解工序Tl、成形工序T2、切斷工序T3、端面處理工序T4、清洗工序T5、及檢查工序T6的各工序而制造。
[0043]使用圖2，對(duì)本發(fā)明的玻璃基板的制造方法所使用的制造裝置的一部分(裝置100)進(jìn)行說(shuō)明。在熔解工序Tl中，通過(guò)在熔解裝置200內(nèi)加熱玻璃原料使之熔解，而制成熔融玻璃。接著，在澄清裝置300內(nèi)使熔融玻璃中所含的氣體成分從熔融玻璃中釋放出來(lái)，或者使熔融玻璃中所含的氣體成分被吸收到熔融玻璃中。例如，玻璃原料包含Si02、Al2O3等組成。
[0044]在成形工序T2中，利用輸送管400將經(jīng)澄清的熔融玻璃供給到成形裝置500，而成形為帶狀的玻璃板Gl。
[0045]在切斷工序T3中，玻璃板Gl是利用沒(méi)有圖示的切斷裝置沿著寬度方向切斷而單片化。進(jìn)一步以成為特定尺寸的方式切斷4邊，而制成制品尺寸的玻璃基板G。
[0046]在端面處理工序T4中，利用圖3所示的第I端面加工機(jī)30，對(duì)通過(guò)切斷而形成的端面進(jìn)行加工。在移動(dòng)的玻璃基板G的兩端面，使利用沒(méi)有圖示的旋轉(zhuǎn)軸而自轉(zhuǎn)的第I研削輪31和第2研削輪32接觸，由此對(duì)玻璃基板G的端面33進(jìn)行加工。在加工過(guò)玻璃基板G的長(zhǎng)邊側(cè)的端面33后，對(duì)短邊側(cè)的端面33進(jìn)行加工。其后，利用設(shè)置在圖4所示的第2端面加工機(jī)34上的研磨裝置40進(jìn)行端面33的鏡面研磨加工。在此是使用含有磁性體的研磨漿料。所謂含有磁性體的研磨漿料，是指磁性體主要作為研磨顆粒而發(fā)揮作用的含有磁性體研磨粒的流動(dòng)體、或磁性體主要作為用于運(yùn)送研磨顆粒的載體而發(fā)揮作用的流動(dòng)體。
[0047]其次，對(duì)包括將端面處理工序T4的研磨加工中所附著的磁性體從玻璃基板G的端面去除的工序的清洗工序進(jìn)行說(shuō)明。
[0048]在清洗工序T5中，利用圖6(a)所示的第I端面清洗裝置60，將在端面處理工序T4中經(jīng)鏡面研磨處理的玻璃基板G的端面33利用端面清洗工具61加以清洗。在第I端面清洗裝置60中，于在搬運(yùn)輥62上搬運(yùn)的玻璃基板G的兩側(cè)設(shè)置第I端面清洗工具61，并且設(shè)置從玻璃基板G的主表面?zhèn)认蚨嗣鎮(zhèn)葒娚淝逑匆旱亩嗣媲逑磭娮?3。
[0049]對(duì)于通過(guò)第I端面清洗裝置60的玻璃基板G，接著利用圖6 (b)所示的第2端面清洗裝置70來(lái)清洗端面。在第2端面清洗裝置70中，于在搬運(yùn)輥62上搬運(yùn)的玻璃基板G的兩側(cè)設(shè)置第2端面清洗工具64。
[0050]對(duì)于利用第I端面清洗裝置60、第2端面清洗裝置70清洗了長(zhǎng)邊側(cè)的端面33的玻璃基板G，利用沒(méi)有圖示的反轉(zhuǎn)機(jī)將玻璃基板G的朝向旋轉(zhuǎn)90度，和長(zhǎng)邊側(cè)同樣地清洗玻璃基板G的短邊側(cè)。
[0051]接著，對(duì)玻璃基板G的端面33的4邊進(jìn)行清洗后，清洗玻璃基板G的主表面。利用圖6(c)所示的表面清洗裝置80而清洗玻璃基板G的表面、背面。于在搬運(yùn)輥62上搬運(yùn)的玻璃基板G的表面?zhèn)?、背面?zhèn)仍O(shè)置清洗輥65，涂抹玻璃基板用的堿性清洗劑而清洗玻璃基板G的主表面。在本實(shí)施形態(tài)中，清洗輥65是將毛刷輥和海綿輥組合使用，而去除玻璃基板的主表面所附著的有機(jī)物及顆粒。
[0052]在檢查工序T6中，對(duì)玻璃基板G的端面33及主表面進(jìn)行檢查，其后，以顯示器用玻璃基板的形式出貨給顯示面板制造商等。
[0053]以下，參照?qǐng)D式對(duì)本發(fā)明的端面處理工序T4及清洗工序T5更詳細(xì)地進(jìn)行說(shuō)明。本實(shí)施形態(tài)的端面處理工序T4具有圖3所示的第I研削工序、第2研削工序及圖4所示的研磨工序。
[0054]首先，對(duì)第I端面加工機(jī)30及第2端面加工機(jī)34進(jìn)行說(shuō)明。如圖3所示，在第I端面加工機(jī)30中，一面沿著箭頭方向搬運(yùn)玻璃基板G，一面利用設(shè)置在玻璃基板的兩端的第I研削輪31、第2研削輪32先對(duì)長(zhǎng)邊側(cè)的端面依序進(jìn)行研削加工。接著，對(duì)長(zhǎng)邊側(cè)進(jìn)行研削加工后，同樣地進(jìn)行短邊側(cè)的研削加工，根據(jù)需要進(jìn)行沒(méi)有圖示的定向平面加工、切角。
[0055]第I研削輪31是利用含有鐵的金屬系粘合劑固定有金剛石研磨粒的研削輪。第I研削輪所使用的粘合劑的硬度及剛性高于第2研削輪32的粘合劑。此處所謂硬度是指肖氏硬度，所謂剛性是指楊氏模量。只要第I研削輪31的粘合劑為金屬系，則也可使用例如鈷系、青銅系等的其他金屬粘合劑。另外，只要硬度及剛性高于第2研削輪的粘合劑，則也可使用陶瓷質(zhì)的粘合劑作為第I研削輪31的粘合劑。第I研削輪31例如可使用JISR6001-1987所規(guī)定的#300至#400左右的粒度的金剛石研磨粒。在本實(shí)施形態(tài)中，第I研削輪31是使用#400的粒度的金剛石研磨粒。研磨粒不限于金剛石，也可為CBN(—氮化硼)。
[0056]第I研削輪31的粒度可等同或大于第2研削輪32的金剛石研磨粒的粒度。
[0057]第2研削輪32是利用含有環(huán)氧樹(shù)脂的樹(shù)脂系的粘合劑而固定有金剛石研磨粒的研削輪。第2研削輪32的粘合劑是使用硬度及剛性低于第I研削輪31的粘合劑的粘合劑。關(guān)于第2研削輪32的粘合劑，只要硬度及剛性低于第I研削輪31的粘合劑，則也可使用陶瓷質(zhì)的粘合劑。只要為樹(shù)脂系，則例如也可使用聚酰亞胺系的材質(zhì)。研磨粒不限于金剛石，也可為CBN。在本實(shí)施形態(tài)中，第2研削輪32是使用JIS R6001-1987所規(guī)定的#400的粒度的金剛石研磨粒。
[0058]此外，就高效率地進(jìn)行研削的方面而言，第I研削輪31的研磨粒的粒度優(yōu)選等同或大于第2研削輪32的研磨粒的粒度。
[0059]在第I研削工序中，利用第I研削輪31上所形成的形狀、例如具有特定曲率的研削槽，對(duì)玻璃基板G的端面33以特定的研削量進(jìn)行研削。由此，玻璃基板G的端面33和原端面33相比后退到玻璃基板的中央側(cè)，端面33的剖面形狀對(duì)應(yīng)于第I研削輪31的研削槽的剖面形狀而被研削成帶有曲率的凸形狀、圓弧狀或R形狀。此處，所謂研削量是指從研削前的原端面33起到被研削而后退的研削后的凸形狀的端面33的頂點(diǎn)為止的距離。S卩，是指玻璃基板G的端面33在玻璃基板G的主表面的方向上被研削的量。利用第I研削輪31所產(chǎn)生的玻璃基板G的研削量例如為40 μ m至80 μ m的范圍內(nèi)。就確保生產(chǎn)性的觀點(diǎn)而言，第I研削工序中的玻璃基板G的搬運(yùn)速度優(yōu)選10m/min以上。在本實(shí)施形態(tài)中，玻璃基板G的搬運(yùn)速度為10m/min。
[0060]在第I研削工序中，以玻璃基板G的端面33的JIS B0601-1982所規(guī)定的最大高度Rmax成為至少10 μ m以上且18 μ m以下、更優(yōu)選13 μ m以上且14 μ m以下的方式研削玻璃基板G的端面33。另外，玻璃基板G的端面33的JIS B0601-1994所規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra例如達(dá)到0.5 μ m左右。
[0061]其后，在繼第I研削工序之后所設(shè)置的第2研削工序中，對(duì)于玻璃基板G，利用第2研削輪32的研削槽而研削端面33。由此，玻璃基板G的端面33的剖面形狀對(duì)應(yīng)于第2研削輪32的研削槽的剖面形狀而被研削成帶有曲率的凸形狀、圓弧狀或R形狀。在本實(shí)施形態(tài)中，通過(guò)將第2研削輪32的研削槽設(shè)為和第I研削輪31的研削槽大致相同的形狀，可在不改變玻璃基板G的端面33的外觀形狀的情況下以特定研削量研削玻璃基板G的端面33。
[0062]利用第2研削輪32所產(chǎn)生的玻璃基板G的研削量例如為10 μ m至30 μ m的范圍內(nèi)。在第2研削工序中，以玻璃基板G的端面33的JIS B0601-1982所規(guī)定的最大高度Rmax成為至少4 μ m以上且8 μ m以下、更優(yōu)選6 μ m左右的方式研削玻璃基板G的端面33。另夕卜，玻璃基板G的端面的所述算術(shù)平均粗糙度Ra達(dá)到0.2 μ以下、例如0.Ιμπι至0.2μηι左右。
[0063]在通過(guò)所述的第I研削工序、第2研削工序?qū)ΣＡЩ錑的長(zhǎng)邊側(cè)進(jìn)行加工后，利用沒(méi)有圖示的反轉(zhuǎn)機(jī)使玻璃基板G的朝向旋轉(zhuǎn)90度，和長(zhǎng)邊側(cè)同樣地對(duì)玻璃基板G的短邊側(cè)進(jìn)行加工。
[0064]此外，關(guān)于第I研削輪31、第2研削輪32的旋轉(zhuǎn)方向，可將和玻璃基板G接觸的點(diǎn)的研削輪31的外周面的移動(dòng)方向設(shè)定為和玻璃基板G的搬運(yùn)方向相同，也可設(shè)定為反方向。在本實(shí)施形態(tài)中，以在第I研削工序、第2研削工序中和玻璃基板G接觸的點(diǎn)的第I研削輪31、第2研削輪32的外周面的移動(dòng)方向成為玻璃基板G的搬運(yùn)方向的反方向的方式，使第I研削輪31、第2研削輪32沿著一個(gè)方向旋轉(zhuǎn)。
[0065]在研削工序中，如上所述，將玻璃基板G的端面33的剖面形狀研削成帶有曲率的凸形狀、圓弧狀或R形狀，并且將玻璃基板G的端面33的所述算術(shù)平均粗糙度Ra研削至0.2 μ m以下。然而，在利用作為金剛石砂輪的第I研削輪31及第2研削輪32進(jìn)行研削的玻璃基板G的端面33上，會(huì)形成含有稱為微裂痕或發(fā)絲裂痕的微小裂痕的層。這種層被稱為加工變質(zhì)層或者脆弱破壞層，即使經(jīng)過(guò)所述第I研削工序、第2研削工序，仍會(huì)以I μ m至3 μ m左右的厚度而存在。因存在這種層，玻璃基板G的端面33的破壞強(qiáng)度會(huì)降低，或玻璃從微小裂痕中脫落。為了去除這種層以提高玻璃基板G的端面33的破壞強(qiáng)度，而進(jìn)行研磨加工。
[0066]在研磨工序中，去除玻璃基板G的端面33的加工變質(zhì)層或者脆弱破壞層，以玻璃基板G的端面33的算術(shù)平均粗糙度Ra例如成為小于0.0l μ m的方式，利用研磨裝置40而研磨玻璃基板G的端面33。
[0067]如圖4所示，通過(guò)研削工序而完成了長(zhǎng)邊側(cè)、短邊側(cè)的玻璃基板的端面33的研削的玻璃基板G被搬運(yùn)到利用研磨裝置40進(jìn)行研磨的位置。其后，利用圖4(a)、(b)所示的第2端面加工機(jī)34上所安裝的研磨裝置40，對(duì)玻璃基板G的端面33進(jìn)行研磨加工。圖4 (b)是沿著圖4(a)的I1-1I虛線的剖面圖。研磨裝置40是以旋轉(zhuǎn)軸35為中心使旋轉(zhuǎn)輪36旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)輪36是在沿著旋轉(zhuǎn)軸35的長(zhǎng)度方向平行地設(shè)置的圓盤狀的磁力體36a、36b的間隙(也稱為磁場(chǎng)形成部)中保持含有磁性體的研磨漿料37。
[0068]玻璃基板G的端部33沒(méi)入被由磁力體36a、36b所形成的磁場(chǎng)所保持的含有磁性體的研磨漿料37中，旋轉(zhuǎn)輪36是在玻璃基板G的端面33和含有磁性體的研磨漿料37接觸的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)。由此，含有磁性體的研磨漿料37和玻璃基板G的端面33相對(duì)地移動(dòng)，玻璃基板G的端面33通過(guò)和被磁場(chǎng)形成部所形成的磁場(chǎng)束縛的含有磁性體的研磨漿料接觸而被研磨。
[0069]含有磁性體的研磨漿料37所含的研磨粒形狀為圓度小的多邊形狀、或具有角部的不定形狀。所謂具有角部的不定形狀，包括具有一個(gè)或多個(gè)銳角的立體上不一致的形狀。另外，所謂具有角部，包括如下情況:粒子向邊緣變??；粒子的剖面的輪廓線形成一個(gè)或多個(gè)銳角或鈍角；及粒子的邊緣尖銳。另外，研磨粒也可為球狀。所謂球狀不僅包括剖面形狀為圓形的形狀，還包括剖面形狀為橢圓形、長(zhǎng)圓形等沒(méi)有角的帶圓弧的形狀。另外，在含有磁性體的研磨漿料中的研磨粒為磁性體研磨粒的情況下，這種研磨漿料中的磁性體研磨粒的濃度優(yōu)選85?95wt%。這種磁性體研磨粒的濃度越高，研磨玻璃基板G的端面33的能力越提高，但另一方面，由水蒸發(fā)產(chǎn)生的冷卻效果越減小。因此，如果這種研磨漿料中的磁性體研磨粒的濃度達(dá)到95wt%以上，則會(huì)因加工熱使玻璃基板G的端面33燒熱。
[0070]經(jīng)過(guò)研磨工序，玻璃基板G的端面33如圖5所示，具有頂部A、端面和主表面的邊界部B、C，在這些部位，對(duì)于玻璃基板G，去除端面33的加工變質(zhì)層或者脆弱破壞層，以算術(shù)平均粗糙度Ra小于0.01 μ m的方式進(jìn)行鏡面研磨處理。尤其是，通過(guò)使邊界部B、C的Ra小于0.01，會(huì)抑制從端面33產(chǎn)生玻璃粉，而減輕其向玻璃基板G主表面的附著。另外，也可實(shí)現(xiàn)玻璃基板G的彎曲強(qiáng)度的提高。
[0071]此外，對(duì)于玻璃基板G，可在固定在平臺(tái)上的狀態(tài)下進(jìn)行端面研磨，也可通過(guò)使之向固定的研磨輪移動(dòng)而進(jìn)行端面研磨。另外，可對(duì)玻璃基板G的端面33逐邊研磨，也可準(zhǔn)備多個(gè)旋轉(zhuǎn)輪36，同時(shí)研磨玻璃基板G的端面33的多個(gè)邊。另外，含有磁性體的研磨漿料37可為磁性體主要作為研磨顆粒而發(fā)揮作用的含有磁性體研磨粒的流動(dòng)體，也可為磁性體主要作為用于運(yùn)送研磨顆粒的載體而發(fā)揮作用的流動(dòng)體。
[0072]另外，玻璃基板G的去除量及表面粗糙度即算術(shù)平均粗糙度Ra的測(cè)定是使用東京精密公司制造的Surfcom A1400，在圖5所示的玻璃基板G的端面33的頂點(diǎn)A、及端面33和主表面的邊界附近的邊界部B、C處進(jìn)行。玻璃基板G的去除量的測(cè)定是在測(cè)量模式為剖面測(cè)量模式、測(cè)定速度為0.6mm/s、傾斜校正為前半校正、測(cè)定距離為20mm的條件下進(jìn)行。另外，表面粗糙度的測(cè)定是在測(cè)量模式為粗糙度測(cè)量、測(cè)定速度為0.3mm/s、測(cè)定方法為JIS1994的條件下進(jìn)行。另外，關(guān)于算術(shù)平均粗糙度Ra的測(cè)定，在Ra〈0.02時(shí)設(shè)為截止值0.08及測(cè)定長(zhǎng)度0.4mm,在0.02〈Ra〈0.2時(shí)設(shè)為截止值O。25及測(cè)定長(zhǎng)度1.25mm,在0.l<Ra<2時(shí)設(shè)為截止值0.8及測(cè)定長(zhǎng)度4mm。
[0073]其次，對(duì)清洗工序T5及其清洗作用進(jìn)行說(shuō)明。在本發(fā)明中，作為去除利用含有磁性體的研磨漿料進(jìn)行研磨加工的玻璃基板G的端面所附著的磁性體的方法，研究了在特定PH值環(huán)境下使玻璃基板G的端面所附著的磁性體的表面正離子化，并且使玻璃基板G的端面的表面電位成為正電位，使磁性體從玻璃基板G的端面上浮，并且通過(guò)螯合作用而防止再附著。
[0074]首先，在本發(fā)明中，在利用圖6(a)所示的第I端面清洗裝置60所進(jìn)行的第I端面清洗工序中，將PH值2以下、優(yōu)選pH值1.6以下的酸性化學(xué)藥液從端面清洗噴嘴63供給到玻璃基板G的端面，進(jìn)行玻璃基板G的端面所附著的磁性體的離子化。由此，減小表面電位成為正電位的玻璃基板G的端面和磁性體的靜電相互作用，使磁性體變得容易從玻璃基板G的端面離開(kāi)。而且，通過(guò)在減小玻璃基板G的端面和磁性體的靜電相互作用的狀態(tài)下利用海綿進(jìn)行物理清洗，而使磁性體從玻璃基板G的端面確實(shí)地脫離。
[0075]此外，通過(guò)使第I端面清洗工序中所供給的化學(xué)藥液含有在pH值2以下的環(huán)境下對(duì)鐵具有螯合效果的化學(xué)藥液，使離子化的鐵螯合化，而防止再附著在玻璃基板G的表面。
[0076]作為具有還原效果的化學(xué)藥液，優(yōu)選含有至少標(biāo)準(zhǔn)氧化還原電位為-0.35V以下的酸性化學(xué)藥液。例如，F(xiàn)e3+離子的還原需要-0.77V，通過(guò)使用具有螯合效果的化學(xué)藥液，可降低Fe3+離子的還原電位。即，在所述電位以上也可獲得還原效果，玻璃基板G的端面的清洗作用進(jìn)一步提高。
[0077]通過(guò)物理清洗而離開(kāi)玻璃基板G的端面的磁性體即使被放置在足以增大玻璃基板G的表面和磁性體的靜電相互作用的程度的pH值環(huán)境下，也會(huì)因磁性體構(gòu)成螯合物，而防止磁性體再附著在玻璃基板G上。
[0078]接著，在利用圖6(b)所示的第2端面清洗裝置70所進(jìn)行的第2端面清洗工序中，進(jìn)行用于清洗去除第I端面清洗工序中成為螯合物的磁性體的沖洗。在第2端面清洗工序中，優(yōu)選設(shè)法不使磁性體帶入以后工序。例如，為了去除構(gòu)成螯合物的鐵成分，而使用PH值2以下、優(yōu)選pH值1.6以下的酸性化學(xué)藥液，其后通過(guò)純水清洗而將沖洗所使用的化學(xué)藥液洗去。
[0079]使用圖7(a)、(b)對(duì)圖6(a)的第I端面清洗工具61進(jìn)行說(shuō)明。圖7(a)表示第I端面清洗機(jī)60中的玻璃基板G的端面的一部分。第I端面清洗工具61具有利用旋轉(zhuǎn)軸61a進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的支持部61b上所設(shè)置的清洗墊61c，其清洗利用搬運(yùn)輥62所搬運(yùn)的玻璃基板G的兩端。
[0080]對(duì)于清洗墊61c和玻璃基板G的端面，從端面清洗噴嘴63a噴出pH值2以下、優(yōu)選pH值1.6以下的酸性化學(xué)藥液。作為一個(gè)例子，可將草酸和酒石酸的混合液涂抹到玻璃基板G的端面。清洗墊61c含有酸性化學(xué)藥液，其接觸玻璃基板G的端面并滑動(dòng)，由此可對(duì)玻璃基板G的端面進(jìn)行化學(xué)清洗和物理清洗，而使玻璃基板G的端面所附著的磁性體脫離玻璃基板G的端面。脫離的磁性體利用酒石酸而螯合化。
[0081]和玻璃基板G的端面接觸的端面清洗工具61也可為如圖7(b)股旋轉(zhuǎn)方向和端面大致垂直的清洗輥611。另外，也可如端面清洗噴嘴63b股從正面方向?qū)Χ嗣婀┙o化學(xué)藥液。
[0082]其次，使用圖7 (C)對(duì)圖6 (b)的第2端面清洗裝置70進(jìn)行說(shuō)明。通過(guò)第I端面清洗裝置60的玻璃基板G被投入到第2端面清洗裝置70中，利用第2端面清洗工具64a、64b而沖洗掉前工序的化學(xué)藥液。
[0083]圖7(c)表示第2端面清洗裝置70中的玻璃基板G的端面的一部分。在第2清洗工序中，利用沖洗液而沖洗掉經(jīng)螯合化的磁性體，直到以后工序的表面清洗裝置，并且降低玻璃基板所附著的酸性化學(xué)藥液的PH值，抑制酸性化學(xué)藥液被帶入以后工序。
[0084]第2端面清洗工具64如圖7 (c)所示，具有以對(duì)玻璃基板G的端面有特定角度的方式對(duì)向設(shè)置的清洗噴嘴64a、64b。首先，利用從清洗噴嘴64a噴出的第I沖洗液而沖洗玻璃基板G的端面。第I沖洗液是使用具有和第I端面清洗工序中所使用的化學(xué)藥液同等的PH值的沖洗液。利用第I沖洗液而沖洗掉從第I端面清洗工序附著的化學(xué)藥液之后，使用純水作為第2沖洗液而沖洗玻璃基板G的端面。由此，可防止將酸性化學(xué)藥液帶入作為以后工序的圖6(c)所示的利用表面清洗裝置80所進(jìn)行的玻璃基板G的主表面清洗工序中。另外，通過(guò)將具有和第I端面清洗工序同等的PH值的化學(xué)藥液用于第I沖洗液，而確實(shí)地沖洗掉磁性體。
[0085]此外，在本實(shí)施形態(tài)中，在玻璃基板G的主表面?zhèn)?，也可設(shè)置從主表面?zhèn)认蚨嗣鎮(zhèn)葒姵鰶_洗液的清洗噴嘴，并且設(shè)置從端面的正面?zhèn)葒姵鰶_洗液的清洗噴嘴。
[0086]在本發(fā)明的顯示器用玻璃基板的制造方法中，認(rèn)為優(yōu)選將鐵的價(jià)電子數(shù)設(shè)為Fe2+并形成絡(luò)合物，因此優(yōu)選將還原性強(qiáng)的草酸添加到第I端面清洗裝置60所使用的酸性化學(xué)藥液中。
[0087]關(guān)于絡(luò)合物的穩(wěn)定性，鐵的價(jià)電子數(shù)為Fe3+時(shí)，穩(wěn)定性高于Fe2+。但是，在從玻璃基板G的端面剝離的鐵系微粒子為Fe3+的狀態(tài)下，在未能將此Fe3+完全螯合化的情況下，在所述沖洗工序中，和Fe2+相比，F(xiàn)e3+的鐵系微粒子容易在玻璃基板G的主表面及端面鈍化而引起再附著。
[0088]因此，在本發(fā)明中，由于減小磁性體未螯合化而殘留的可能性，所以在搬運(yùn)至主表面清洗工序之前的從玻璃基板G去除磁性體的絡(luò)合物的沖洗工序中，即使清洗液的pH值從酸性變化至中性側(cè)，亦會(huì)抑制磁性體再附著于玻璃基板G的主表面而鈍化。
[0089]即，根據(jù)本發(fā)明，可發(fā)揮如下效果:通過(guò)將構(gòu)成磁性體的Fe3+還原成Fe2+，和Fe3+相t匕，通過(guò)本發(fā)明的清洗工序可抑制玻璃基板G的主表面的由鈍化引起的再附著。
[0090]作為本發(fā)明中所使用的螯合劑，優(yōu)選進(jìn)行雙齒以上的配位的螯合劑。具體而言，優(yōu)選具備從Fe的正八面體的六配位的鐵離子中心起在xyz軸方向上以3 A以下的距離具有供電子基的分子構(gòu)造。
[0091]作為具體例，所述具有螯合效果的化學(xué)藥液優(yōu)選選自由水楊酸、鄰苯二甲酸、乙醛酸、草酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、丙二酸、琥珀酸、葡萄糖酸、反式烏頭酸、丙醇二酸、乳酸、丙酮酸、檸檬酸、異檸檬酸、乙醇酸、蘋果酸、酒石酸等有機(jī)酸，次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、羥基乙基乙二胺三乙酸、二乙三胺五乙酸等氨基羧酸，絲氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、半胱氨酸等氨基酸所組成的群中的I種以上，尤其適宜為2種以上。
[0092]以上，詳細(xì)地說(shuō)明了本發(fā)明的玻璃基板的制造方法的實(shí)施形態(tài)，但本發(fā)明并不限定于所述實(shí)施形態(tài)，也可在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)進(jìn)行各種改良或變更。
[0093][實(shí)施例]
[0094]以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0095](實(shí)施例1~5)及(比較例I~3)
[0096]首先，玻璃基板的端面的研磨加工所使用的含有磁性體的研磨漿料是磁性體主要作為研磨顆粒而發(fā)揮作用的含有磁性體研磨粒的流動(dòng)體。這種磁性體研磨粒是鐵氧體系的磁性體，是包含粒子的形狀為具有角部的不定形狀，平均粒徑為5 μ m以上且10 μ m以下，最大磁通密度為1.3T，最大磁導(dǎo)率為3.0H/m的磁性體的研磨顆粒。其次，通過(guò)將所準(zhǔn)備的研磨顆粒和水混合，而制作研磨漿料。作為一個(gè)例子，宜以研磨漿料中的研磨粒的濃度成為85~95wt%的方式將磁性體研磨粒和水混合。
[0097]在本實(shí)施例中，考慮到管理的容易性、量產(chǎn)適用性而使用wt%進(jìn)行磁性流動(dòng)體的濃度管理，但磁性流動(dòng)體的濃度管理也可使用vol%來(lái)進(jìn)行。和νο?%的換算可基于磁性體研磨粒的毛比重和水的密度lg/cm3進(jìn)行計(jì)算。另外，在本實(shí)施例中，考慮到從研磨加工中的含有磁性體的研磨漿料中的水的蒸發(fā)，將所蒸發(fā)的量的水補(bǔ)充到此研磨漿料中。具體而言，以特定間隔，對(duì)研磨玻璃基板的端面的旋轉(zhuǎn)輪供給將磁性體研磨粒和水混合而成的含有磁性體的研磨漿料。關(guān)于此含有磁性體的研磨漿料，其濃度低于旋轉(zhuǎn)輪所保持的含有磁性體的研磨漿料，是以流動(dòng)性高的狀態(tài)進(jìn)行供給。
[0098]在通過(guò)所述研磨處理而獲得的玻璃基板的端面上，在圖5所示的邊界部B、邊界部C附著磁性體研磨粒。
[0099]使用下述“表1”所記載的酸性化學(xué)藥液對(duì)此玻璃基板的端面進(jìn)行清洗，并評(píng)價(jià)清洗結(jié)果。將評(píng)價(jià)結(jié)果匯總示于表1。
[0100]具體而言，在實(shí)施例1~5中，將含有有機(jī)酸的酸性化學(xué)藥液的濃度調(diào)整為2wt%。另外，沖洗時(shí)以pH值成為2 以下的方式實(shí)施作業(yè)。
[0101]在利用磁性體研磨粒所進(jìn)行的玻璃基板的端面研磨加工之后，在以下工序中實(shí)施此端面的清洗。
[0102]I)從噴嘴對(duì)玻璃基板的端面噴射表1所示的酸性化學(xué)藥液，
[0103]2)利用浸潰了化學(xué)藥液的海綿盤進(jìn)行清洗，
[0104]3)從噴嘴對(duì)玻璃基板的端面噴射化學(xué)藥液進(jìn)行沖洗，
[0105]4)對(duì)玻璃基板的端面噴射純水進(jìn)行沖洗。
[0106]此外，在實(shí)施例1~5及比較例I~3中，使用厚度為0.5mm的玻璃基板。
[0107]評(píng)價(jià)方法是利用具有粘著性的工具將玻璃基板的端面所殘存的異物剝離，并測(cè)定其每單位面積的附著量而進(jìn)行。具體而言，關(guān)于玻璃基板端面所殘存的異物的殘存面積比率，在各試樣的玻璃基板的四邊的端面的各自中央部貼附透明膠帶，再剝?nèi)ネ该髂z帶，使用附帶CO)(Charge Coupled Device,電荷稱合器件)攝像裝置的光學(xué)顯微鏡來(lái)觀察所剝下的透明膠帶的表面。此外，設(shè)法在玻璃基板的端面的加工區(qū)域的整個(gè)厚度方向(圖5的B點(diǎn)到C點(diǎn))貼附透明膠帶。
[0108]利用光學(xué)顯微鏡的觀察區(qū)域設(shè)為圖5的玻璃基板的端面的B點(diǎn)到C點(diǎn)的距離、SP
0.75mmX玻璃基板的長(zhǎng)度方向0.75mm的區(qū)域。計(jì)數(shù)此區(qū)域的異物的個(gè)數(shù)，并進(jìn)行評(píng)價(jià)。
[0109]另外，對(duì)于清洗工序后的玻璃基板的主表面(表背面)所附著的異物也進(jìn)行評(píng)價(jià)。具體而言，對(duì)于玻璃表背面所附著的異物量，使用玻璃基板表面檢查裝置(日立高科技電子工程公司制造的G14830)進(jìn)行測(cè)定。關(guān)于測(cè)定條件，在檢測(cè)聚苯乙烯標(biāo)準(zhǔn)粒子Iym以上的條件下進(jìn)行測(cè)定。
[0110][表1]
[0111]

【權(quán)利要求】
1.一種玻璃基板的制造方法，其是具有經(jīng)研磨加工的處理部的玻璃基板的制造方法，所述處理部通過(guò)與包含磁性體的研磨漿料接觸而被研磨，對(duì)經(jīng)研磨的所述處理部供給清洗液，使所述處理部的表面和所述處理部上所附著的所述磁性體的表面同極性帶電，而使所述處理部和所述磁性體相互排斥，從而使所述磁性體移動(dòng)至清洗液中。
2.一種玻璃基板的制造方法，其包括如下工序: 成形工序，由熔融玻璃成形玻璃板； 切斷工序，將所述玻璃板切斷而形成玻璃基板； 端面處理工序,通過(guò)使包含由磁力體所保持的磁性體的研磨漿料接觸所述玻璃基板的端面而進(jìn)行鏡面研磨 '及 清洗工序，使用pH值2以下的酸性化學(xué)藥液來(lái)清洗由接觸所述端面的所述磁性體產(chǎn)生的鐵系微粒子；并且 所述清洗工序的特征是將構(gòu)成所述鐵系微粒子的Fe3+還原成Fe2+離子，并通過(guò)所述Fe2+離子的雙齒以上的配位而形成絡(luò)合物。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板的制造方法，其中所述酸性化學(xué)藥液包含2種以上的化學(xué)藥液，此化學(xué)藥液含有具有螯合效果的化學(xué)藥液。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的玻璃基板的制造方法，其中所述清洗工序具備用以接觸所述端面而物理清洗所述端面的清洗工具。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玻璃基板的制造方法，其中所述具有螯合效果的化學(xué)藥液具有從Fe的正八面體的六配位的鐵離子中心起在xyz軸方向上以3 A以下的距離具有供電子基的分子構(gòu)造。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的玻璃基板的制造方法，其中所述具有螯合效果的化學(xué)藥液是選自由水楊酸、鄰苯二甲酸、乙醛酸、草酸、反丁烯二酸、順丁烯二酸、丙二酸、琥珀酸、葡萄糖酸、反式烏頭酸、丙醇二酸、乳酸、丙酮酸、檸檬酸、異檸檬酸、乙醇酸、蘋果酸、酒石酸、次氮基三乙酸、乙二胺四乙酸、羥基乙基乙二胺三乙酸、二乙三胺五乙酸、絲氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、及半胱氨酸所組成的群中的I種以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的玻璃基板的制造方法，其中所述具有螯合效果的化學(xué)藥液是選自由草酸、酒石酸及檸檬酸所組成的群中的濃度被調(diào)整為0.5wt%以上的化學(xué)藥液。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板的制造方法，其中在所述清洗工序的后工序中具有第I沖洗工序及第2沖洗工序，所述第I沖洗工序中是使用pH值3以下的化學(xué)藥液，所述第2沖洗工序中是使用pH值超過(guò)3的化學(xué)藥液。
9.一種顯示器用玻璃基板的制造方法，其包括如下工序: 成形工序，由熔融玻璃成形玻璃板； 切斷工序，將所述玻璃板切斷而形成玻璃基板； 端面處理工序,通過(guò)使包含由磁力體所保持的磁性體的研磨漿料接觸所述玻璃基板的端面而進(jìn)行鏡面研磨處理； 清洗工序，利用酸性化學(xué)藥液清洗所述端面；并且 所述端面處理工序的特征是 使用研磨輪，所述研磨輪具備:具有和旋轉(zhuǎn)軸一同旋轉(zhuǎn)的第I磁力體及第2磁力體的磁場(chǎng)形成部、和包含磁性體研磨粒及液體且被形成在所述第I磁力體和所述第2磁力體之間的磁場(chǎng)所保持的含有所述磁性體的研磨漿料， 在使所述旋轉(zhuǎn)軸進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下使含有所述磁性體的研磨漿料和所述玻璃基板的端面接觸； 所述清洗工序的特征是 為了去除在所述端面處理工序中由所述玻璃基板的端面上所附著的所述磁性體研磨粒所產(chǎn)生的鐵系微粒子，而使用pH值1.6以下的酸性化學(xué)藥液，將構(gòu)成所述鐵系微粒子的Fe3+還原成Fe2+離子，使所述Fe2+離子的2處以上進(jìn)行配位而形成絡(luò)合物。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的顯示器用玻璃基板的制造方法，其中 所述端面處理工序在所述鏡面研磨處理之前具有研削所述玻璃基板的端面的研削處理， 所述研削處理的特征是具有使用利用第I粘合劑固定有研磨粒的第I研削輪來(lái)研削所述玻璃基板的端面的第I研削處理、和 在所述第I研削處理之后使用利用硬度及剛性低于所述第I粘合劑的第2粘合劑固定有研磨粒的第2研削輪來(lái)研削所述玻璃基板的端面的第2研削處理， 所述鏡面研磨處理的特征是所述研磨漿料中的所述磁性體研磨粒的濃度為85~.95wt % ο
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示器用玻璃基板的制造方法，其中所述第I粘合劑為金屬粘合劑，所述第2粘合劑為樹(shù)脂粘合劑。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示器用玻璃基板的制造方法，其中 在所述研削處理中，所述玻璃基板的端面被研削至JIS B0601-1994所規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra成為0.2μπι以下， 在所述鏡面研磨處理中，所述玻璃基板的端面被研磨至所述算術(shù)平均粗糙度Ra小于.0.01 μ m0
【文檔編號(hào)】B08B3/08GK104070034SQ201410116911
【公開(kāi)日】2014年10月1日 申請(qǐng)日期:2014年3月26日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月26日
【發(fā)明者】三隅寶, 板倉(cāng)慧 申請(qǐng)人:安瀚視特控股株式會(huì)社