專利名稱：一種用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法。
背景技術：
內(nèi)遮蔽擋板(Shield Inner)是半導體薄膜制程設備的關鍵核心零件之一,每次使用后，底材表面會附著一層氮化鉭(TaN)，需要洗凈后才能再次使用，而洗凈的主要目的就是要去除氮化鉭層。內(nèi)遮蔽擋板為桶型結(jié)構，其內(nèi)層表面有粗糙度設計，氮化鉭附著物主要集中附著于此面；外層表面為光滑表面，該面主要功能為與半導體生產(chǎn)設備接合使用。目前，內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法是利用化學藥劑浸泡蝕刻的方式，去除表面附著的氮化鉭層；由于是附著物附著范圍大且厚，需要全面性的將內(nèi)遮蔽擋板浸泡進化學藥劑中才俱有最有效的洗凈；經(jīng)過反復多次的洗凈，內(nèi)遮蔽擋板外層表面逐漸耗損，出現(xiàn)與半導體生產(chǎn)設備接合狀況不佳的情況，進而造成內(nèi)遮蔽擋板的報廢及更換。眾所皆知的，半導體生產(chǎn)設備相關的零部件皆為國外進口，國內(nèi)本身并無制造能力，相對的，相關零部件的采購成本自然就高，又因為是國外進口所以采購時程又長，當需要大量采購時，龐大的金錢與時間的成本，都是沉重的負擔。因此，如何在洗凈過程中不對內(nèi)遮蔽擋板的外層表面造成消耗一直是本領域技術人員致力于解決的問題之一。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的，·就是針對上述問題而提供一種用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法，該洗凈方法不會對內(nèi)遮蔽擋板的外層表面造成消耗，大大延長了產(chǎn)品的使用壽命。本發(fā)明為達目的所采用的技術方案是:本發(fā)明的一種用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法，包括以下步驟:a.用膠帶對所述內(nèi)遮蔽擋板的外層表面進行纏繞遮護；b.對于上述內(nèi)遮蔽擋板外層表面上膠帶間接合區(qū)域的縫隙，采用膠水進行填補；c.將上述遮護處理過的內(nèi)遮蔽擋板浸入化學藥劑中，進行洗凈。本發(fā)明洗凈方法與現(xiàn)有方法比較，具有以下優(yōu)點:1.采用全面性的將內(nèi)遮蔽擋板浸泡進化學藥劑，內(nèi)遮蔽擋板因為有完整的遮護保護，即使經(jīng)過反復多次的洗凈，內(nèi)遮蔽擋板外層表面逐漸亦不會產(chǎn)生損耗，可大幅降低內(nèi)遮蔽擋板與半導體生產(chǎn)設備接合狀況不佳的異常；2.內(nèi)遮蔽擋板外層表面不會產(chǎn)生損耗，可有效的延長使用壽命，大幅降低新品采購成本；3.本發(fā)明方法可以有效的避免內(nèi)遮蔽擋板外層表面被化學藥劑蝕刻，可使用更高濃度的化學藥劑進行洗凈，有效的增加作業(yè)效率，大幅降低生產(chǎn)的時間成本。
具體實施例方式下面結(jié)合實施例對本發(fā)明作進一步描述:本發(fā)明用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法，包括以下步驟:a.用膠帶對所述內(nèi)遮蔽擋板的外層表面進行纏繞遮護；b.對于上述內(nèi)遮蔽擋板外層表面上膠帶間接合區(qū)域的縫隙，采用膠水進行填補；c.將上述遮護處理過的內(nèi)遮蔽擋板浸入化學藥劑中，進行洗凈即除去附著物氮化鉭；d.浸泡完成后，將膠帶去除即可。以上實施例僅供說明本發(fā)明之用，而非對本發(fā)明的限制，有關技術領域的技術人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以作出各種變換或變型，因此所有等同的技術方案也應該屬于 本發(fā)明的范疇，應由各權利要求所限定。
權利要求
1.一種用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法，其特征在于，包括以下步驟:a.用膠帶對所述內(nèi)遮蔽擋板的外層表面進行纏繞遮護；b.對于上述內(nèi)遮蔽擋板外層表面上膠帶間接合區(qū)域的縫隙，采用膠水進行填補；c.將上述遮護 處理過的內(nèi)遮蔽擋板浸入化學藥劑中，進行洗凈。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于內(nèi)遮蔽擋板的洗凈方法，包括以下步驟a.用膠帶對所述內(nèi)遮蔽擋板的外層表面進行纏繞遮護；b.對于上述內(nèi)遮蔽擋板外層表面上膠帶間接合區(qū)域的縫隙，采用膠水進行填補；c.將上述遮護處理過的內(nèi)遮蔽擋板浸入化學藥劑中，進行洗凈。本發(fā)明洗凈方法不會對內(nèi)遮蔽擋板的外層表面造成消耗，大大延長了產(chǎn)品的使用壽命。
文檔編號B08B3/08GK103240233SQ201210022560
公開日2013年8月14日 申請日期2012年2月1日 優(yōu)先權日2012年2月1日
發(fā)明者陳博剛 申請人:上?？票娮涌萍加邢薰?br>