專利名稱：液處理裝置及液處理方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過一邊使基板以保持為水平狀態(tài)的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)、一邊向該基板供給處理液來對基板進(jìn)行清洗處理、蝕刻處理、鍍處理、顯影處理等液處理的液處理裝置及液處理方法。
背景技術(shù)：
以往，作為通過一邊使半導(dǎo)體晶圓等基板(以下也稱作晶圓)以保持為水平狀態(tài)的狀態(tài)旋轉(zhuǎn)、一邊向該基板的表面、背面供給處理液來對基板進(jìn)行清洗處理、蝕刻處理、鍍處理、顯影處理等液處理的液處理裝置，公知有各種類型的裝置(例如參照專利文獻(xiàn)I等)。 在專利文獻(xiàn)I中公開有一種利用旋轉(zhuǎn)卡盤將基板保持為水平地使基板旋轉(zhuǎn)并向由旋轉(zhuǎn)卡盤保持、進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的基板的表面供給處理液這樣的、逐張?zhí)幚砘宓膯纹降囊禾幚硌b置。 另外，對于該單片式的液處理裝置公知有這樣的技術(shù)在處理室的上方設(shè)置FFU(風(fēng)機(jī)過濾單元)，自該FFU以下降流(down flow)方式將N2氣(氮?dú)?、清潔空氣等氣體輸送到處理室內(nèi)。使用圖14及圖15對在處理室的上方設(shè)有FFU的液處理裝置的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。圖 14是表示以往的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖，圖15是圖14所示的以往的液處理裝置的俯視圖。如圖14及圖15所示，以往的液處理裝置200包括用于收容晶圓W并對該被收容的晶圓W進(jìn)行液處理的處理室(腔室)210。如圖14及圖15所示，在處理室210內(nèi)設(shè)有用于保持晶圓W并使其旋轉(zhuǎn)的保持部220，在該保持部220的周圍配設(shè)有杯230。另外，在以往的液處理裝置200中，在處理室210內(nèi)設(shè)有用于從杯230的上方向保持在保持部220 上的晶圓W供給處理液的噴嘴240、及用于支承該噴嘴240的臂241。另外，在臂241上設(shè)有沿著大致鉛垂方向延伸的臂支承部242，利用該臂支承部242支承臂241。而且，臂支承部242利用未圖示的驅(qū)動機(jī)構(gòu)向正反兩方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。由此，臂241能夠以臂支承部242 為中心地向正反兩方向旋轉(zhuǎn)，該臂241在向利用保持部220保持的晶圓W供給處理液的進(jìn)入位置(參照圖15中的實(shí)線)與自杯230退避的退避位置(參照圖15中的雙點(diǎn)劃線)之間以臂支承部242為中心地旋轉(zhuǎn)移動(參照圖15中的箭頭)。另外，如圖14所示，在處理室210的上方設(shè)有FFU (風(fēng)機(jī)過濾單元)250，始終自該 FFU250以下降流方式將隊(duì)氣(氮?dú)?、清潔空氣等氣體輸送到處理室210內(nèi)。另外，在處理室210的底部設(shè)有排氣部260，利用該排氣部260對處理室210內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。 這樣，自FFU250以下降流方式向處理室210內(nèi)輸送清潔空氣等氣體，并利用排氣部260排出該氣體，從而對處理室210內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行更換。專利文獻(xiàn)I :日本特開2009-94525號公報(bào)在圖14及圖15所示的以往的液處理裝置200中，用于支承噴嘴240的臂241、用于支承該臂241的臂支承部242被設(shè)于處理室210內(nèi)。在此，在圖14及圖15所示的以往的液處理裝置200中，附著在臂241上的污垢有可能落下并附著于處理室210內(nèi)的晶圓W。 另外，在處理室210內(nèi)對晶圓W進(jìn)行液處理時，若藥液等飛散而附著于臂241，則該藥液會殘留在臂241上，在之后的晶圓W處理中有可能產(chǎn)生由該殘留的藥液的氣氛氣體導(dǎo)致晶圓 W被污染等的不良影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明即是考慮到這一點(diǎn)而做成的，其目的在于提供能夠防止由附著在用于支承噴嘴的噴嘴支承臂上的污垢污染處理室內(nèi)的基板的液處理裝置及液處理方法。本發(fā)明的液處理裝置的特征在于，包括處理室，其在內(nèi)部設(shè)有用于保持基板的基板保持部和配設(shè)在該基板保持部的周圍的杯；噴嘴，其用于向保持在上述基板保持部的基板供給流體；噴嘴支承臂，其用于支承上述噴嘴；臂清洗部，其用于對上述噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。采用該液處理裝置，由于設(shè)有用于對噴嘴支承臂進(jìn)行清洗的臂清洗部，因此，能夠通過由臂清洗部清洗噴嘴支承臂來防止由附著在噴嘴支承臂上的污垢污染處理室內(nèi)的基板。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以是上述臂清洗部在上述噴嘴支承臂移動時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。或者，也可以是上述臂清洗部在上述噴嘴支承臂處于退避位置時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。此時，也可以是上述臂清洗部具有用于收容清洗液的收容部分，在上述臂清洗部中，通過一邊使上述噴嘴支承臂的一部分接觸于被收容在上述收容部分的清洗液、一邊使該噴嘴支承臂移動，來對上述噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。另外，在上述臂清洗部中，也可以在上述噴嘴支承臂的移動方向上的比上述收容部分接近上述處理室的前方位置和比上述收容部分遠(yuǎn)離上述處理室的后方位置中的至少任意一個位置設(shè)有吸引機(jī)構(gòu)。也可以是上述臂清洗部在上述噴嘴支承臂的移動方向上的比上述收容部分遠(yuǎn)離上述處理室的后方位置具有用于向上述噴嘴支承臂噴射干燥用氣體的干燥部件。另外，也可以是上述噴嘴支承臂在其內(nèi)部具有用于向上述噴嘴輸送流體的配管， 在上述臂清洗部中，在上述噴嘴支承臂的移動方向上的比上述收容部分接近上述處理室的前方位置和比上述收容部分遠(yuǎn)離上述處理室的后方位置中的至少任意一個位置設(shè)有用于排出殘留在上述噴嘴支承臂內(nèi)的上述配管中的液體的排液部分，移動上述噴嘴支承臂而使上述噴嘴位于上述排液部分的正上方，從而將殘留在上述噴嘴支承臂內(nèi)的上述配管中的液體從上述噴嘴輸送到上述排液部分。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以還包括與上述處理室相鄰地設(shè)置的、用于供自該處理室退避的上述噴嘴支承臂待機(jī)的臂待機(jī)部。此時，也可以是上述臂清洗部以位置固定的方式設(shè)置在上述處理室中的上述杯與上述臂待機(jī)部之間的區(qū)域或者上述臂待機(jī)部。另外，也可以是在上述處理室與上述臂待機(jī)部之間設(shè)有沿鉛垂方向延伸的壁，在上述壁上設(shè)有能夠供上述噴嘴支承臂通過的開口，在上述壁上安裝有上述臂清洗部。在本發(fā)明的液處理裝置中，也可以是還包括圓筒狀的杯外周筒，該杯外周筒在上述處理室內(nèi)配設(shè)在上述杯的周圍，能夠在上方位置和下方位置之間升降，設(shè)有能夠供上述噴嘴支承臂通過的開口，上述臂清洗部設(shè)置在上述杯外周筒的外側(cè)。
本發(fā)明的液處理裝置能夠如下地構(gòu)成。即，上述噴嘴支承臂設(shè)置為，能夠沿其長度方向進(jìn)退，能夠位于使上述噴嘴處于由上述基板保持部保持的基板的上方的進(jìn)入位置和自該進(jìn)入位置后退的退避位置，上述臂清洗部具有清洗箱和干燥部件，上述清洗箱構(gòu)成為包圍位于上述退避位置的上述噴嘴支承臂的外周，在上述清洗箱中設(shè)有朝向位于上述清洗箱內(nèi)的上述噴嘴支承臂噴射清洗液的至少一個清洗液噴嘴，上述干燥部件與上述清洗箱相鄰，在上述噴嘴支承臂的進(jìn)退方向上，設(shè)置在比上述清洗箱靠前方的位置，上述干燥部件構(gòu)成為具有朝向上述噴嘴支承臂的外周面噴射干燥用氣體的氣體噴射孔，能夠通過一邊使上述噴嘴支承臂從上述退避位置朝向上述進(jìn)入位置地向前方移動、一邊自上述氣體噴射孔向上述噴嘴支承臂噴射干燥用氣體，使上述噴嘴支承臂干燥。也可以是上述干燥部件構(gòu)成為使從上述氣體噴射孔噴射出的干燥用氣體朝向上述清洗箱側(cè)流動。 也可以是在上述清洗箱內(nèi)設(shè)有用于朝向上述噴嘴支承臂的上部噴射清洗液的第I 清洗液噴嘴、及用于朝向上述噴嘴支承臂的下部噴射清洗液的第2清洗液噴嘴。本發(fā)明的液處理方法的特征在于，包括以下工序利用設(shè)置在處理室的內(nèi)部的基板保持部保持基板；使用于支承噴嘴的噴嘴支承臂進(jìn)入到上述處理室內(nèi)；利用進(jìn)入到上述處理室內(nèi)的噴嘴支承臂的噴嘴向由上述基板保持部保持的基板供給流體；利用臂清洗部， 在上述噴嘴支承臂移動時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。本發(fā)明的另一液處理方法的特征在于，包括以下工序利用設(shè)置在處理室的內(nèi)部的基板保持部保持基板；使用于支承噴嘴的噴嘴支承臂進(jìn)入到上述處理室內(nèi)；利用進(jìn)入到上述處理室內(nèi)的噴嘴支承臂的噴嘴向由上述基板保持部保持的基板供給流體；利用臂清洗部，在上述噴嘴支承臂處于退避位置時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。采用本發(fā)明的液處理裝置和液處理方法，能夠防止由附著在用于支承噴嘴的噴嘴支承臂上的污垢污染處理室內(nèi)的基板。


圖I是從上方看包含本發(fā)明的實(shí)施方式的液處理裝置的液處理系統(tǒng)的俯視圖。圖2是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖3是表示圖2所示的液處理裝置的側(cè)視圖。圖4是表示圖2所示的液處理裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的縱剖視圖，是表示杯外周筒處于下方位置時的狀態(tài)的圖。圖5是表示圖2所示的液處理裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的縱剖視圖，是表示杯外周筒處于上方位置時的狀態(tài)的圖。圖6A的(a)是表示圖4等所示的液處理裝置中的設(shè)置于保持板的保持構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的放大縱剖視圖，圖6A的(b)是表示升降銷板自圖6A的(a)所示的狀態(tài)向下方移動后的狀態(tài)的放大縱剖視圖，圖6A的(c)是表示升降銷板自圖6A的(b)所示的狀態(tài)進(jìn)一步向下方移動后的狀態(tài)的放大縱剖視圖。圖6B是表示圖4等所示的液處理裝置中的杯外周筒的結(jié)構(gòu)的立體圖。圖7是表示圖2等所示的液處理裝置中的處理室和6個噴嘴支承臂的立體圖。圖8是圖7所示的噴嘴支承臂的放大立體圖。
圖9是表示從圖7等所示的各噴嘴支承臂的后方朝向處理室看這些噴嘴支承臂時的結(jié)構(gòu)的圖。圖10是表示圖7等所示的噴嘴支承臂的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖。圖11是表示臂清洗部的另一實(shí)施方式的側(cè)剖視圖和縱剖視圖。圖12是表示圖11所示的臂清洗部的清洗液供給噴嘴的另一例子的剖視圖。圖13是表示圖10所示的臂清洗部的變形例的側(cè)剖視圖。圖14是表示以往的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。圖15是圖14所示的以往的液處理裝置的俯視圖。
具體實(shí)施例方式下面，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。圖I 圖10是表示本實(shí)施方式的液處理裝置的圖。更詳細(xì)地講，圖I是從上方看包含本發(fā)明的實(shí)施方式的液處理裝置的液處理系統(tǒng)的俯視圖。另外，圖2是表示本發(fā)明的實(shí)施方式的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的俯視圖，圖3 是表示圖2所示的液處理裝置的概略結(jié)構(gòu)的側(cè)視圖。另外，圖4及圖5是表示圖2所示的液處理裝置的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的縱剖視圖。另外，圖6A是表示圖4等所示的液處理裝置中的設(shè)置于保持板的保持構(gòu)件的結(jié)構(gòu)的放大縱剖視圖，圖6B是表示圖4等所示的液處理裝置中的杯外周筒的結(jié)構(gòu)的立體圖。另外，圖7 圖10是表示設(shè)置在圖2等所示的液處理裝置中的噴嘴支承臂的結(jié)構(gòu)的圖。首先，使用圖I說明包含本實(shí)施方式的液處理裝置的液處理系統(tǒng)。如圖I所示，液處理系統(tǒng)包括用于從外部載置收容有作為被處理基板的半導(dǎo)體晶圓等基板W(以下也稱作晶圓W)的載體的載置臺101、用于取出收容在載體中的晶圓W的輸送臂102、用于載置由輸送臂102取出的晶圓W的架單元103、及用于接受載置在架單元103上的晶圓W并將該晶圓W輸送到液處理裝置10內(nèi)的輸送臂104。如圖I所示，在液處理系統(tǒng)中設(shè)有多個(在圖 I所示的形態(tài)中是4個)液處理裝置10。接著，使用圖2及圖3說明本實(shí)施方式的液處理裝置10的概略結(jié)構(gòu)。如圖2及圖3所示，本實(shí)施方式的液處理裝置10包括用于收容晶圓W并對該被收容的晶圓W進(jìn)行液處理的處理室(腔室)20。如圖3所示，在處理室20內(nèi)設(shè)有用于以水平狀態(tài)保持晶圓W并使其旋轉(zhuǎn)的保持部(基板保持部)21，在該保持部21的周圍配設(shè)有環(huán)狀的旋轉(zhuǎn)杯40。另外，如圖2及圖3所示，在處理室20內(nèi)，在旋轉(zhuǎn)杯40的周圍配設(shè)有圓筒狀的杯外周筒50。如后所述，該杯外周筒50能夠與晶圓W的處理狀況相應(yīng)地升降。該保持部
21、旋轉(zhuǎn)杯40和杯外周筒50的詳細(xì)結(jié)構(gòu)見后述。另外，在液處理裝置10中設(shè)有用于從被保持于保持部21的晶圓W的上方向該晶圓W供給處理液、N2氣等流體的噴嘴82a、及用于支承該噴嘴82a的噴嘴支承臂82。如圖2 所示，在I個液處理裝置10中設(shè)有多個(具體地講，例如6個)噴嘴支承臂82，在各噴嘴支承臂82的頂端設(shè)有噴嘴82a。另外，如圖3所示，在各噴嘴支承臂82上設(shè)有臂支承部84， 各臂支承部84利用后述的臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85向圖3中的左右方向驅(qū)動。由此，各噴嘴支承臂 82在噴嘴82a進(jìn)入到處理室20內(nèi)的進(jìn)入位置與噴嘴82a自處理室20退避的退避位置之間沿著水平方向進(jìn)行直線運(yùn)動(參照圖2及圖3中的設(shè)于各噴嘴支承臂82的箭頭)。另外， 如圖3所示，在各噴嘴支承臂82中設(shè)有表面處理液供給管82m，各表面處理液供給管82m連接于表面處理液供給部89。于是，自表面處理液供給部89經(jīng)由各表面處理液供給管82m向各噴嘴支承臂82的噴嘴82a供給處理液、N2氣等流體。如圖2及圖3所示，在液處理裝置10中，臂待機(jī)部80與處理室20相鄰地設(shè)置。在該臂待機(jī)部80中，自處理室20退避的噴嘴支承臂82待機(jī)。另外，在臂待機(jī)部80與處理室 20之間設(shè)有沿著鉛垂方向延伸的壁90。該壁90具有臂清洗部88，該臂清洗部88設(shè)有能夠供各噴嘴支承臂82通過的開口 88p。利用該臂清洗部88對各噴嘴支承臂82進(jìn)行清洗。 臂清洗部88的詳細(xì)結(jié)構(gòu)見后述。另外，如圖3所示，在處理室20的上方設(shè)有FFU(風(fēng)機(jī)過濾單元)70，自該FFU70以下降流方式向處理室20內(nèi)輸送N2氣(氮?dú)?、清潔空氣等氣體。另外，如圖2及圖3所示， 在處理室20的底部的位于杯外周筒50的內(nèi)側(cè)的部分設(shè)有排氣部54，利用該排氣部54對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。這樣，自FFU 70以下降流方式向處理室20內(nèi)輸送清潔空氣等氣體，并利用該排氣部54排出該氣體，從而對處理室210內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行更換。另外，如圖2及圖3所示，在處理室20的底部的位于杯外周筒50的外側(cè)的部分設(shè)有排氣部56，利用該排氣部56對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。利用該排氣部56，能夠?qū)μ幚硎?0內(nèi)的杯外周筒50外側(cè)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。具體地講，利用排氣部56，能夠抑制臂待機(jī)部80內(nèi)的氣氛進(jìn)入到杯外周筒50內(nèi)。另外，利用該排氣部56，能夠抑制杯外周筒50內(nèi)的氣氛溢出到臂待機(jī)部80中。另外，如圖2及圖3所示，在臂待機(jī)部80的底部設(shè)有排氣部58，利用該排氣部58 對臂待機(jī)部80內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。具體地講，能夠利用排氣部58抽出自用于驅(qū)動各噴嘴支承臂82的臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85 (見后述)產(chǎn)生的微粒。另外，如圖2所示，在液處理裝置10的處理室20的出入口及液處理裝置10的臂待機(jī)部80的出入口分別設(shè)有維護(hù)用的閘門(shutter) 60、62。通過在處理室20和臂待機(jī)部 80分別設(shè)有維護(hù)用的閘門60、62，能夠單獨(dú)地維護(hù)該處理室20內(nèi)、臂待機(jī)部80內(nèi)的設(shè)備。 另外，即使是在處理室20內(nèi)正在處理晶圓W的過程中，也能夠通過打開閘門62來維護(hù)臂待機(jī)部80內(nèi)的設(shè)備。另外，如圖2所示，在液處理裝置10的側(cè)壁設(shè)有用于利用輸送臂104將晶圓W搬入到處理室20內(nèi)、或者將晶圓W自處理室20搬出的開口 94a，在該開口 94a設(shè)有用于開閉該開口 94a的閘門94。另外，在圖2所示的液處理裝置10中，處理室20內(nèi)的杯外周筒50的內(nèi)部的區(qū)域相對于無塵室(clean room)成為微正壓,另一方面,處理室20內(nèi)的杯外周筒50的外側(cè)的區(qū)域相對于無塵室成為微負(fù)壓。因此，在處理室20內(nèi)，杯外周筒50的內(nèi)部的區(qū)域的氣壓大于杯外周筒50的外側(cè)的區(qū)域的氣壓。接著，使用圖4及圖5說明圖2及圖3所示的液處理裝置10的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。如圖4及圖5所示，保持部21包括用于保持晶圓W的圓板形狀的保持板26、及設(shè)置在保持板26的上方的圓板形狀的升降銷板22。在升降銷板22的上表面，在周向上等間隔地設(shè)有3個用于從下方支承晶圓W的升降銷23。另外，在圖4及圖5中僅表示了兩個升降銷23。另外，在升降銷板22上設(shè)有活塞機(jī)構(gòu)24，利用該活塞機(jī)構(gòu)24使升降銷板22升降。 更具體地講，在利用輸送臂104(參照圖I)將晶圓W載置在升降銷23上、或者將晶圓W從升降銷23上取下時，利用活塞機(jī)構(gòu)24使升降銷板22從圖4等所示的位置移動到上方，使該升降銷板22位于比旋轉(zhuǎn)杯40靠上方的位置。另一方面，在處理室20內(nèi)對晶圓W進(jìn)行液處理時，利用活塞機(jī)構(gòu)24使升降銷板22移動到圖4等所示的下方位置，使旋轉(zhuǎn)杯40位于晶圓W的周圍。在保持板26上，在周向上等間隔地設(shè)有3個用于從側(cè)方支承晶圓W的保持構(gòu)件
25。另外，在圖4及圖5中僅表示了兩個保持構(gòu)件25。在升降銷板22從上方位置移動到圖 4及圖5所示的下方位置時，各保持構(gòu)件25支承該升降銷23上的晶圓W，使該晶圓W自升降銷23稍稍分開。使用圖6A進(jìn)一步詳細(xì)地說明升降銷板22和保持板26的結(jié)構(gòu)。在圖6A中，圖6A 的(a)是表示升降銷板22從上方位置向圖4等所示的下方位置移動的中途的狀態(tài)的圖，圖 6A的(b)是表示升降銷板22自圖6A的(a)所示的狀態(tài)向下方移動后的狀態(tài)的圖，圖6A的 (c)是表示升降銷板22自圖6A的(b)的狀態(tài)進(jìn)一步向下方移動，升降銷板22到達(dá)圖4等所示的下方位置時的狀態(tài)的圖。
如圖6A所示，保持構(gòu)件25借助軸25a軸支承在保持板26上。更詳細(xì)地講，如圖 6A所示，在保持板26上安裝有軸承部26a，在設(shè)置于該軸承部26a的軸承孔26b中插入軸 25a。軸承孔26b由沿著水平方向延伸的細(xì)長的孔構(gòu)成，保持構(gòu)件25的軸25a能夠沿著該軸承孔26b在水平方向上移動。這樣，保持構(gòu)件25能夠以插入在軸承部26a的軸承孔26b 中的軸25a為中心地?cái)[動。在保持構(gòu)件25的軸25a上卷掛有扭轉(zhuǎn)彈簧等彈簧構(gòu)件25d。該彈簧構(gòu)件25d對保持構(gòu)件25施加使保持構(gòu)件25以軸25a為中心地向圖6A中的順時針方向旋轉(zhuǎn)的力。由此,在未對保持構(gòu)件25施加任何的力的情況下,保持構(gòu)件25相對于保持板26成為傾斜的狀態(tài)，保持構(gòu)件25中的用于從側(cè)方支承晶圓W的支承部分25b(見后述)成為遠(yuǎn)離保持板 26的中心的狀態(tài)。另外，自卷掛在軸25a上的彈簧構(gòu)件25d伸出有線狀部分，該線狀部分卡定于軸承部26a的內(nèi)壁面26c，將軸25a推回向保持板26的中心。這樣，利用彈簧構(gòu)件25d的線狀部分始終將軸25a朝向保持板26的中心(即朝向圖6A中的左方)按壓。因此，在利用保持構(gòu)件25保持直徑較小的晶圓W的情況下，如圖6A所示，軸25a位于軸承孔26b中的接近保持板26的中心的位置(即圖6A中的左側(cè)位置)。另一方面，在利用保持構(gòu)件25保持直徑較大的晶圓W的情況下，軸25a克服彈簧構(gòu)件25d的線狀部分的力沿著軸承孔26b從圖6A 所示的位置向右方移動。另外，這里的晶圓W的直徑大小是指容許尺寸誤差內(nèi)的晶圓W的直徑大小。另外，保持構(gòu)件25具有用于從側(cè)方支承晶圓W的支承部分25b、及相對于軸25a設(shè)置在支承部分25b的相反側(cè)的被按壓構(gòu)件25c。被按壓構(gòu)件25c設(shè)置在升降銷板22與保持板26之間，如圖6A所示，在升降銷板22處于下方位置或者下方位置的附近位置時，該被按壓構(gòu)件25c被升降銷板22的下表面朝向下方按壓。如圖6A所示，在升降銷板22從上方位置移動到下方位置時，被按壓構(gòu)件25c被該升降銷板22的下表面向下方按壓，從而保持構(gòu)件25以軸25a為中心地向圖6A中的逆時針方向(圖6A中的箭頭方向)旋轉(zhuǎn)。于是，保持構(gòu)件25以軸25a為中心地旋轉(zhuǎn)，從而支承部分25b朝向晶圓W地從該晶圓W的側(cè)方移動過來。由此，升降銷板22到達(dá)下方位置時，如圖6A的(c)所示，利用保持構(gòu)件25從側(cè)方支承晶圓W。在此，如圖6A的(c)所示，在晶圓W被保持構(gòu)件25從側(cè)方支承時，該晶圓W自升降銷23的頂端向上方分開，成為自升降銷23 向上方浮起的狀態(tài)。另外，如上所述，根據(jù)晶圓W的尺寸，也存在軸25a克服彈簧構(gòu)件25d 的線狀部分的力沿著軸承孔26b從圖6A所示的位置向右方移動的情況。因此，即使在利用保持構(gòu)件25支承比較大的晶圓W的情況下，由于保持構(gòu)件25能夠向水平方向移動，因此， 也能夠不會使晶圓W變形或者破損地從側(cè)方支承晶圓W。另外，在升降銷板22和保持板26的中心部分分別形成有通孔，以穿過上述通孔的方式設(shè)有處理液供給管28。該處理液供給管28向利用保持板26的各保持構(gòu)件25保持的晶圓W的背面供給藥液、純水等處理液。另外，處理液供給管28與升降銷板22連動地升降。 在處理液供給管28的上端形成有以堵塞升降銷板22的通孔的方式設(shè)置的頭部分28a。另外，如圖4等所示，在處理液供給管28上連接有處理液供給部29，利用該處理液供給部29 向處理液供給管28供給處理液。如圖4及圖5所示，在保持部21的周圍配設(shè)有環(huán)狀的旋轉(zhuǎn)杯40。該旋轉(zhuǎn)杯40安裝在保持板26上,與保持板26 —體旋轉(zhuǎn)。更詳細(xì)地講,旋轉(zhuǎn)杯40以從側(cè)方包圍由保持板 26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W的方式設(shè)置，在對晶圓W進(jìn)行液處理時接收自該晶圓W向側(cè)方飛散的處理液。另外，在旋轉(zhuǎn)杯40的周圍從上方依次設(shè)有排液杯42、第I引導(dǎo)杯43、第2引導(dǎo)杯 44和第3引導(dǎo)杯45。排液杯42及各引導(dǎo)杯43、44、45分別形成為環(huán)狀。在此，排液杯42 在處理室20中固定。另一方面，在各引導(dǎo)杯43、44、45上連結(jié)有升降作動缸(未圖示)，這些引導(dǎo)杯43、44、45利用對應(yīng)的升降作動缸互相獨(dú)立地升降自如。如圖4及圖5所示，在排液杯42、各引導(dǎo)杯43、44、45的下方分別設(shè)有第I處理液回收用容器(tank) 46a、第2處理液回收用容器46b、第3處理液回收用容器46c及第4處理液回收用容器46d。并且,根據(jù)各引導(dǎo)杯43、44、45在上下方向上的位置,在對晶圓W進(jìn)行液處理時，自該晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被基于該處理液的種類選擇性地輸送到4個處理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的一個處理液回收用容器中。具體地講，在所有的引導(dǎo)杯43、44、45全部處于上方位置時(圖4及圖5所示的狀態(tài))，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第4處理液回收用容器46d中。另一方面,在僅有第3引導(dǎo)杯45處于下方位置時，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第3處理液回收用容器46c中。另外，在第 2引導(dǎo)杯44和第3引導(dǎo)杯45處于下方位置時，自晶圓W飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第2 處理液回收用容器46b中。另外,在所有的引導(dǎo)杯43、44、45都處于下方位置時，自晶圓W 飛散到側(cè)方的處理液被輸送到第I處理液回收用容器46a中。另外，如圖4及圖5所示，在第4處理液回收用容器46d的內(nèi)側(cè)設(shè)有排氣部48。于是，通過使各引導(dǎo)杯43、44、45在上下方向上的位置為規(guī)定位置，利用排氣部48對晶圓W周圍的氣氛氣體進(jìn)行排氣。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，在處理室20內(nèi)，在排液杯42、各引導(dǎo)杯 43、44、45的周圍設(shè)有杯外周筒50。該杯外周筒50能夠在圖4所示的下方位置與圖5所示的上方位置之間升降。另外，如圖2及圖3所示，在杯外周筒50上設(shè)有能夠供噴嘴支承臂 82通過的開口 50m。杯外周筒50處于圖5所不的上方位置時,將杯外周筒50內(nèi)的區(qū)域相對于外部隔尚。使用圖6B說明該杯外周筒50的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。圖6B是表不杯外周筒50的結(jié)構(gòu)的立體圖。如圖6B所示，在杯外周筒50的側(cè)面，與噴嘴支承臂82的根數(shù)相應(yīng)地設(shè)有能夠供噴嘴支承臂82通過的開口 50m(例如在噴嘴支承臂82為6根的情況下設(shè)有6個開口 50m)。另外，在杯外周筒50的上部連結(jié)有用于支承該杯外周筒50的支承構(gòu)件50a,在支承構(gòu)件50a 上設(shè)有用于使該支承構(gòu)件50a升降的驅(qū)動機(jī)構(gòu)50b。于是，通過利用驅(qū)動機(jī)構(gòu)50b使支承構(gòu)件50a升降，支承在該支承構(gòu)件50a上的杯外周筒50也會升降。另外，如圖4及圖5所示，在FFU70上安裝有引導(dǎo)構(gòu)件51。如圖5所示，在杯外周筒50處于上方位置時，該引導(dǎo)構(gòu)件51以位于稍稍向內(nèi)側(cè)自該杯外周筒50隔開距離的位置的方式配置。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，如圖5所示，在杯外周筒50處于上方位置時，杯外周筒50內(nèi)的氣壓大于杯外周筒50外側(cè)的氣壓。因此,在杯外周筒50處于上方位置時，利用FFU70生成的處理室20內(nèi)的下降流的氣體在杯外周筒50的上端附近被引導(dǎo)構(gòu)件51從該杯外周筒50的內(nèi)側(cè)引導(dǎo)到外側(cè)。另外，如圖4及圖5所示，在處理室20內(nèi)設(shè)有用于清洗杯外周筒50的清洗部52。 該清洗部52具有用于積存純水等清洗液的積存部分52a，如圖4所示，在杯外周筒50處于下方位置時，該杯外周筒50浸入到積存于積存部分52a的清洗液中。在清洗部52中，通過將杯外周筒50浸入到積存于積存部分52a的清洗液中，對該杯外周筒50進(jìn)行清洗。作為積存于積存部分52a的清洗液，例如采用室溫以上的、優(yōu)選為40°C以上、更優(yōu)選為60°C以上的純水等。在積存于積存部分52a的清洗液的溫度較高的情況下，對于杯外周筒50的清洗效果更大。如圖4所不，在杯外周筒50處于下方位置時,該外周筒50的大部分浸入到積存于積存部分52a的清洗液中。另外，如圖5所不，在杯外周筒50處于上方位置時,該外周筒50 的下部也浸入到積存于積存部分52a的清洗液中。因此，在杯外周筒50處于上方位置時， 在積存于積存部分52a的清洗液與杯外周筒50的下部之間進(jìn)行水密封，并且，由于杯外周筒50的上部與引導(dǎo)構(gòu)件51之間較窄，因此，能夠?qū)⒈庵芡?0內(nèi)的區(qū)域與外部隔離。另外，如圖4及圖5所示，在處理室20內(nèi)，在清洗部52的內(nèi)側(cè)設(shè)有用于對處理室 20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣的排氣部54，而且，在清洗部52的外側(cè)設(shè)有用于對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣的排氣部56。通過設(shè)置該排氣部54和排氣部56，在杯外周筒50處于圖4所示的下方位置時，能夠利用該排氣部54和排氣部56對整個處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。另一方面，在杯外周筒50處于圖5所示的上方位置時，杯外周筒50內(nèi)的區(qū)域與外部隔離，因此，能夠利用排氣部54對杯外周筒50內(nèi)部的氣氛氣體進(jìn)行排氣，而且，能夠利用排氣部56對杯外周筒50外側(cè)的氣氛氣體進(jìn)行排氣。如上所述，在本實(shí)施方式中，在I個液處理裝置10中設(shè)有多個(具體地講例如為 6個)噴嘴支承臂82，在各噴嘴支承臂82的頂端設(shè)有噴嘴82a。具體地講，各噴嘴82a分別用于將第I藥液(具體地講例如是酸性的藥液)、第2藥液(具體地講例如是堿性的藥液)、純水、N2氣、IPA(異丙基乙醇)、純水的噴霧(mist)供給到晶圓W的上表面。下面，使用圖7 圖10詳細(xì)說明本實(shí)施方式的噴嘴支承臂82的結(jié)構(gòu)。在此，圖7 是表示圖2等所示的液處理裝置10中的處理室20和6個噴嘴支承臂82p 82u的立體圖， 圖8是表不圖7所不的各噴嘴支承臂82p 82u的放大立體圖。另外，圖9是表不從圖7 等所示的各噴嘴支承臂82p 82u的后方朝向處理室20看這些噴嘴支承臂82p 82u時的結(jié)構(gòu)的圖，圖10是表示圖7等所示的各噴嘴支承臂82p 82u的詳細(xì)結(jié)構(gòu)的側(cè)剖視圖。
如圖7所示，6個噴嘴支承臂82例如由純水供給用臂82p、第I藥液供給用臂82q、 N2氣供給用臂82r、第2藥液供給用臂82s、純水的噴霧供給用臂82t和IPA供給用臂82u 構(gòu)成。如上所述，在這些噴嘴支承臂82p 82u的頂端設(shè)有噴嘴82a。這樣，自設(shè)置在純水供給用臂82p的頂端的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給純水，自設(shè)置在第I藥液供給用臂 82q的頂端的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給第I藥液(具體地講例如是酸性的藥液)，自設(shè)置在N2氣供給用臂82r的頂端的噴嘴82a向晶圓的上表面供給N2氣。另外，自設(shè)置在第 2藥液供給用臂82s的頂端的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給第2藥液(具體地講例如是堿性的藥液)，自設(shè)置在純水的噴霧供給用臂82t的頂端的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給純水的噴霧，自設(shè)置在IPA供給用臂82u的頂端的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給IPA。如圖8及圖10所示，在各噴嘴支承臂82上設(shè)有用于使該噴嘴支承臂82直線運(yùn)動的臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85。臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85具有安裝于基底構(gòu)件85d的向正反兩方向旋轉(zhuǎn)的電動機(jī) 85a、與電動機(jī)85a相對地安裝于基底構(gòu)件85d的皮帶輪85b、卷掛在電動機(jī)85a和皮帶輪 85b上的循環(huán)帶85c、及安裝于循環(huán)帶85c的帶安裝構(gòu)件85e。在此,帶安裝構(gòu)件85e安裝在用于支承噴嘴支承臂82的臂支承部84的下部，帶安裝構(gòu)件85e和臂支承部84 —體移動。 于是，在該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85中，通過電動機(jī)85a旋轉(zhuǎn)，循環(huán)帶85c向圖10中的右方或者左方移動，安裝于該循環(huán)帶85c的帶安裝構(gòu)件85e向圖10中的右方或者左方移動，從而臂支承部84向圖10中的左右方向進(jìn)行直線運(yùn)動。這樣，支承于臂支承部84的噴嘴支承臂82也向圖10中的左右方向進(jìn)行直線運(yùn)動。在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85設(shè)置在處理室20的外部，從而能夠抑制自該臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85產(chǎn)生的灰塵(日語5 ^ )等進(jìn)入到處理室20內(nèi)。另外，能夠抑制處理室20內(nèi)的氣氛到達(dá)臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85。另外，如圖9所示，上述6個臂82p 82u中的、純水供給用臂82p、N2氣供給用臂82r和純水的噴霧供給用臂82t設(shè)置在相同的高度水平。更具體地講，在圖9中，這些臂 82p、82r、82t設(shè)置在由圖9中的雙點(diǎn)劃線A圍成的區(qū)域的高度水平。另一方面，上述6個臂82p 82u中的、第I藥液供給用臂82q、第2藥液供給用臂82s和IPA供給用臂82u也設(shè)置在相同的高度水平。更具體地講，在圖9中，這些臂82q、82s、82u設(shè)置在由圖9中的雙點(diǎn)劃線B圍成的區(qū)域的高度水平。于是，如圖9所示，純水供給用臂82p、N2氣供給用臂82r 和純水的噴霧供給用臂82t分別設(shè)置在比第I藥液供給用臂82q、第2藥液供給用臂82s和 IPA供給用臂82u高的位置。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，在高度水平互不相同的多個臂82p 82u 同時進(jìn)入到處理室20內(nèi)時，臂相互間不會沖突或者干涉。在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，在對晶圓W進(jìn)行干燥處理時，在處理室20內(nèi)向由保持部21保持的晶圓W供給IPA之后，向該晶圓W中的供給有IPA的部位供給N2氣。在這種情況下，N2氣供給用臂82r和IPA供給用臂82u同時進(jìn)入到處理室20內(nèi)。在此，如上所述，N2氣供給用臂82r和IPA供給用臂82u的高度水平互不相同。更詳細(xì)地講，相對于N2 氣供給用臂82r設(shè)置在由圖9中的雙點(diǎn)劃線A圍成的區(qū)域的高度水平，IPA供給用臂82u設(shè)置在由圖9中的雙點(diǎn)劃線B圍成的區(qū)域的高度水平。并且，在處理室20內(nèi)使該IPA供給用臂82u和N2氣供給用臂82r移動，以相對于晶圓W上的自設(shè)置于IPA供給用臂82u的噴嘴82a噴射IPA的區(qū)域，晶圓W上的自設(shè)置于N2氣供給用臂82r的噴嘴82a噴射N2的區(qū)域追隨其后。此時，由于N2氣供給用臂82r和IPA 供給用臂82u的高度水平互不相同，因此，上述臂82r、82u不會互相干涉。這樣，在自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的IPA供給用臂82u的噴嘴82a向晶圓W供給了 IPA之后，能夠自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的N2氣供給用臂82r的噴嘴82a向該晶圓W中的供給有IPA的部
位供給N2氣。另外，作為另一例子，在利用酸性、堿性的藥液對晶圓W進(jìn)行處理時，在處理室20 內(nèi)向由保持部21保持的晶圓W供給藥液之后，不中斷地繼續(xù)向晶圓W供給純水來進(jìn)行沖洗處理。在這種情況下，第I藥液供給用臂82q(或者第2藥液供給用臂82s)和純水供給用臂82p同時進(jìn)入到處理室20內(nèi)。在此，如上所述，純水供給用臂82p和第I藥液供給用臂 82q(或者第2藥液供給用臂82s)的高度水平互不相同。更詳細(xì)地講，相對于純水供給用臂 82p設(shè)置在由圖9中的雙點(diǎn)劃線A圍成的區(qū)域的高度水平，第I藥液供給用臂82q(或者第 2藥液供給用臂82s)設(shè)置在由圖9中的雙點(diǎn)劃線B圍成的區(qū)域的高度水平。并且，在處理室20內(nèi)使該純水供給用臂82p和第I藥液供給用臂82q(或者第2 藥液供給用臂82s)移動，以在向由保持部21保持的晶圓W供給了藥液之后不中斷地繼續(xù)向該晶圓W供給純水。此時，由于純水供給用臂82p和第I藥液供給用臂82q(或者第2藥液供給用臂82s)的高度水平互不相同，因此，這些臂82p、82q(或者臂82p、82s)不會互相干涉。這樣，在自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的第I藥液供給用臂82q(或者第2藥液供給用臂82s)的噴嘴82a向晶圓W供給了藥液之后，能夠自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的純水供給用臂82p的噴嘴82a不中斷地繼續(xù)供給純水來來進(jìn)行沖洗處理。如圖10所示，各臂82p 82u是雙重配管構(gòu)造。更具體地講,各臂82p 82u由內(nèi)部配管82b和外部配管82c構(gòu)成。內(nèi)部配管82b連通于噴嘴82a，自該內(nèi)部配管82b向噴嘴82a輸送流體。內(nèi)部配管82b例如由氟系樹脂構(gòu)成。另外，內(nèi)部配管82b被外部配管 82c覆蓋，該外部配管82c例如由在不銹鋼管上涂敷氟系樹脂而成的管件構(gòu)成。另外，如圖8及圖10等所示，在各臂82p 82u的后端側(cè)的這些臂82p 82u外側(cè)分別設(shè)有連通于各內(nèi)部配管82b的螺旋形狀配管83p 83u。各螺旋形狀配管83p 83u 由撓性材料形成。具體地講，各螺旋形狀配管83p 83u例如由氟系樹脂等的管彎曲成螺旋形狀而成的管件構(gòu)成。如圖7、圖8及圖10所示,各螺旋形狀配管83p 83u構(gòu)成為,在對應(yīng)的臂82p 82u處于退避位置時，在與這些臂82p 82u所延伸的方向正交的平面(即沿著鉛垂方向延伸的平面)上成為螺旋形狀。于是，通過向各螺旋形狀配管83p 83u中輸送藥液等流體，經(jīng)由設(shè)置在各臂82p 82u內(nèi)部的內(nèi)部配管82b自噴嘴82a向下方噴射流體。另外，由于各螺旋形狀配管83p 83u由撓性材料構(gòu)成，因此，在對應(yīng)的臂82p 82u 進(jìn)入到處理室20內(nèi)的情況下，螺旋形狀配管83p 83u自圖8所示的螺旋形狀變形，成為圓錐螺旋形狀(頂端逐漸變細(xì)的螺旋形狀)。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，各臂82p 82u能夠以沿著該臂82p 82u的移動方向的長度方向軸線為中心地旋轉(zhuǎn)。具體地講，如圖8所示，在各臂82p 82u 上設(shè)有旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86，利用該旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86，各臂82p 82u向圖8中的箭頭方向旋轉(zhuǎn)。通過使各臂82p 82u旋轉(zhuǎn)，能夠?qū)娮?2a的朝向從圖10所示的朝下變?yōu)槠渌较颉Ａ硗猓?由于各螺旋形狀配管83p 83u成為螺旋形狀，并由撓性材料形成，因此，即使在利用旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86使各臂82p 82u旋轉(zhuǎn)的情況下，對應(yīng)的螺旋形狀配管83p 83u也會與臂82p 82u的旋轉(zhuǎn)相配合地順暢地變形，臂82p 82u的旋轉(zhuǎn)不會被各螺旋形狀配管83p 83u所妨礙。在利用噴嘴82a向保持于保持部21的晶圓W供給流體時，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86選擇性地使支承該噴嘴82a的臂82p 82u以長度方向軸線為中心地旋轉(zhuǎn)。具體地講，在噴嘴82a 接近保持于保持部21的晶圓W的周緣部時，臂82p 82u旋轉(zhuǎn)使該噴嘴82a的朝向傾斜朝下地傾斜。由此，在保持于保持部21的晶圓W的周緣部，通過自噴嘴82a向斜下方噴射流體，能夠抑制從噴嘴82a供給到晶圓W的流體、具體地講是藥液等流體在晶圓W的周緣部上的液體飛灘。這樣，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86在噴嘴82a位于晶圓W的中心的情況和噴嘴82a位于晶圓 W的周緣部的情況下，能夠改變噴嘴82a的朝向。另外，在各臂82p 82u在進(jìn)入位置與退避位置之間移動時，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86使臂 82p 82u以長度方向軸線為中心地旋轉(zhuǎn)，以使噴嘴82a是除朝下之外的朝向、具體地講例如朝上。由此，在使臂82p 82u移動時，能夠防止藥液等液體自噴嘴82a滴落。另外，如圖7及圖10所示，在各臂82p 82u上，針對每個臂82p 82u以位置固定的方式設(shè)有用于清洗這些臂82p 82u的臂清洗部88。各臂清洗部88分別在對應(yīng)的臂 82p 82u移動時清洗該臂82p 82u。由該各臂清洗部88清洗各臂82p 82u的時機(jī)能夠自由地設(shè)定，具體地講，對各臂82p 82u的清洗例如每次處理都進(jìn)行,或者一天一次或一個月一次地進(jìn)行。使用圖10說明臂清洗部88的詳細(xì)結(jié)構(gòu)。如圖10所示，在臂清洗部88中，以向水平方向(圖10中的左右方向)延伸的方式設(shè)有供噴嘴支承臂82(82p 82u)通過的通孔。 該通孔的截面稍稍大于噴嘴支承臂82的截面。另外，在該通孔中設(shè)有用于收容清洗液的收容部分88a。另外，在收容部分88a上連接有清洗液供給管88b，自清洗液供給管88b向收容部分88a中供給清洗液。向收容部分88a供給清洗液時，在該收容部分88a內(nèi)，在噴嘴支承臂82的外周面上覆蓋有液膜。于是，在臂清洗部88中，一邊使噴嘴支承臂82(82p 82u) 的一部分接觸于收容在收容部分88a中的清洗液、一邊使該噴嘴支承臂82移動，從而對噴嘴支承臂82進(jìn)行清洗。另外，在臂清洗部88中，在噴嘴支承臂82的移動方向(圖10中的左右方向)上的與收容部分88a相比接近處理室20的前方位置及與收容部分88a相比遠(yuǎn)離處理室20的后方位置分別設(shè)有吸引機(jī)構(gòu)88c、88d。該吸引機(jī)構(gòu)88c、88d用于吸引在收容于收容部分88a 中的清洗液自該收容部分88a泄漏到外部時所泄漏的那部分的清洗液并將其排出。另外， 吸引機(jī)構(gòu)未必一定在收容部分88a的在噴嘴支承臂82的移動方向上的前方位置及后方位置都設(shè)置，取而代之，也可以僅在收容部分88a的在噴嘴支承臂82的移動方向上的前方位置或者后方位置中的任一個位置上設(shè)有吸引機(jī)構(gòu)。另外，在噴嘴支承臂82被清洗之后，通過利用吸引機(jī)構(gòu)88c、88d吸引附著在該噴嘴支承臂82上的液滴，來對噴嘴支承臂82進(jìn)行干燥。另外，在臂清洗部88中，在收容部分88a的在噴嘴支承臂82的移動方向上的后方位置設(shè)有用于將殘留在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中的藥液等液體排出的排液部分 88e。另外，在排液部分88e上連接有排液管88f，利用排液管88f排出被輸送到排液部分 88e中的液體。于是，移動噴嘴支承臂82而使噴嘴82a位于排液部分88e的正上方，從而自噴嘴82a向排液部分88e排出殘留在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中的藥液等液體。通過設(shè)置該排液部分88e，在對晶圓W的液處理結(jié)束之后，即使在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管 82b中殘留液體的情況下，在使用設(shè)置于該噴嘴支承臂82的噴嘴82a進(jìn)行接下來的液處理時，也能夠預(yù)先將殘留在內(nèi)部配管82b中的液體自該內(nèi)部配管82b排出。特別是，在自噴嘴 82a向晶圓W供給高溫的藥液等時，殘留在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中的液體變涼的情況較多，因此，期望利用排液部分88e預(yù)先將該殘留的變涼的液體自內(nèi)部配管82b排出。另外，排液部分88e也可以不設(shè)置在收容部分88a的在噴嘴支承臂82的移動方向上的后方位置，而設(shè)置在收容部分88a的前方位置。在這種情況下，也通過移動噴嘴支承臂 82而使噴嘴82a位于排液部分88e的正上方，從而自噴嘴82a排出藥液，由此自噴嘴82a將殘留在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中的藥液等液體輸送到排液部分88e。如圖7及圖10所示，與各臂82p 82u相對應(yīng)的各臂清洗部88安裝在被設(shè)置于處理室20與臂待機(jī)部80之間的壁90的外側(cè)。因此，各臂清洗部88設(shè)置在杯外周筒50的外側(cè)。另外，各臂清洗部88也可以替代安裝在壁90的外側(cè)，而安裝在壁90的內(nèi)側(cè)。在這種情況下，各臂清洗部88位于旋轉(zhuǎn)杯40與臂待機(jī)部80之間的區(qū)域。在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，臂清洗部88既可以清洗整個噴嘴支承臂82，或者也可以僅清洗噴嘴支承臂82的一部分。另外，臂清洗部88清洗噴嘴支承臂82的整周， 但并不限定于此。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，如圖2、圖10所示，各臂82p 82u在臂待機(jī)部80處待機(jī)時，各臂82p 82u堵塞被設(shè)置在處理室20與臂待機(jī)部80之間的壁90的臂清洗部88的開口 88p。由此，各臂82p 82u起到堵塞壁90的臂清洗部88的開口 88p 的蓋的功能，能夠?qū)⑻幚硎?0內(nèi)的區(qū)域和臂待機(jī)部80的區(qū)域隔離。另外，各臂82p 82u也能夠堵塞圖5所不的處于上方位置的杯外周筒50的開口 50m。由此，將杯外周筒50內(nèi)的區(qū)域和臂待機(jī)部80的區(qū)域隔離。接著，對由該結(jié)構(gòu)構(gòu)成的液處理裝置10的動作進(jìn)行說明。首先，使保持部21中的升降銷板22和處理液供給管28從圖4所示的位置移動到上方，使設(shè)置在處理室20的開口 94a的閘門94自該開口 94a退避而打開開口 94a。然后， 利用輸送臂104將晶圓W從液處理裝置10的外部經(jīng)由開口 94a輸送到處理室20內(nèi)，將該晶圓W載置在升降銷板22的升降銷23上，之后，輸送臂104自處理室20退避。此時，杯外周筒50位于圖4所示的下方位置。另外，各噴嘴支承臂82位于自處理室20退避的退避位置。即，各噴嘴支承臂82在臂待機(jī)部80處待機(jī)。另外，通過始終自FFU70以下降流方式向處理室20內(nèi)輸送清潔空氣等氣體，并利用排氣部54排出該氣體，來對處理室20內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行更換。接著，使升降銷板22和處理液供給管28向下方移動，使該升降銷板22和處理液供給管28位于圖4所示的下方位置。此時，設(shè)置在保持板26上的各保持構(gòu)件25支承升降銷23上的晶圓W，使該晶圓W自升降銷23稍稍分開。之后或者在升降銷板22的下降過程中，利用設(shè)置在杯外周筒50上的驅(qū)動機(jī)構(gòu)50b 使該杯外周筒50向上方移動，使杯外周筒50位于圖5所示的上方位置。然后，在杯外周筒 50移動到上方位置之后，在臂待機(jī)部80處待機(jī)的6個噴嘴支承臂82中的一個或者多個噴嘴支承臂82經(jīng)由壁90的臂清洗部88的開口 88p和杯外周筒50的開口 50m進(jìn)入到處理室 20內(nèi)(參照圖5中的雙點(diǎn)劃線)。此時，利用臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85使噴嘴支承臂82進(jìn)行直線運(yùn)動。接著，使保持部21中的保持板26和升降銷板22旋轉(zhuǎn)。由此，利用保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W也旋轉(zhuǎn)。之后，首先，利用酸性的藥液對由保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W進(jìn)行處理，之后，接著進(jìn)行沖洗處理。具體地講，在圖5所示的狀態(tài)下，在臂待機(jī)部80處待機(jī)的6 個噴嘴支承臂82中的、第I藥液供給用臂82q和純水供給用臂82p分別經(jīng)由壁90的臂清洗部88的開口 88p和杯外周筒50的開口 50m同時進(jìn)入到處理室20內(nèi)。此時，由于第I藥液供給用臂82q和純水供給用臂82p的高度水平互不相同，因此，這些臂82q、82p不會互相干涉。然后，在晶圓W旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，自進(jìn)入到處理室20內(nèi)的第I藥液供給用臂82q的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給酸性藥液。另外，此時，也可以自處理液供給管28朝向晶圓W的下表面(背面)供給酸性藥液。這樣，在晶圓W的至少上表面供給有酸性藥液，對晶圓W進(jìn)行藥液處理。被供給到晶圓W的酸性藥液被輸送到4個處理液回收用容器46a、46b、 46c、46d中的、例如第I處理液回收用容器46a而被回收。另外，在進(jìn)行上述的藥液處理時， 純水供給用臂82p以該純水供給用臂82p的噴嘴82a位于自第I藥液供給用臂82q的噴嘴 82a的酸性藥液噴出位置稍稍后退的位置的方式在處理室20內(nèi)待機(jī)。在此，在純水供給用臂82p待機(jī)時，只要使純水供給用臂82p旋轉(zhuǎn)成噴嘴82a是除朝下之外的朝向、具體地講例如朝上，就能夠在藥液處理過程中防止自純水供給用臂82p的噴嘴82a出現(xiàn)滴落。然后，在向由保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W供給了酸性藥液之后，不中斷地繼續(xù)向該晶圓W供給純水。具體地講，在自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的第I藥液供給用臂82q的噴嘴82a向晶圓W供給了酸性藥液之后，自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的純水供給用臂82p的噴嘴82a不中斷地繼續(xù)向晶圓W供給純水。被供給到晶圓W的純水被輸送到 4個處理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第3處理液回收用容器46c而被回收。 這樣，在杯外周筒50內(nèi)利用酸性藥液對晶圓W進(jìn)行處理，之后繼續(xù)進(jìn)行沖洗處理。此時，在處理室20內(nèi)純水供給用臂82p和第I藥液供給用臂82q的高度水平互不相同，因此，這些臂82p、82q不會互相干涉。然后，在利用酸性藥液對晶圓W進(jìn)行的處理及沖洗處理結(jié)束后， 進(jìn)入到處理室20中的第I藥液供給用臂82q自該處理室20退避而在臂待機(jī)部80處待機(jī)。 另一方面，純水供給用臂82p留在處理室20內(nèi)。另外，在進(jìn)行沖洗處理的期間里，第2藥液供給用臂82s經(jīng)由壁90的臂清洗部88的開口 88p和杯外周筒50的開口 50m進(jìn)入到處理室20內(nèi)。更詳細(xì)地講，在進(jìn)行上述的沖洗處理時，第2藥液供給用臂82s以該第2藥液供給用臂82s的噴嘴82a位于自純水供給用臂82p的噴嘴82a的純水噴出位置稍稍后退的位置的方式在處理室20內(nèi)待機(jī)。然后，利用堿性藥液對由保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W進(jìn)行處理，之后繼續(xù)進(jìn)行沖洗處理。具體地講，利用進(jìn)入到處理室20內(nèi)的第2藥液供給用臂82s和純水供給用臂82p對晶圓W進(jìn)行采用堿性藥液的處理及沖洗處理。此時，由于第2藥液供給用臂 82s和純水供給用臂82p的高度水平互不相同，因此，這些臂82s、82p不會互相干涉。具體地說明，在晶圓W旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，自進(jìn)入到處理室20內(nèi)的第2藥液供給用臂 82s的噴嘴82a向晶圓W的上表面供給堿性藥液。另外，此時，也可以自處理液供給管28朝向晶圓W的下表面(背面)供給堿性藥液。這樣，在晶圓W的至少上表面供給有堿性藥液，對晶圓W進(jìn)行藥液處理。被供給到晶圓W的堿性藥液被輸送到4個處理液回收用容器46a、 46b、46c、46d中的、例如第2處理液回收用容器46b而被回收。另外，在進(jìn)行上述的藥液處理時，純水供給用臂82p以該純水供給用臂82p的噴嘴82a位于自第2藥液供給用臂82s 的噴嘴82a的堿性藥液噴出位置稍稍后退的位置的方式在處理室20內(nèi)待機(jī)。然后，在向由保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W供給了堿性藥液之后，不中斷地繼續(xù)向該晶圓W供給純水。具體地講，在自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的第2藥液供給用臂82s的噴嘴82a向晶圓W供給了堿性藥液之后，自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的純水供給用臂82p的噴嘴82a不中斷地繼續(xù)向晶圓W供給純水。被供給到晶圓W的純水被輸送到 4個處理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第3處理液回收用容器46c而被回收。 這樣，在杯外周筒50內(nèi)利用堿性藥液對晶圓W進(jìn)行處理，之后，接著進(jìn)行沖洗處理。然后， 在利用堿性藥液對晶圓W進(jìn)行的處理及沖洗處理結(jié)束時，進(jìn)入到處理室20中的第2藥液供給用臂82s和純水供給用臂82p自該處理室20退避而在臂待機(jī)部80處待機(jī)。另外，在進(jìn)行上述沖洗處理的期間里，IPA供給用臂82u經(jīng)由壁90的臂清洗部88的開口 88p和杯外周筒50的開口 50m進(jìn)入到處理室20內(nèi)。更詳細(xì)地講，在進(jìn)行上述的沖洗處理時，IPA供給用臂82u以該IPA供給用臂82u的噴嘴82a位于自純水供給用臂82p的噴嘴82a的純水噴出位置稍稍后退的位置的方式在處理室20內(nèi)待機(jī)。之后，利用IPA對由保持板26的各保持構(gòu)件25支承的晶圓W進(jìn)行干燥處理。具體地講，在臂待機(jī)部80處待機(jī)的6個噴嘴支承臂82中的、N2氣供給用臂82r經(jīng)由壁90的臂清洗部88的開口 88p和杯外周筒50的開口 50m進(jìn)入到處理室20內(nèi)。這樣，成為N2氣供給用臂82r和IPA供給用臂82u分別進(jìn)入到處理室20內(nèi)的狀態(tài)。此時，由于N2氣供給用臂82r和IPA供給用臂82u的高度水平互不相同，因此，這些臂82r、82u不會互相干涉。然后，在晶圓W旋轉(zhuǎn)的狀態(tài)下，自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的IPA供給用臂82u的噴嘴82a向晶圓W供給了 IPA之后，自設(shè)置于進(jìn)入到處理室20內(nèi)的N2氣供給用臂82r的噴嘴82a向該晶圓W中的供給有IPA的部位供給N2氣。具體地講，在處理室20內(nèi)，利用設(shè)置于IPA供給用臂82u的噴嘴82a向晶圓W的中心供給IPA。之后，以下述方式使該IPA供給用臂82u和N2氣供給用臂82r在晶圓W上移動，即IPA供給用臂82u從晶圓W的中心向周緣部移動，相對于晶圓W上的供給了 IPA之后的區(qū)域，晶圓W上的利用設(shè)置于凡氣供給用臂 82r的噴嘴82a噴射氣體的區(qū)域追隨其后。這樣，在晶圓W的表面上，立即向供給有IPA的部位供給N2氣，能夠適當(dāng)?shù)貙AW進(jìn)行干燥處理。被供給到晶圓W的IPA被輸送到4個處理液回收用容器46a、46b、46c、46d中的、例如第4處理液回收用容器46d而被回收。另外，在對晶圓W的干燥處理結(jié)束時，進(jìn)入到處理室20中的IPA供給用臂82u和N2氣供給用臂82r自該處理室20退避而在臂待機(jī)部80處待機(jī)。在對晶圓的干燥處理結(jié)束時，利用設(shè)置在杯外周筒50上的驅(qū)動機(jī)構(gòu)50b使該杯外周筒50向下方移動,使杯外周筒50位于圖4所不的下方位置。之后，使保持部21中的升降銷板22和處理液供給管28從圖4所示的位置移動到上方。此時，將由保持板26的保持構(gòu)件25支承的晶圓W交接到升降銷板22的升降銷 23上。接著，通過使設(shè)置在處理室20的開口 94a的閘門94自該開口 94a退避來打開開口 94a，使輸送臂104從液處理裝置10的外部經(jīng)由開口 94a進(jìn)入到處理室20內(nèi)，利用該輸送臂104取出升降銷板22的升降銷23上的晶圓W。將由輸送臂104取出的晶圓W輸送到液處理裝置10的外部。這樣，一連串的對晶圓W的液處理完成。另外，也可以在噴嘴支承臂82自處理室20移動到臂待機(jī)部80中的退避位置時， 利用臂清洗部88對各噴嘴支承臂82進(jìn)行清洗。各噴嘴支承臂82的清洗既可以在對晶圓 W的各處理之后進(jìn)行，或者也可以定期進(jìn)行。在此，采用本實(shí)施方式的液處理裝置10，臂清洗部88以位置固定的方式設(shè)置于臂待機(jī)部80，該臂清洗部88在噴嘴支承臂82移動時能夠?qū)υ搰娮熘С斜?2進(jìn)行清洗。這樣，通過由臂清洗部88清洗噴嘴支承臂82，噴嘴支承臂82能夠以未附著污垢的狀態(tài)進(jìn)入到處理室20內(nèi)，能夠防止由附著于噴嘴支承臂82的污垢污染處理室20內(nèi)的晶圓W。并且，通過將臂清洗部88設(shè)置在處理室20的外部，能夠防止處理室20內(nèi)的氣流紊亂。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，臂清洗部88具有用于收容清洗液的收容部分88a，在臂清洗部88中，一邊使噴嘴支承臂82的一部分接觸于收容在收容部分88a中的清洗液、一邊使噴嘴支承臂82移動，從而對噴嘴支承臂82進(jìn)行清洗。在這種情況下，不使臂清洗部88移動就能夠利用收容在位置固定的收容部分88a中的清洗液對噴嘴支承臂 82進(jìn)行清洗，因此，能夠?qū)⒂糜谇逑幢鄣臋C(jī)構(gòu)簡化。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，噴嘴支承臂82具有用于向噴嘴82a輸送流體的內(nèi)部配管82b，在臂清洗部88中，在收容部分88a的在噴嘴支承臂82的移動方向上的后方位置設(shè)有用于將殘留在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中的液體排出的排液部分 88e。于是，通過使噴嘴支承臂82移動，以使噴嘴82a位于排液部分88e的正上方，從而將從噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b排出來的液體自噴嘴82a輸送到排液部分88e。由此，即使在對晶圓W的液處理結(jié)束之后在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中殘留有無用的液體的情況下，在使用設(shè)置于該噴嘴支承臂82的噴嘴82a進(jìn)行下一次液處理時，也能夠預(yù)先將殘留在內(nèi)部配管82b中的液體自內(nèi)部配管82b排出。特別是，在自噴嘴82a向晶圓W供給高溫的藥液等時，殘留在噴嘴支承臂82的內(nèi)部配管82b中的液體變涼的情況較多，因此，期望利用排液部分88e預(yù)先將該殘留的變涼的液體自內(nèi)部配管82b排出。另外，在本實(shí)施方式的液處理裝置10中，臂清洗部88設(shè)置在杯外周筒50的外側(cè)。 由此，能夠防止由臂清洗部88導(dǎo)致杯外周筒50內(nèi)的氣流紊亂。另外，本實(shí)施方式的液處理裝置并不限定于上述形態(tài)，能夠施加各種變更。例如不必利用進(jìn)入到處理室20內(nèi)的噴嘴支承臂82的噴嘴82a和處理液供給管28向晶圓W的上表面和下表面這兩者都供給處理液，也可以利用噴嘴支承臂82的噴嘴82a僅向晶圓W的上表面供給處理液。另外，也可以在一根噴嘴支承臂82上設(shè)置多個噴嘴82a。接著，參照圖11對能夠替代上述臂清洗部88 (參照圖10)使用的臂清洗部120進(jìn)行說明。臂清洗部120特別適合嚴(yán)重污染的環(huán)境，例如在自進(jìn)行了 SPM處理等藥液處理的處理室退避之后清洗被污染的噴嘴支承臂82的情況，該SPM處理是為了剝離抗蝕層(resist) 而向晶圓供給例如將硫酸和過氧化氫水混合得到的高溫的SPM(Sulfuric Acid Hydrogen PeroxideMixture :硫酸過氧化氫混合物)液的藥液處理。但是，被臂清洗部120清洗的噴嘴支承臂82并不限定于具有用于噴出SPM液的噴嘴82a的噴嘴支承臂82，也可以是其他的噴嘴支承臂82、例如具有用于在剛剛進(jìn)行了 SPM處理后的SPM氣氛中噴出沖洗液的噴嘴 82a的噴嘴支承臂82。圖11的(a)是用臂清洗部120替換圖10左側(cè)所示的臂清洗部88的情況的圖，是將臂清洗部120附近放大表示的軸向剖視圖，圖11的(b)是沿著圖11的(a) 中的B-B的剖視圖。在圖11的(a)中僅表示了噴嘴支承臂82的頂端部，噴嘴支承臂82及其所附帶的構(gòu)成部件(臂支承部84、臂驅(qū)動機(jī)構(gòu)85、螺旋形狀配管83p 83u)的結(jié)構(gòu)可以與圖10所示的部件相同。在圖11中，對與圖10所示的構(gòu)成部件相同的部件標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記，省略重復(fù)說明。臂清洗部120具有清洗箱(box) 130和干燥部件(block) 140。清洗箱130具有用于在其內(nèi)部形成清洗空間的頂板132a、左右的側(cè)板132b和底板132c。在清洗箱130的兩側(cè)板132b的內(nèi)表面的上部設(shè)有第I清洗液噴嘴133A(133)，并在底板132c的上表面設(shè)有第 2清洗液噴嘴133B(133)。另外，第I清洗液噴嘴133A、第2清洗液噴嘴133B具有相同的結(jié)構(gòu)，在不需要區(qū)分兩者的情況下，以下也簡記作“清洗液噴嘴133”。在各清洗液噴嘴133 的內(nèi)部，清洗液供給通路133a沿著清洗箱130的長度方向(與噴嘴支承臂82的長度方向相同)延伸。在各清洗液噴嘴133的朝向噴嘴支承臂82的面上設(shè)有沿著清洗箱130的長度方向隔有間隔地配置的多個清洗液噴出口(噴嘴孔)134。清洗液噴出口 134與清洗液供給通路133a相連通。自清洗液供給源135向各清洗液噴嘴133 (133A、133B)的清洗液供給通路133a中供給DIW(純水)來作為噴嘴支承臂清洗用的清洗液，由此，如箭頭134a、134b 所示地自多個清洗液噴出口 134朝向噴嘴支承臂82噴射清洗液。自第I清洗液噴嘴133A 朝向噴嘴支承臂82的上部噴射清洗液，自第2清洗液噴嘴133B朝向噴嘴支承臂82的下部噴射清洗液。在底板132c中形成有一個或者多個排液孔131，利用自清洗液噴出口 134噴射來的清洗液將自噴嘴支承臂82沖洗下來的藥液和反應(yīng)生成物經(jīng)由排液孔131從清洗空間 (由頂板132a、側(cè)板132b和底板132c圍成的空間)排出。排液孔131經(jīng)由適當(dāng)?shù)呐乓汗苓B接于工廠廢液系統(tǒng)。為了順暢地向排液孔131排出清洗液，優(yōu)選在底板132c上設(shè)置隨著接近排液孔131而變低的傾斜。在清洗箱130的距杯外周筒50較遠(yuǎn)一側(cè)的端部設(shè)有后板 136。在后板136的中央部形成有能夠供噴嘴支承臂82通過的尺寸的孔。利用該后板136 能夠防止或抑制清洗空間內(nèi)的液體向后方飛散。另外，從提高清洗效率及防止交叉污染的方面考慮，清洗箱130具有在清洗過程中能夠同時將噴嘴支承臂82的整個清洗對象部分(即，在藥液處理時進(jìn)入到彌漫有藥液的杯外周筒50內(nèi)的部分及其附近)收容在清洗箱130內(nèi)的程度的長度。干燥部件140 (氣體噴射部分)連結(jié)于清洗箱130的頂端側(cè)。在干燥部件140的中心形成有內(nèi)徑稍稍大于噴嘴支承臂82的外徑的通孔。在該通孔的內(nèi)表面，在圓周方向上隔有間隔地形成有用于向噴嘴支承臂82的外周面噴射干燥用氣體、例如清潔空氣、N2氣等的多個(例如6個 12個)氣體噴射口 142。在干燥部件140的內(nèi)部形成有圓環(huán)狀的氣體通路143，各氣體噴射口 142連通于該氣體通路143。在氣體通路143上連接有干燥用氣體供給源144，通過自干燥用氣體供給源144供給干燥用氣體(例如N2氣、干燥空氣)，能夠自氣體噴射口 142向噴嘴支承臂82的外周面噴射干燥用氣體，使噴嘴支承臂82干燥。另外，優(yōu)選噴射到噴嘴支承臂82的外周面的干燥用氣體主要向清洗箱130側(cè)流動。因此，優(yōu)選如圖11的(a)所示地使氣體噴射口 142朝向清洗箱130傾斜。或者，也優(yōu)選使噴嘴支承臂82的外周面與干燥部件140的供噴嘴支承臂82穿過的通孔的內(nèi)表面之間的間隔在杯外周筒50側(cè)較窄。
對臂清洗部120的動作進(jìn)行說明。噴嘴支承臂82穿過開口 50m進(jìn)入到杯外周筒 50內(nèi)，自噴嘴82a向晶圓供給SPM液規(guī)定時間，進(jìn)行用于剝離抗蝕層的SPM處理。另外，也可以使分別附設(shè)有圖11所示的臂清洗部120的兩個噴嘴支承臂82同時進(jìn)入到杯外周筒50 內(nèi)，自一個噴嘴支承臂82的噴嘴82a向晶圓供給硫酸，自另一個噴嘴支承臂82的噴嘴82a 向晶圓供給過氧化氫水。在SPM處理中，氣化或者霧化了的高溫的SPM液及反應(yīng)生成物(它們被稱作煙霧(fume))附著在噴嘴支承臂82上。在SPM處理結(jié)束之后，噴嘴支承臂82退出到杯外周筒50的外側(cè)，其他的噴嘴支承臂(參照圖7等)進(jìn)入到杯外周筒50內(nèi)，對晶圓實(shí)施下一個液處理(沖洗處理、其他藥液處理)。退出到杯外周筒50的外側(cè)的噴嘴支承臂 82待機(jī)直至處理下一個晶圓為止。在待機(jī)過程中，對噴嘴支承臂82實(shí)施清洗處理。在使噴嘴支承臂82退出到杯外周筒50的外側(cè)時，首先，自清洗液供給源135供給清洗液(DIW)，從清洗液噴出口 134如箭頭134a、134b所示地朝向噴嘴支承臂82的上部和下部噴射DIW，在該狀態(tài)下，使噴嘴支承臂82朝向圖中右側(cè)后退，直到噴嘴支承臂82的頂端82w完全進(jìn)入到清洗箱130內(nèi)為止，在該位置使噴嘴支承臂82停止，充分清洗噴嘴支承臂82的整個被污染的部分。清洗液的供給量例如能夠?yàn)?L/min。在清洗過程中，噴嘴支承臂82的清洗對象部分收容在清洗箱130內(nèi)，因此，能夠防止清洗液或者通過清洗被除去的污染物質(zhì)飛散到其他的噴嘴支承臂及其驅(qū)動部而將它們污染。另外，在SPM處理之后，污染物質(zhì)的蒸氣從自杯外周筒50退出來的噴嘴支承臂82升騰，但通過使噴嘴支承臂82穿過在內(nèi)部噴射有DIW的清洗箱130內(nèi)，也能夠防止由污染物質(zhì)的蒸氣污染臂待機(jī)部80。清洗結(jié)束，使噴嘴支承臂82再次進(jìn)入到杯外周筒50內(nèi)時，一邊自干燥用氣體供給源144供給干燥用氣體而從氣體噴射口 142向噴嘴支承臂82的表面噴射干燥用氣體,一邊使噴嘴支承臂82 向杯外周筒50側(cè)移動，從而殘留在噴嘴支承臂82的外周面上的清洗液被朝向清洗箱130 內(nèi)吹散，能夠自噴嘴支承臂82的至少進(jìn)入到杯外周筒50內(nèi)的部分除去清洗液。另外，在清洗結(jié)束之后直到使噴嘴支承臂82再次進(jìn)入到杯外周筒50內(nèi)的期間里，使噴嘴支承臂82稍稍前進(jìn)(至圖11的(a)所示的位置)，使噴嘴支承臂82的頂端82w位于堵塞杯外周筒50 的開口 50m的位置，在防止杯外周筒50內(nèi)的氣氛進(jìn)入到臂待機(jī)部80內(nèi)的方面優(yōu)選這樣做。臂清洗部120的結(jié)構(gòu)并不限定于圖11所示的結(jié)構(gòu)。例如清洗液噴嘴133的位置能夠適當(dāng)?shù)刈兏?。具體地講，例如也可以將清洗液噴嘴133設(shè)置在清洗箱130的頂板132a， 自該清洗液噴嘴133向噴嘴支承臂82的上部噴射清洗液。另外，也可以在噴嘴支承臂82 的斜下方(例如圖11的(b)中的左右對稱位置)設(shè)置兩個清洗液噴嘴133，自這些清洗液噴嘴133向噴嘴支承臂82的下部噴射清洗液。另外，在清洗過程中，也可以使用旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)86 (參照圖8)使噴嘴支承臂82適當(dāng)?shù)匦D(zhuǎn)。由此，能夠進(jìn)一步提高清洗的均勻性。也可以將多個清洗液噴嘴133中的至少一個構(gòu)成為圖12所示的二流體噴嘴133’。 下面，對二流體噴嘴133’進(jìn)行說明，在圖12中，對于與圖11中的清洗液噴嘴133的構(gòu)成要件類似的構(gòu)成要件，對參照附圖標(biāo)記加注撇號(’)。在圖12所示的二流體噴嘴133’內(nèi)，與清洗液供給通路133a’平行地延伸有氣體供給通路136。在清洗液噴出口 134’的附近位置， 氣體流路138與用于連接清洗液供給通路133a’和清洗液噴出口 134’的清洗液流路137相連接。在清洗液噴出口 134’的跟前向在清洗液流路137中流動的清洗液(在此是DIW)中混合霧化用氣體(在此是N2氣)，使清洗液在霧化的狀態(tài)下自清洗液噴出口 134’噴射出，利用沖撞能量高效地清洗噴嘴支承臂82。另外，特別是噴嘴支承臂82的下部被嚴(yán)重污染， 因此，二流體噴嘴133’優(yōu)選設(shè)置在圖11中的第2清洗液噴嘴133B的位置。圖10所示的臂清洗部88通過裝入圖11所示的臂清洗部120的干燥部件140，能夠如圖13所示地成為改變了的結(jié)構(gòu)。圖13所示的臂清洗部88’在吸引機(jī)構(gòu)88d和排液部分88e之間設(shè)有圖11所示的干燥部件140。設(shè)置于干燥部件140的氣體噴射口 142朝向吸引機(jī)構(gòu)88d傾斜。其他結(jié)構(gòu)與圖10相同。在圖13中，對與圖10所示的構(gòu)成要件相同的構(gòu)成要件標(biāo)注相同的附圖標(biāo)記。在圖13所示的結(jié)構(gòu)中，一邊使噴嘴支承臂82后退、一邊利用收容在收容部分88a中的清洗液清洗噴嘴支承臂82時，利用自干燥部件140的氣體噴射口 142噴射來的氣體將殘留在噴嘴支承臂82的表面的清洗液朝向吸引機(jī)構(gòu)88d吹散。由此， 能夠可靠地使噴嘴支承臂82的表面干燥，而且，清洗液被吸引機(jī)構(gòu)88d可靠地回收，能夠防止清洗液滴落到臂待機(jī)部80內(nèi)。附圖標(biāo)記說明10、液處理裝置;20、處理室;21、基板保持部；40、42、43、44、45、杯；82、噴嘴支承臂；82a、噴嘴;88、88’、120、臂清洗部。
權(quán)利要求
1.一種液處理裝置，其特征在于，該液處理裝置包括處理室，其在內(nèi)部設(shè)有用于保持基板的基板保持部和配設(shè)在該基板保持部的周圍的杯；噴嘴，其用于向保持在上述基板保持部的基板供給流體；噴嘴支承臂，其用于支承上述噴嘴；臂清洗部，其用于對上述噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液處理裝置，其特征在于，上述臂清洗部在上述噴嘴支承臂移動時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的液處理裝置，其特征在于，上述臂清洗部在上述噴嘴支承臂處于退避位置時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液處理裝置，其特征在于，上述臂清洗部具有用于收容清洗液的收容部分；在上述臂清洗部中，通過一邊使上述噴嘴支承臂的一部分接觸于被收容在上述收容部分的清洗液、一邊使該噴嘴支承臂移動，由此對上述噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液處理裝置，其特征在于，上述臂清洗部中，在上述噴嘴支承臂的移動方向上的比上述收容部分接近上述處理室的前方位置和比上述收容部分遠(yuǎn)離上述處理室的后方位置中的至少任意一個位置設(shè)有吸引機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液處理裝置，其特征在于，上述臂清洗部在上述噴嘴支承臂的移動方向上的比上述收容部分遠(yuǎn)離上述處理室的后方位置具有用于向上述噴嘴支承臂噴射干燥用氣體的干燥部件。
7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的液處理裝置，其特征在于，上述噴嘴支承臂在其內(nèi)部具有用于向上述噴嘴輸送流體的配管；在上述臂清洗部中，在上述噴嘴支承臂的移動方向上的比上述收容部分接近上述處理室的前方位置和比上述收容部分遠(yuǎn)離上述處理室的后方位置中的至少任意一個位置設(shè)有用于排出殘留在上述噴嘴支承臂內(nèi)的上述配管中的液體的排液部分；移動上述噴嘴支承臂而使上述噴嘴位于上述排液部分的正上方，從而將殘留在上述噴嘴支承臂內(nèi)的上述配管中的液體從上述噴嘴輸送到上述排液部分。
8.根據(jù)權(quán)利要求I 7中任一項(xiàng)所述的液處理裝置，其特征在于，該液處理裝置還包括與上述處理室相鄰地設(shè)置的、用于供自該處理室退避的上述噴嘴支承臂待機(jī)的臂待機(jī)部。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液處理裝置，其特征在于，上述臂清洗部以位置固定的方式設(shè)置在上述處理室中的上述杯與上述臂待機(jī)部之間的區(qū)域或者上述臂待機(jī)部。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的液處理裝置，其特征在于，在上述處理室與上述臂待機(jī)部之間設(shè)有沿鉛垂方向延伸的壁；在上述壁上設(shè)有能夠供上述噴嘴支承臂通過的開口；在上述壁上安裝有上述臂清洗部。
11.根據(jù)權(quán)利要求I 10中任一項(xiàng)所述的液處理裝置，其特征在于，該液處理裝置還包括圓筒狀的杯外周筒，該杯外周筒在上述處理室內(nèi)配設(shè)在上述杯的周圍，能夠在上方位置和下方位置之間升降，設(shè)有能夠供上述噴嘴支承臂通過的開口 ；上述臂清洗部設(shè)置在上述杯外周筒的外側(cè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的液處理裝置，其特征在于，上述噴嘴支承臂設(shè)置為，能夠沿其長度方向進(jìn)退，能夠位于使上述噴嘴處于由上述基板保持部保持的基板的上方的進(jìn)入位置和自該進(jìn)入位置后退的退避位置；上述臂清洗部具有清洗箱和干燥部件；上述清洗箱構(gòu)成為包圍位于上述退避位置的上述噴嘴支承臂的外周；在上述清洗箱中設(shè)有朝向位于上述清洗箱內(nèi)的上述噴嘴支承臂噴射清洗液的至少一個清洗液噴嘴；上述干燥部件與上述清洗箱相鄰，在上述噴嘴支承臂的進(jìn)退方向上，設(shè)置在比上述清洗箱靠前方的位置；上述干燥部件構(gòu)成為具有朝向上述噴嘴支承臂的外周面噴射干燥用氣體的氣體噴射孔，能夠通過一邊使上述噴嘴支承臂從上述退避位置朝向上述進(jìn)入位置地向前方移動、一邊自上述氣體噴射孔向上述噴嘴支承臂噴射干燥用氣體，使上述噴嘴支承臂干燥。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的液處理裝置，其特征在于，上述干燥部件構(gòu)成為使從上述氣體噴射孔噴射出的干燥用氣體朝向上述清洗箱側(cè)流動。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的液處理裝置，其特征在于，在上述清洗箱內(nèi)設(shè)有用于朝向上述噴嘴支承臂的上部噴射清洗液的第I清洗液噴嘴、 及用于朝向上述噴嘴支承臂的下部噴射清洗液的第2清洗液噴嘴。
15.—種液處理方法,其特征在于，該液處理方法包括以下工序利用設(shè)置在處理室的內(nèi)部的基板保持部保持基板；使用于支承噴嘴的噴嘴支承臂進(jìn)入到上述處理室內(nèi)；利用進(jìn)入到上述處理室內(nèi)的噴嘴支承臂的噴嘴向由上述基板保持部保持的基板供給流體；利用臂清洗部，在上述噴嘴支承臂移動時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。
16.—種液處理方法,其特征在于，該液處理方法包括以下工序利用設(shè)置在處理室的內(nèi)部的基板保持部保持基板；使用于支承噴嘴的噴嘴支承臂進(jìn)入到上述處理室內(nèi)；利用進(jìn)入到上述處理室內(nèi)的噴嘴支承臂的噴嘴向由上述基板保持部保持的基板供給流體；利用臂清洗部，在上述噴嘴支承臂處于退避位置時對該噴嘴支承臂進(jìn)行清洗。
全文摘要
本發(fā)明提供一種液處理裝置及液處理方法，其能夠防止由附著在用于支承噴嘴的噴嘴支承臂上的污垢污染處理室內(nèi)的基板。液處理裝置(10)包括處理室(20)，其在內(nèi)部設(shè)有用于保持基板(W)的基板保持部(21)和配設(shè)在該基板保持部(21)的周圍的杯(40)；噴嘴(82a)，其用于向保持在基板保持部(21)的基板W供給流體；噴嘴支承臂，其用于支承噴嘴(82a)。在液處理裝置(10)中設(shè)有用于對噴嘴支承臂(82)進(jìn)行清洗的臂清洗部(88)。
文檔編號B08B3/08GK102610488SQ20121001640
公開日2012年7月25日 申請日期2012年1月18日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月18日
發(fā)明者東島治郎, 伊藤優(yōu)樹, 伊藤規(guī)宏, 八谷洋介, 新藤尚樹, 相浦一博 申請人:東京毅力科創(chuàng)株式會社