專利名稱：流體供給裝置以及使用該裝置清潔薄膜的系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種流體供給裝置以及使用該裝置清潔薄膜的系統(tǒng)和方法。更具體的是，本發(fā)明涉及一種流體供給裝置，其具有均勻并穩(wěn)定地供給清潔流體以清潔位于存儲流體的槽中的薄膜(例如膠卷)型板的改進(jìn)結(jié)構(gòu)，還涉及使用該裝置清潔薄膜的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
例如，用于生產(chǎn)具有幾毫米或幾十毫米的膜型片的膜或輥型板(下文中稱作“薄膜”)的系統(tǒng)實施清潔處理，以去除粘附到該輥型薄膜表面的雜質(zhì)，該膜或輥型板例如地板膜或者各種功能性膜。在該膜清潔處理中，將清潔流體(例如液體)噴射到薄膜表面以去除粘附到該薄膜表面的雜質(zhì)。圖1是表示常規(guī)薄膜清潔系統(tǒng)的示意圖。圖2是表示對應(yīng)于圖1系統(tǒng)中的噴嘴管每個孔的流體流速的曲線圖。參照圖1和圖2，常規(guī)的薄膜清潔系統(tǒng)I包括設(shè)置在清潔槽2中的流體供給裝置5，其浸沒在浸沒液體3中并且能夠噴射清潔流體，從而去除浸沒在該清潔槽2中儲存的浸沒液體3中并連續(xù)運動的薄膜4表面(上表面和/或下表面)上出現(xiàn)的雜質(zhì)。常規(guī)的流體供給裝置5包括安裝在清潔槽2中的供給管6，以從外部接收清潔流體，以及從供給管6垂直分叉的噴嘴管7，以預(yù)定壓力向薄膜4噴射清潔流體。該噴嘴管7是兩端封閉的中空結(jié)構(gòu)，并且在長度方向上具有多個孔8。薄膜4在多個輥9上滾動并以預(yù)定速度運動。從孔8中噴射出的清潔流體對與浸沒液體3關(guān)聯(lián)運動的薄膜4表面施加預(yù)定壓力。該壓力的大小足以去除薄膜4表面上出現(xiàn)的雜質(zhì)。換句話說，噴嘴管7中形成的孔8有幾分噴嘴的功能。盡管圖1所示的流體供給裝置5設(shè)置在薄膜上方，但該噴嘴管7也可以僅位于薄膜4下方或者位于薄膜4的上方和下方。然而，在常規(guī)的薄膜清潔系統(tǒng)I中，因為用于噴射清潔流體的孔8直徑比噴嘴管7小，所以從供給管6供給到噴嘴管7中的清潔流體在流經(jīng)孔8時流得更快。清潔流體流速的增加使得清潔流體與清潔槽2的壁碰撞、折回，在這個過程中，清潔槽2中流體的流譜圖變得復(fù)雜。這種復(fù)雜流譜圖對噴嘴管7上方或下方運動的薄膜4施加了不規(guī)則的壓力。如果壓力偏差增大，則薄膜4會例如彎折或下垂。這種現(xiàn)象也就是薄膜4以折疊的狀態(tài)在輥9上進(jìn)入下一階段的情況，會在薄膜4破裂時造成嚴(yán)重影響。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題本發(fā)明旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，因此本發(fā)明的目的是提供一種結(jié)構(gòu)改進(jìn)的流體供給裝置，由于該裝置將常規(guī)流體供給裝置中在輥型薄膜清潔處理時只會猛烈噴射出流體的單管結(jié)構(gòu)變?yōu)榱穗p管結(jié)構(gòu)，從而降低或控制最終噴射出的流體的流量或流速，由此降低施加在薄膜上的壓力偏差。本發(fā)明的另一個目的是提供一種使用該流體供給裝置的薄膜清潔系統(tǒng)和方法。解決方案一方面，提供了一種流體供給裝置，其包括內(nèi)管，其具有多個孔，用于分配從供給單元提供的流體；外管，其包圍內(nèi)管設(shè)置，并且具有多個狹縫，用于將從孔分配到其中的流體噴射到外部。優(yōu)選的是，該內(nèi)管和外管的兩端是封閉的，該內(nèi)管和外管同軸設(shè)置，并且內(nèi)管與外管的長度基本相等。在另一實施例中，該內(nèi)管和外管可以非同軸設(shè)置。換句話說，根據(jù)一個實施例的流體供給裝置包括內(nèi)管，其中成行設(shè)置了多個孔；以及外管，其包圍內(nèi)管設(shè)置，并且具有設(shè)置在其中的多個狹縫。其中，可以適當(dāng)調(diào)整內(nèi)管中形成的孔之間的間隙以及外管中形成的狹縫之間的間隙，這對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言是容易理解的。如果使用本實施例的流體供給裝置，首先將從供給單元提供并收集在內(nèi)管中的流體，在控制其流量和流速的同時，通過孔提供到外管中，并且將收集在外管中的流體通過外管中形成的狹縫釋放到外管外部，從而可以適當(dāng)調(diào)整最終噴射出的流體的流速和流量。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，狹縫可以包括沿長度方向設(shè)置在外管任意一側(cè)上的第一側(cè)狹縫；以及設(shè)置在外管另一側(cè)與該第一側(cè)狹縫相對的第二側(cè)狹縫。優(yōu)選的是，該第一側(cè)狹縫沿外管長度方向以規(guī)則間隔成行設(shè)置，并且該第二側(cè)狹縫相對于外管中心對稱形成。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，形成在內(nèi)管中的孔的排列與狹縫的排列基本垂直。因此，當(dāng)?shù)谝粋?cè)狹縫和第二側(cè)狹縫的位置穿過外管橫截面的兩側(cè)時，優(yōu)選將內(nèi)管中形成的孔設(shè)置為穿過內(nèi)管的上表面或下表面。特別是，在實施例中，內(nèi)管的孔在其上表面中呈線狀設(shè)置。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，內(nèi)管和外管的橫截面是從圓形、橢圓形、矩形和六邊形、或其組合中選出的任意一種形狀。換句話說，內(nèi)管和外管可以具有相同的橫截面形狀，但是，例如當(dāng)內(nèi)管具有圓形橫截面時，外管可以具有橢圓形橫截面或者各種多邊形橫截面之一，反之亦然。其中，圓形橫截面可以降低流體的摩擦。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，孔包括沿長度方向設(shè)置在內(nèi)管任意一側(cè)中的第一側(cè)孔；以及設(shè)置在內(nèi)管另一側(cè)與該第一側(cè)孔相對設(shè)置的第二側(cè)孔。換句話說，根據(jù)可選實施例，可以在內(nèi)管中形成兩行孔，這與前面的實施例不同。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，當(dāng)內(nèi)管和外管的橫截面為圓形或者橢圓形時，外管與內(nèi)管的直徑差(例如內(nèi)管外圓周與外管內(nèi)圓周之間的距離)或者外管與內(nèi)管的寬度差和高度差約為25 - 35mm。其中，寬度差是指內(nèi)管的垂直外壁之間的距離與外管垂直內(nèi)壁之間的距離之差，高度差是指內(nèi)管的水平外壁之間的距離與外管的水平內(nèi)壁之間的距離之差。如果內(nèi)管與外管之間的間隙(例如直徑、寬度或高度)小于25mm，則由于內(nèi)管到外管的間隙小而使流體流速降低。如果內(nèi)管與外管之間的間隙大于35_，則設(shè)備尺寸被不必要地增大，外管中的流速相對降低，因此最終噴射出的流體流速降低，由此無法達(dá)到令人滿意的效果。優(yōu)選的是，外管與內(nèi)管之間的間隙約為30mm。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，每個孔的直徑約為10_，每個狹縫的長度約為240mm。如果孔的直徑過大，則噴射到外管中的流體流速降低，并且不易形成穩(wěn)定的流譜圖。如果孔的直徑過小，則提供給外管的流體流速增大，會導(dǎo)致漩渦的產(chǎn)生。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，狹縫的寬度與孔的直徑基本相等。在內(nèi)管和外管的橫截面均為圓形的一個實施例中，如果內(nèi)管的孔直徑約為10mm，則外管的直徑約為130mm，并且每個狹縫的長度約為240mm。此外，在內(nèi)管和外管的橫截面為橢圓形的另一實施例中，如果內(nèi)管的水平寬度約為200mm，垂直高度約為100mm，孔徑約為10mm，則外管的寬度約為230mm，高度約為130mm，狹縫長度約為240mm。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，內(nèi)管和外管的兩端封閉，并且內(nèi)管的外壁和外管的內(nèi)壁形成封閉空間。位于供給單元一端的側(cè)壁通過外管中心與內(nèi)管相通。因此，位于供給單元端的側(cè)面起到了劃分內(nèi)管與外管形成的封閉空間的作用。在根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的流體供給裝置中，該流體可以是氣體，更優(yōu)選的是該流體是水與有機(jī)溶劑的混合溶液。此外，內(nèi)管和外管優(yōu)選由金屬或塑料制成。另一方面，提供了一種薄膜清潔系統(tǒng)，其包括清潔槽，其中儲存流體，使得薄膜能夠浸沒在其中同時運動；以及上述實施例中描述的流體供給裝置，其安裝在清潔槽內(nèi)以向薄膜噴射流體。根據(jù)本實施例的薄膜清潔系統(tǒng)用于清洗掉歷經(jīng)制造滿足工業(yè)需要的薄膜所需的化學(xué)處理和鍍層的輥型薄膜表面上的雜質(zhì)，該薄膜例如幾毫米或幾十毫米厚的薄片、地板膜或各種本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所了解的功能性膜。在本實施例的薄膜清潔系統(tǒng)中，流體供給裝置中使用的流體優(yōu)選由清潔流體(液體)取代。換句話說，在本實施例的清潔系統(tǒng)中，儲存在清潔槽中的浸沒液體與通過該雙管型流體供給裝置引入的清潔流體基本上是相同的，利用泵等將通過清潔槽的排出孔釋放的液體提供給該雙管型流體供給裝置。此外，本實施例的薄膜清潔系統(tǒng)中采用的流體供給裝置各個部件，例如內(nèi)管、外管、孔和狹縫的位置、維度、尺寸、排列、形變等與前述實施例的相同，因此不再贅述。再一方面，提供了一種薄膜清潔方法，其包括(a)以浸沒在清潔槽中儲存的流體中的狀態(tài)移動薄膜；(b)以浸沒在流體中的狀態(tài)，使用包括具有多個孔的內(nèi)管和具有多個狹縫的外管的雙管型流體供給裝置，以均勻壓力將流體通過該狹縫噴射出。在本發(fā)明一個實施例中，在步驟(b)中，沿著外管長度方向?qū)⒘黧w噴射到相對側(cè)上。在根據(jù)本發(fā)明一個實施例的薄膜清潔方法中，可以與薄膜運動方向基本上平行地設(shè)置該雙管型流體供給裝置。換句話說，如果雙管型流體供給裝置與薄膜間隔開預(yù)定距離設(shè)置，則可以將該流體供給裝置設(shè)置在清潔槽中，使得雙管型流體供給裝置長度方向上的中心線平行于薄膜的長度或?qū)挾确较?。換句話說，如果該雙管型流體供給裝置長度方向的中心線平行于薄膜長度方向設(shè)置，則通過雙管型流體供給裝置外管噴射出的流體相對于薄膜長度方向噴射到兩個橫向側(cè)面，然而如果雙管型流體供給裝置長度方向的中心線平行于薄膜寬度方向設(shè)置，則流體會相對于薄膜運動方向噴射到前面和后面。在本發(fā)明的一個實施例中，雙管型流體供給裝置的內(nèi)管和外管的橫截面是圓形、橢圓形、矩形和六邊形或其組合中的任意一種形狀。
有益效果根據(jù)本發(fā)明的流體供給裝置和薄膜清潔系統(tǒng)和方法具有以下效果。首先，如果通過包括具有多個孔的內(nèi)管和設(shè)置在內(nèi)管外部、具有多個狹縫的外管的雙管型流體供給裝置，將流體提供到希望的部分，則可以將流體的流速和流量調(diào)整到按照需要控制流體壓力的目標(biāo)所需水平。第二，由于將薄膜浸沒在清潔槽中儲存的流體中并移動的同時，通過將流體供給裝置浸沒在該流體中，使流體通過內(nèi)管的孔(主噴射)和外管的狹縫(輔噴射)噴射出，因此可以降低噴射流體與清潔槽壁碰撞并折回而可能產(chǎn)生的不規(guī)則流譜圖對運動薄膜造成的不必要的壓力偏差。第三，根據(jù)該薄膜清潔系統(tǒng)或方法，通過降低或控制通過流體供給裝置噴射出的流體的流速和流量，可以降低對薄膜造成的壓力偏差，因此，在薄膜清潔處理中，可以防止由于不規(guī)則流體壓力造成的薄膜低垂或彎折，由此可以解決后續(xù)處理中出現(xiàn)的薄膜損壞或次品等問題。


通過以下參照附圖對實施例的描述，可以理解本發(fā)明的其他目的和方面。附圖表示了根據(jù)示例性實施例的流體供給裝置和薄膜清潔系統(tǒng)。然而，應(yīng)當(dāng)理解，本發(fā)明不限于附圖中示出的組件或手段。在附圖中圖1是表示常規(guī)薄膜清潔系統(tǒng)的示意圖；圖2是表示對應(yīng)于圖1的薄膜清潔系統(tǒng)中采用的噴嘴管的各個孔的流體流速的曲線圖；圖3是示意表示根據(jù)本發(fā)明第一實施例的流體供給裝置的部分截取透視圖；圖4是沿著圖3的IV-1V線截取的截面圖；圖5是沿著圖4的V-V線截取的截面圖；圖6是表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的流體供給裝置的截面圖；圖7是表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的流體供給裝置的截面圖；圖8是表示根據(jù)本發(fā)明第四實施例的流體供給裝置的截面圖；圖9是表示根據(jù)本發(fā)明第五實施例的流體供給裝置的截面圖；圖10是表示根據(jù)本發(fā)明第六實施例的流體供給裝置的截面圖；圖11是表示根據(jù)本發(fā)明第七實施例的流體供給裝置的截面圖；圖12是表示根據(jù)本發(fā)明第八實施例的流體供給裝置的截面圖；圖13是表示根據(jù)本發(fā)明第九實施例的流體供給裝置的截面圖；圖14是表示根據(jù)本發(fā)明第十實施例的流體供給裝置的截面圖；圖15是表示根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的薄膜清潔系統(tǒng)的示意圖；圖16是表示當(dāng)根據(jù)第一、第二和第七實施例的流體供給裝置分別用于根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的薄膜清潔系統(tǒng)時，通過每個狹縫釋放的流體流速測試結(jié)果的曲線圖；圖17是表示對應(yīng)于圖15的薄膜清潔系統(tǒng)的雙管的每個狹縫的流體流速的曲線圖。
具體實施例方式以下具體說明中使用的術(shù)語只是為了便于說明，無意限制本發(fā)明。諸如右、左、上表面、下表面之類的術(shù)語表示其所涉及的附圖中的各個方向。諸如向內(nèi)、向外之類的術(shù)語分別表示朝向或離開各個指代的裝置、系統(tǒng)或部件幾何中心的方向。諸如前、后、上、下及其相關(guān)詞或短語之類的術(shù)語表示其所涉及的附圖中的位置和取向，無意限制本發(fā)明。這些術(shù)語包括上述詞及其派生詞和同義詞。將參照附圖描述示例性實施例。圖3是示意地表示根據(jù)本發(fā)明第一實施例的流體供給裝置的部分截取透視圖，圖4是沿著圖3的IV-1V線截取的截面圖，圖5是沿著圖4的V-V線截取的截面圖。參照圖3 - 5，根據(jù)本發(fā)明第一實施例的流體供給裝置10包括例如供給單元12，其從外部接收流體，例如液體(如清潔流體)；內(nèi)管14，其安裝為與供給單元12相通，并且在兩側(cè)具有封閉端以及穿過其上表面形成的多個孔；以及外管16，其與內(nèi)管14間隔開預(yù)定距離設(shè)置以包圍該內(nèi)管14，并且在兩側(cè)具有封閉端以及在其兩側(cè)中分別形成的具有預(yù)定長度的第一側(cè)狹縫15和第二側(cè)狹縫17。這里，通過供給單元12提供的清潔流體通過內(nèi)管14中形成的多個孔13流到外管16中，并且通過外管16中形成的狹縫15和17噴射。此處，內(nèi)管14和外管16均具有圓形橫截面。此外，內(nèi)管14的直徑約為100mm，每個孔13的直徑約為10mm。此外，外管16的直徑約為130mm，每個狹縫15和17的長度約為240mm。換句話說，外管16與內(nèi)管14的直徑差約為30_。通過各個孔13流到外管16中的流體速度相對較快。實際上，由于流體從內(nèi)管14流到外管16所通過的空間，即孔13的橫截面面積陡然降低，因此與流體從供給單元12流到內(nèi)管14的情況相比，對流體的壓力增大了。出于這個原因，流體的流速增大。此外，外管16兩側(cè)分別形成的第一側(cè)狹縫15和第二側(cè)狹縫17相對于外管16中心線C (參見圖4)位于相對位置。狹縫15和17的尺寸均形成比內(nèi)管14中形成的孔13的尺寸大。由此可以降低通過外管16的狹縫15和17噴射的流體流速。換句話說，通過均勻地保持起初從內(nèi)管14中形成的孔13注入到外管16中的流體量，便可以克服流體通過狹縫15和17噴射時可能出現(xiàn)的流速差，即流量偏差。因此，可以相對減少流經(jīng)狹縫15和17的流體流速差，即流量偏差。同時，盡管本實施例描述的是穿過內(nèi)管14形成多個孔13，但也可以在內(nèi)管14的下表面或者其兩側(cè)的任意一個面上形成該孔13。此外，盡管本實施例中的孔13基本上在內(nèi)管14的上表面中成行排列，但也可以不成行排列，而是穿過內(nèi)管14以任意圖案來形成該孔13，這是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解的。此外，可以根據(jù)流體供給裝置10的要求或者通過供給單元12供給的流體的流速、特性等，將內(nèi)管14和外管16的長度和直徑、內(nèi)管14中形成的孔13的直徑，以及外管16中形成的狹縫15和17的長度做各種各樣的改變，這是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解的。圖6是表示根據(jù)本發(fā)明第二實施例的流體供給裝置的截面圖。參照圖6，除了內(nèi)管24和外管26均為橢圓形橫截面之外，本實施例的流體供給裝置20與第一實施例無異。其中，內(nèi)管24在水平方向上的寬度約為200mm，垂直方向上的高度約為100mm,并且內(nèi)管24中形成的每個孔23的直徑約為10mm。包圍內(nèi)管24設(shè)置的外管26的寬度約為230mm，高度約為130mm，并且外管26中形成的每個狹縫25和27的長度約為240mm。換句話說，外管26與內(nèi)管24之間的寬度差和高度差約為30mm。根據(jù)本實施例，流體經(jīng)過內(nèi)管24的孔23到達(dá)外管26的狹縫25和27的距離比第一實施例的長，因此同樣可以減少流速的偏差。下文中，將描述各種變型例，其中穿過內(nèi)管的上表面成直線形成多個孔，并且分別在外管的兩側(cè)(圖中的右側(cè)和左側(cè))形成第一和第二側(cè)狹縫。圖7是表示根據(jù)本發(fā)明第三實施例的流體供給裝置的截面圖。參照圖7，在本實施例的流體供給裝置30中，內(nèi)管34和外管36基本上為矩形橫截面。根據(jù)本實施例的內(nèi)管34包括相互平行的兩個側(cè)壁31a以及與內(nèi)側(cè)壁31a相連的內(nèi)上壁31b和內(nèi)下壁31c。供最初噴射流體的孔33穿過內(nèi)上壁31b的近似中心點形成。此外，本實施例的外管36具有相互平行的兩個外側(cè)壁32a，以及與外側(cè)壁32a相連的外上壁32b和外下壁32c。供最終噴射流體的狹縫35和37分別穿過外側(cè)壁32a的近似中心點形成。圖8是表示根據(jù)本發(fā)明第四實施例的流體供給裝置的截面圖。參照圖8，在本實施例的流體供給裝置40中，內(nèi)管44和外管46基本上為六邊形橫截面。本實施例的內(nèi)管44包括四個傾斜內(nèi)側(cè)壁41a，以及與右內(nèi)側(cè)壁和左內(nèi)側(cè)壁41a相連的內(nèi)上壁41b和內(nèi)下壁41c。供最初噴射流體的孔43穿過內(nèi)上壁41b的近似中心點形成。此外，本實施例的外管46包括四個外側(cè)壁42a，以及與右外側(cè)壁和左外側(cè)壁42a相連的外上壁42b和外下壁42c。供最終噴射流體的狹縫45和47穿過傾斜外側(cè)壁42a的接觸部分(右邊緣部分和左邊緣部分)形成。盡管圖5-8所示的實施例中，內(nèi)管和外管具有相同的橫截面形狀，但也可以將該流體供給裝置配置成內(nèi)管和外管具有各種橫截面形狀作為可替換的實施例，例如五邊形、七邊形和八邊形，這是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解的。圖9是表示根據(jù)本發(fā)明第五實施例的流體供給裝置的截面圖。與圖6和7中的附圖標(biāo)記相同的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖9，在本實施例的流體供給裝置50中，內(nèi)管24具有橢圓形橫截面，外管36具有基本上為矩形的橫截面。本實施例的內(nèi)管24是具有橢圓形橫截面的管部件，供最初噴射流體的孔23形成在管部件的上表面。此外，本實施例的外管36包括兩個相互平行的外側(cè)壁32a，以及與該外側(cè)壁32a相連的外上壁32b和外下壁32c。供最終噴射流體的狹縫35和37分別穿過外側(cè)壁32a的近似中心點形成。在本實施例中，具有孔的內(nèi)管24與具有狹縫35和37的外管36之間的間隔在總體上是不變的，但在外管36的四個邊緣部，內(nèi)管24與外管36之間的間隔相對大。圖10是表示根據(jù)本發(fā)明第六實施例的流體供給裝置的截面圖。與圖6和7中的附圖標(biāo)記相同的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖10，在本實施例的流體供給裝置60中，內(nèi)管34的橫截面基本上為矩形，夕卜管26具有橢圓形橫截面。本實施例的內(nèi)管34包括相互平行的兩個內(nèi)側(cè)壁31a，以及與內(nèi)側(cè)壁31a相連的內(nèi)上壁31b和內(nèi)下壁31c。供最初噴射流體的孔33穿過內(nèi)上壁31b的近似中心點形成。此外，本實施例的外管26是具有橢圓形橫截面的管部件，供最終噴射流體的狹縫25和27穿過該管部件的兩側(cè)形成。盡管圖9和10中所示的實施例中，內(nèi)管和外管具有橢圓形或矩形的橫截面形狀，但也可以用方形橫截面取代矩形橫截面。此外，可以為具有矩形橫截面的外管提供具有諸如圓形、六邊形的各種橫截面形狀的內(nèi)管，并且可以為具有橢圓形橫截面的外管提供具有諸如圓形、六邊形的各種橫截面形狀的內(nèi)管，這是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解的。盡管圖5-10中所示的實施例中，穿過內(nèi)管的上壁形成孔，但是也可以穿過內(nèi)管的下壁形成孔，這是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解的。圖11是表示根據(jù)本發(fā)明第七實施例的流體供給裝置的截面圖。具有與圖5中相同附圖標(biāo)記的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖11，在流體供給裝置70中，與第一實施例相同，內(nèi)管14和外管16具有圓形橫截面，但是在內(nèi)管14的下壁中對稱形成第一孔單元18和第二孔單元19。其中，第一孔單元18和第二孔單元19的孔相互平行排列。甚至在第一實施例中，可以在內(nèi)管14的上表面中形成兩行狹縫，這是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員容易理解的。圖12是表示根據(jù)本發(fā)明第八實施例的流體供給裝置的截面圖。與圖7中相同的附圖標(biāo)記所示的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖12，在本實施例的流體供給裝置80中，與第三實施例相同，內(nèi)管14和外管16具有基本上為矩形的橫截面，但是與第三實施例不同的是，在內(nèi)管34的下側(cè)形成相互平行的兩行孔38和39。換句話說,本實施例的內(nèi)管34包括相互平行的兩個內(nèi)側(cè)壁31a,以及與內(nèi)側(cè)壁31a相連的內(nèi)上壁31b和內(nèi)下壁31c。通過內(nèi)下壁31c的端部與內(nèi)側(cè)壁31a相連的部分形成供最初噴射流體的孔38和39。圖13是表示根據(jù)本發(fā)明第九實施例的流體供給裝置的截面圖。與圖8中相同的附圖標(biāo)記所示的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖13，在本實施例的流體供給裝置90中，與第四實施例相同，內(nèi)管44和外管46均具有基本上為六邊形的橫截面，但是，在內(nèi)管44中形成的孔48和49的圖案和位置與第四實施例不同。本實施例的內(nèi)管44包括四個傾斜的左、右內(nèi)側(cè)壁41a，以及與該左、右內(nèi)側(cè)壁41a相連的內(nèi)上壁41b和內(nèi)下壁41c。通過內(nèi)下壁41c的端部與傾斜側(cè)壁41a相連的部分形成供最初噴射流體的第一孔48和第二孔49。圖14是表示根據(jù)本發(fā)明第十實施例的流體供給裝置的截面圖。與圖6和11相同的附圖標(biāo)記所示的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖14，在本實施例的流體供給裝置100中，內(nèi)管24具有橢圓形橫截面，并且外管46具有六邊形橫截面。本實施例的內(nèi)管24具有通過橢圓形橫截面的下表面形成的兩行第一孔28和第二孔29，它們平行排列，用于最初噴射流體。圖15是表示根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的薄膜清潔系統(tǒng)的示意圖。與圖3-5相同的附圖標(biāo)記所示的部件表示功能相同的同樣部件。參照圖15，本實施例的薄膜清潔系統(tǒng)200包括流體供給裝置10。該流體供給裝置10設(shè)置在清潔槽202中并浸沒在該清潔槽202中儲存的清潔流體203內(nèi)，以便去除在清潔流體203中以浸沒狀態(tài)連續(xù)運動的薄膜204表面(上表面和下表面)上存在的雜質(zhì)。該流體供給裝置10可以噴射由泵(未示出)從清潔槽22的排液管(未示出drain)供給的清潔流體203。同時，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解，可以采用如上所述的根據(jù)其他實施例的任意一種流體供給裝置20-100來替代該流體供給裝置10。此外，根據(jù)本實施例的薄膜清潔系統(tǒng)200被示為在運動薄膜204上方和下方安裝一對流體供給裝置10。然而，還可以僅在薄膜204上方或下方安裝該流體供給裝置10。通過供給單元12從外部向安裝在清潔槽202中的雙管型流體供給裝置10提供清潔流體203，并且該供給裝置10包括從供給單元12垂直分叉的內(nèi)管14和外管16，從而向薄膜204以預(yù)定壓力均勻噴射清潔流體203。內(nèi)管14和外管16具有中空結(jié)構(gòu)。在內(nèi)管14的上表面沿長度方向形成多個孔13。通過外管16的兩側(cè)形成第一狹縫15和第二狹縫17。清潔槽202中的薄膜204繞在幾個輥209上并且以預(yù)定速度運動。從狹縫15和17噴射的清潔流體與靜止在清潔槽202中的清潔流體203混合，并且借助施加到薄膜204表面的預(yù)定壓力去除薄膜204表面上存在的雜質(zhì)。換句話說，為了去除粘附到薄膜204的雜質(zhì)，根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的薄膜清潔系統(tǒng)200采用雙管結(jié)構(gòu)作為噴射清潔流體203的裝置，從而改善噴射清潔流體的機(jī)構(gòu)。因此，噴射的流體的流速模式不會受到其他外界因素的干擾，并且可以在薄膜204所需的條件下以均勻壓力將流體噴射到薄膜204。實驗例圖16是表示當(dāng)根據(jù)第一、第二和第七實施例的流體供給裝置分別應(yīng)用于根據(jù)本發(fā)明優(yōu)選實施例的薄膜清潔系統(tǒng)時，通過每個狹縫釋放的流體的流速測試結(jié)果的曲線圖。
參照圖16，本實驗例中使用的雙管型流體供給裝置具有在外管一側(cè)沿長度方向連續(xù)形成的六個狹縫(例如后狹縫)以及在外管另一側(cè)連續(xù)形成的六個狹縫(例如前狹縫)。因此，在圖16上部靠近雙管300處標(biāo)記的阿拉伯?dāng)?shù)字分別表示后側(cè)形成的狹縫編號(1-6)和前側(cè)形成的狹縫編號(7-12)。因此，該曲線圖中的測量值表示通過每個狹縫噴射的流體的流速。根據(jù)圖16的曲線圖可以理解，從彼此相對的第一狹縫305和第二狹縫307 (例如第一狹縫與第七狹縫；第三 狹縫與第九狹縫；或者第六狹縫與第十二狹縫)釋放的流體的流速相似。這是因為最初從內(nèi)管噴射到相應(yīng)外管的流體被均勻分布并噴射。同時，如下通過實驗將根據(jù)本發(fā)明實施例的雙管型流體供給裝置的性能與單管型流體供給裝置的性能進(jìn)行比較。其中，將根據(jù)實驗例和比較例的流體供給裝置分別應(yīng)用到薄膜清潔系統(tǒng)，以測量施加到薄膜上部和下部的平均壓力之差、最小壓力之差、最大壓力之差以及其標(biāo)準(zhǔn)偏差。表1-4表示了測量結(jié)果。比較例表I表示了采用圖1所示的單管型流體供給裝置的比較例的試驗結(jié)果。該比較例中采用的流體供給裝置I是具有圓形橫截面、直徑為130mm并且具有直徑為IOmm的孔8的單管型噴嘴管。表I
權(quán)利要求
1.一種流體供給裝置，包括: 內(nèi)管，具有多個孔，用于分配從供給單元提供的流體；以及 外管，設(shè)置為包圍該內(nèi)管，并且具有多個狹縫，用于將從所述孔分配到其中的流體噴射到外部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中該內(nèi)管和外管的兩端是封閉的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中該內(nèi)管和外管同軸設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中該內(nèi)管與外管的長度基本相等。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中該狹縫包括: 沿長度方向設(shè)置在外管任意一側(cè)上的第一側(cè)狹縫；以及 設(shè)置在外管另一側(cè)與該第一側(cè)狹縫相對的第二側(cè)狹縫。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所 述的流體供給裝置，其中該孔的排列與所述狹縫的排列基本上垂直。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中內(nèi)管和外管的橫截面基本上是從圓形、橢圓形、矩形和六邊形、或其組合中選出的任意一種形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中該孔包括: 沿長度方向設(shè)置在內(nèi)管任意一側(cè)的第一側(cè)孔；以及 設(shè)置在內(nèi)管另一側(cè)與該第一側(cè)孔相對的第二側(cè)孔。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中當(dāng)內(nèi)管和外管分別具有圓形或橢圓形橫截面時，外管與內(nèi)管的直徑之差或者外管與內(nèi)管的寬度和高度之差約為25_-35_。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的流體供給裝置，其中每個所述孔的直徑約為10_，每個所述狹縫的長度約為240mm。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體供給裝置，其中該流體包括液體。
12.一種薄膜清潔系統(tǒng)，其包括: 清潔槽，其中儲存流體，使得薄膜能夠浸沒在其中同時運動；以及 權(quán)利要求1-11中任一項限定的流體供給裝置，其安裝在該清潔槽內(nèi)以向薄膜噴射流體。
13.—種薄膜清潔方法，其包括: (a)以浸沒在清潔槽中儲存的流體中的狀態(tài)移動薄膜；以及 (b)以浸沒在流體中的狀態(tài)，使用包括具有多個孔的內(nèi)管和具有多個狹縫的外管的雙管型流體供給裝置，以均勻壓力將流體通過該狹縫噴射出。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的薄膜清潔方法，其中該雙管型流體供給裝置設(shè)置為基本上與薄膜運動方向平行。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的薄膜清潔方法，其中在步驟(b)中，沿著外管長度方向?qū)⒘黧w噴射到相對側(cè)上。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的薄膜清潔方法，其中該雙管型流體供給裝置的內(nèi)管和外管的橫截面是圓形、橢圓形、矩形和六邊形或其組合中的任意一種形狀。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的薄膜清潔方法，其中該流體包括液體。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種流體供給裝置，其包括內(nèi)管，其具有多個孔，用于分配從供給單元提供的流體；以及外管，其包圍內(nèi)管設(shè)置，并且具有多個狹縫，用于將從孔分配到其中的流體噴射到外部。該外管與內(nèi)管的長度基本相同。該流體供給裝置可以用于薄膜清潔系統(tǒng)或方法中。
文檔編號B08B3/02GK103079716SQ201180040207
公開日2013年5月1日 申請日期2011年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月19日
發(fā)明者徐英株, 鄭在皓, 張道基, 廉基校, 林藝勳, 金哉旼, 閔庚勳, 樸元燦 申請人:Lg化學(xué)株式會社