專(zhuān)利名稱(chēng)：清潔管嘴的方法以及用于清潔管嘴的裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗方法以及管嘴 清洗裝置。
背景技術(shù)：
通常，用于分析諸如血或尿的樣本的自動(dòng)分析器包括用于清洗分配管嘴的管嘴 清洗裝置，以防止由于先分配的樣品粘附在分配管嘴上結(jié)果殘留在后分配的樣本中造成 遺留物影響分析結(jié)果。這樣的管嘴清洗裝置，在樣本被吸取的位置和樣本被排出的位置 之間，被布置在分配管嘴移動(dòng)的軌跡上，并被配置為向分配管嘴供給清洗液體。在使用 這樣的管嘴清洗裝置的管嘴清洗方法中，在吸取和排出樣本并且完成分配之后，分配管 嘴被移動(dòng)至管嘴清洗裝置的位置，清洗液體被供給至該分配管嘴，分配管嘴被清洗。在分配后的管嘴中，殘留少量樣本，并且如果分配管嘴是在儲(chǔ)藏有清洗液體的 清洗裝置內(nèi)被清洗，則清洗液體被殘留在分配管嘴內(nèi)的樣本污染。如此，當(dāng)遺留物要求 等級(jí)(request level)較高時(shí)，大量的清洗液體對(duì)于清洗處理來(lái)說(shuō)是必須的并且清洗時(shí)間也 很長(zhǎng)。為了解決該問(wèn)題，已經(jīng)提出了一種方法，在該方法中鄰近清洗箱安裝有廢物箱， 并且在將剩余的樣本排出至廢物箱之后進(jìn)行清洗(舉例來(lái)說(shuō)，參見(jiàn)專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本特許公開(kāi)公布號(hào)2003-14507
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問(wèn)題然而，由于分配管嘴是在兩個(gè)位置進(jìn)行預(yù)定操作，在廢物箱和清洗箱中，因此 用于分配管嘴的上升/下降操作所需的時(shí)間和用于從廢物箱移動(dòng)至清洗箱的時(shí)間被加在 了清洗時(shí)間中。結(jié)果，與只在清洗箱中進(jìn)行清洗操作相比，需要更長(zhǎng)的清洗時(shí)間。如 此，兩箱式清洗裝置在需要加快速度和性能提高的自動(dòng)分析器中的應(yīng)用并不是高效的。本發(fā)明已經(jīng)考慮到了上述問(wèn)題而完成，并且旨在提供一種確實(shí)地進(jìn)行分配管嘴 的清洗并且允許清洗時(shí)間的減少的管嘴清洗方法和管嘴清洗裝置。解決問(wèn)題的手段 為了解決前述問(wèn)題和達(dá)到前述目的，一種清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴 的管嘴清洗方法，其特征在于，該方法包括第一清洗步驟，其中在分配終止之后，通 過(guò)排出預(yù)加載液體從而在有清洗液體溢出的儲(chǔ)存箱的上部中清洗分配管嘴的內(nèi)壁表面； 以及第二清洗步驟，其中通過(guò)使得分配管嘴降下并浸入有清洗液體溢出的儲(chǔ)存箱內(nèi)從而 至少清洗分配管嘴的外壁表面。此外，本發(fā)明的管嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在用于清洗內(nèi)壁 表面的從分配管嘴排出的預(yù)加載液體落下并到達(dá)儲(chǔ)存箱之前，第一清洗步驟中的儲(chǔ)存箱 的溢出開(kāi)始。此外，本發(fā)明的管嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在從分配管嘴排出用于清洗內(nèi)壁表面的預(yù)加載液體終止之后，并在被排出的預(yù)加載液體落下并到達(dá)儲(chǔ)存 箱之后，第一清洗步驟中的儲(chǔ)存箱的溢出停止。此外，本發(fā)明的管嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在分配管嘴開(kāi)始 降下之后并在分配管嘴的頂端進(jìn)入儲(chǔ)存箱內(nèi)之前，第二清洗步驟中的儲(chǔ)存箱的溢出重新 開(kāi)始。此外，本發(fā)明的管 嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在從儲(chǔ)存箱拉出 分配管嘴之前，第二清洗步驟中的儲(chǔ)存箱的溢出停止。此外，本發(fā)明的管嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在第二清洗步驟 終止之后，并在通過(guò)升起分配管嘴而使得分配管嘴從儲(chǔ)存箱拉出之后，儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱內(nèi) 的清洗液體被排放。此外，本發(fā)明的管嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在第一清洗步驟 和第二清洗步驟中，從儲(chǔ)存箱溢出的清洗液體被排放至溢出箱內(nèi)。此外，本發(fā)明的管嘴清洗方法，其特征在于，在前述發(fā)明中，在第二清洗步驟 之前，分配管嘴被降下并且進(jìn)入流動(dòng)路徑，在流動(dòng)路徑處，位于有清洗液體溢出的儲(chǔ)存 箱的上部的供給將被噴出的清洗液體的單元噴出清洗液體。此外，一種清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗裝置，其特征在 于，該清洗裝置包括儲(chǔ)存箱，在它的上部具有孔，分配管嘴被插入孔內(nèi)，在儲(chǔ)存箱中 清洗液體溢出；溢出箱，從儲(chǔ)存箱溢出的清洗液體在溢出箱被排放；供給將被儲(chǔ)存的清 洗液體的單元，用于將清洗液體供給至儲(chǔ)存箱；控制單元，當(dāng)從分配管嘴排出的用于清 洗內(nèi)壁表面的預(yù)加載液體落下并到達(dá)儲(chǔ)存箱，并且分配管嘴的頂端開(kāi)始浸入儲(chǔ)存箱內(nèi)的 時(shí)候，用于至少控制儲(chǔ)存箱為溢出狀態(tài)。此外，本發(fā)明的清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗裝置，其特征 在于，在前述發(fā)明中，溢出箱的孔被形成為具有從儲(chǔ)存箱的孔向下傾斜的斜面。此外，本發(fā)明的清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗裝置，其特征 在于，在前述發(fā)明中，控制單元進(jìn)行控制以使得，在從分配管嘴排出的用于清洗內(nèi)壁表 面的預(yù)加載液體落下并到達(dá)儲(chǔ)存箱之前，溢出開(kāi)始，并且在用于清洗內(nèi)壁表面的預(yù)加載 液體從分配管嘴噴出終止并且隨后被排出的預(yù)加載液體落下并到達(dá)儲(chǔ)存箱之后，溢出停 止。此外，本發(fā)明的清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗裝置，其特征 在于，在前述發(fā)明中，控制單元進(jìn)行控制以使得，在分配管嘴開(kāi)始降下之后并且分配管 嘴的頂端進(jìn)入儲(chǔ)存箱內(nèi)之前，溢出重新開(kāi)始，并且在分配管嘴從儲(chǔ)存箱被拉出之前，溢 出停止。此外，本發(fā)明的清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗裝置，其特征 在于，在前述發(fā)明中，管嘴清洗裝置包括供給將被噴出的清洗液體的單元，供給將被噴 出的清洗液體的單元用于將清洗液體噴出至儲(chǔ)存箱的上部的區(qū)域中；以及控制單元進(jìn)行 控制以使得，當(dāng)由供給將被噴出的清洗液體的單元噴出的清洗液體落入儲(chǔ)存箱內(nèi)時(shí)，至 少儲(chǔ)存箱變?yōu)橐绯鰻顟B(tài)。本發(fā)明的效果根據(jù)本發(fā)明的管嘴清洗方法，當(dāng)從分配管嘴排出的用于清洗內(nèi)壁表面的預(yù)加載液體連同剩余的樣本混入儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱中的清洗液體中時(shí)，以及當(dāng)它的外壁表面上殘留 有樣本的分配管嘴被降下并浸入儲(chǔ)存有清洗液體的儲(chǔ)存箱內(nèi)時(shí)，儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱內(nèi)的清洗 液體溢出以致將包含樣本等的預(yù)加載液體連同儲(chǔ)存箱中的清洗液體一起被強(qiáng)制性地排放 至溢出箱，從而允許在單個(gè)儲(chǔ)存箱中的分配管嘴的清洗以減少清洗時(shí)間，并且還減少了 進(jìn)入儲(chǔ)存箱的樣本的遺留物以允許高效率的清洗。


圖1是示出使用本發(fā)明的實(shí)施例的管嘴清洗方法的自動(dòng)分析器的示意性構(gòu)造 圖。
圖2是示出分配裝置的示意性構(gòu)造圖。
圖3是示出使用本發(fā)明的實(shí)施例1的管嘴清洗方法的管嘴清洗裝置的示意性構(gòu)造 圖。
圖4是本發(fā)明的實(shí)施例1的管嘴清洗操作的流程圖。
圖5是示出本發(fā)明的實(shí)施例1的管嘴清洗方法中的清洗操作的操作圖。
圖6是示出本發(fā)明的實(shí)施例1的管嘴清洗方法中的清洗操作的時(shí)序圖。
圖7是示出使用本發(fā)明的實(shí)施例2的管嘴清洗方法的管嘴清洗裝置的示意性構(gòu)造 圖。
圖8是本發(fā)明的實(shí)施例2的管嘴清洗操作的流程圖。
圖9是示出本發(fā)明的實(shí)施例2的管嘴清洗方法中的清洗操作的操作圖。
圖10是示出本發(fā)明的實(shí)施例2的管嘴清洗方法中的清洗操作的時(shí)序圖。
符號(hào)說(shuō)明
1自動(dòng)分析器
2樣本臺(tái)
21、31、,41容納部
22樣本容器
22a/'42a.孔
23、43讀取部件
3反應(yīng)臺(tái)
21反應(yīng)容器
33光度計(jì)
33a光源
33b光接收部
34清洗機(jī)構(gòu)
4試劑臺(tái)
42試劑容器
5樣本分配機(jī)構(gòu)
7試劑分配機(jī)構(gòu)
50分配管嘴
41臂
52桿
53管嘴轉(zhuǎn)移部件
54a、54b 管
55沖洗器
55a汽缸
55b活塞
56活塞驅(qū)動(dòng)部件
57箱
58電磁閥
59泵
6, 8管嘴清洗機(jī)構(gòu)
60清洗箱
60a孔
61供給將被噴出的清洗液體的單元
61a管嘴部件
61b、62b、 63b、 64a 管
61c箱
61d、62d、63c 電磁閥
61e泵
62儲(chǔ)存箱
62a孔
62c廢物箱
63供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元
63a管嘴部件
64溢出箱
9測(cè)量機(jī)構(gòu)
10控制機(jī)構(gòu)
101控制部件
102輸入部件
102分析部件
104存儲(chǔ)部件
105輸出部件
106顯示部件
107發(fā)送/接收部件
Ll預(yù)加載液體
L2清洗液體
O豎直軸
S中心線(xiàn)具體實(shí)施方式
下面，將參照附圖具體描述本發(fā)明的管嘴清洗方法和管嘴清洗裝置的優(yōu)選實(shí)施 例。應(yīng)當(dāng)注意的是本發(fā)明不限于這樣的實(shí)施例。還應(yīng)當(dāng)注意的是在附圖的描述中圖的對(duì) 應(yīng)部分用相同的標(biāo)號(hào)給出。
(實(shí)施例1)
圖1是示出使用本發(fā)明的實(shí)施例的管嘴清洗方法的自動(dòng)分析器的示意性構(gòu)造 圖。如圖1所示，自動(dòng)分析器1包括用于測(cè)量經(jīng)過(guò)樣本和試劑之間的反應(yīng)物的光的測(cè)量 機(jī)構(gòu)9，以及控制包括測(cè)量機(jī)構(gòu)9在內(nèi)的整個(gè)自動(dòng)分析器1并分析測(cè)量機(jī)構(gòu)9中的測(cè)量結(jié) 果的控制機(jī)構(gòu)10。自動(dòng)分析器1通過(guò)這兩個(gè)機(jī)構(gòu)的合作來(lái)自動(dòng)分析多個(gè)樣本。
首先，將說(shuō)明測(cè)量機(jī)構(gòu)9。大致地劃分，測(cè)量機(jī)構(gòu)9包括，樣本臺(tái)2、反應(yīng)臺(tái) 3、試劑臺(tái)4、樣本分配機(jī)構(gòu)(樣本分配裝置)5、試劑分配機(jī)構(gòu)(試劑分配裝置)7和管嘴 清洗機(jī)構(gòu)(管嘴清洗裝置)6和8。
樣本臺(tái)2具有圓盤(pán)形臺(tái)，并包括沿著臺(tái)的圓周方向以固定間隔布置的多個(gè)容納 部21。含有樣本的樣本容器22被可移除地容納在各個(gè)容納部21中。樣本容器22具有 向上開(kāi)口的孔22a。樣本臺(tái)驅(qū)動(dòng)部件(未顯示)使得樣本臺(tái)2沿圖1中箭頭所示的方向旋 轉(zhuǎn)，穿過(guò)樣本臺(tái)2的中心的垂線(xiàn)是旋轉(zhuǎn)軸。當(dāng)旋轉(zhuǎn)樣本臺(tái)2的時(shí)候，樣本容器22被輸送 至樣本吸取位置，在那里樣本被樣本分配機(jī)構(gòu)5吸取。
具有與包含在那里的樣本的類(lèi)型和分析項(xiàng)目有關(guān)的樣本信息的識(shí)別標(biāo)簽(未顯 示)被附于樣本容器22上。同時(shí)，樣本臺(tái)2包括用于讀取樣本容器22的識(shí)別標(biāo)簽的信 息的讀取部件23。
反應(yīng)臺(tái)3具有環(huán)形的臺(tái)，并包括沿著臺(tái)的圓周方向以固定間隔布置的多個(gè)容納 部31。包含樣本和試劑的透明反應(yīng)容器32以該容器向上開(kāi)口的形式被可移除地容納在各 個(gè)容納部31中。此外，反應(yīng)臺(tái)驅(qū)動(dòng)部件(未顯示)使得反應(yīng)臺(tái)3沿圖1中箭頭所示的方 向旋轉(zhuǎn)，穿過(guò)反應(yīng)臺(tái)3的垂線(xiàn)是旋轉(zhuǎn)軸。當(dāng)旋轉(zhuǎn)反應(yīng)臺(tái)3時(shí)，反應(yīng)容器32被輸送至樣本 排出位置，在那里由樣本分配機(jī)構(gòu)5排出樣本，或者被輸送至試劑排出位置，在那里由 試劑分配機(jī)構(gòu)7排出試劑。
反應(yīng)臺(tái)3還包括光度計(jì)33。光度計(jì)33具有光源33a和光接收部33b。光源33a 發(fā)出預(yù)定波長(zhǎng)的分析光。光接收部33b測(cè)量已經(jīng)從光源33a發(fā)出的并且已經(jīng)透過(guò)反應(yīng)液 體的光束，該反應(yīng)液體由試劑和包含在反應(yīng)容器32內(nèi)的樣本之間的反應(yīng)所得到。在光度 計(jì)33中，光源33a和光接收部33b挾持反應(yīng)臺(tái)3的容納部31布置在徑向相對(duì)的位置上。 反應(yīng)臺(tái)3包括用于在測(cè)量之后將反應(yīng)液體從反應(yīng)容器32排放并且清洗反應(yīng)容器32的清洗 機(jī)構(gòu)34。
試劑臺(tái)4具有圓盤(pán)形的臺(tái)，并包括沿著臺(tái)的圓周方向以固定間隔布置的多個(gè)容 納部41。含有試劑的試劑容器42被可移除地容納在各個(gè)容納部41中。試劑容器42具 有向上開(kāi)口的孔42a。試劑臺(tái)驅(qū)動(dòng)部件(未顯示)使得試劑臺(tái)4沿圖1中箭頭所示的方向 旋轉(zhuǎn)，穿過(guò)試劑臺(tái)4的垂線(xiàn)是旋轉(zhuǎn)軸。當(dāng)試劑臺(tái)4旋轉(zhuǎn)時(shí)，試劑容器42被輸送至試劑吸 取位置，在那里由試劑分配機(jī)構(gòu)7吸取試劑。
具有與包含在那里的試劑的類(lèi)型和包含數(shù)量有關(guān)的試劑信息的識(shí)別標(biāo)簽(未顯 示)附于試劑容器42。同時(shí)，試劑臺(tái)4包括用于讀取試劑容器42的識(shí)別標(biāo)簽的信息的讀取部件43。
樣本分配機(jī)構(gòu)5包括臂，在該臂的頂端部分安裝用于吸取和排出樣本的分配管 嘴，并且該臂自由地在豎直方向上升/下降并且旋轉(zhuǎn)，通過(guò)它自己的基端部的垂線(xiàn)是中 心軸。樣本分配機(jī)構(gòu)5被布置在樣本臺(tái)2和反應(yīng)臺(tái)3之間。樣本分配機(jī)構(gòu)5用分配管嘴 吸取被樣本臺(tái)2輸送至預(yù)定位置的樣本容器22內(nèi)的樣本，旋轉(zhuǎn)臂，將樣本分配至被反應(yīng) 臺(tái)3輸送至預(yù)定位置的反應(yīng)容器32內(nèi)，以在預(yù)定時(shí)刻將樣本轉(zhuǎn)移至反應(yīng)臺(tái)3上的反應(yīng)容 器32內(nèi)。
試劑分配機(jī)構(gòu)7包括臂，在該臂的頂端部分安裝用于吸取和排出試劑的分配管 嘴，并且該臂自由地在豎直方向上升/下降并且旋轉(zhuǎn)，通過(guò)它自己的基端部的垂線(xiàn)是中 心軸。試劑分配機(jī)構(gòu)7被布置在試劑臺(tái)4和反應(yīng)臺(tái)3之間。試劑分配機(jī)構(gòu)7用分配管嘴 吸取被試劑臺(tái)4輸送至預(yù)定位置的試劑容器42內(nèi)的試劑，旋轉(zhuǎn)臂，將試劑分配至被反應(yīng) 臺(tái)3輸送至預(yù)定位置的反應(yīng)容器32內(nèi)，以在預(yù)定時(shí)刻將試劑轉(zhuǎn)移至反應(yīng)臺(tái)3上的反應(yīng)容 器32內(nèi)。
圖2顯示樣本分配機(jī)構(gòu)5的示意性構(gòu)造圖(與試劑分配機(jī)構(gòu)7相同)。樣本分配 機(jī)構(gòu)5具有分配管嘴50，如圖2所示。分配管嘴50由形成為條形管狀的不銹鋼等制成， 分配管嘴50的頂端側(cè)具有錐形形狀。錐形形狀的頂端是朝向下的，并且上側(cè)的基端附接 于臂51的頂端。臂51被水平地布置，并且臂51的基端被固定至桿52的上端。桿52 被豎直地布置，并且由管嘴轉(zhuǎn)移部件53旋轉(zhuǎn)，豎直軸O是中心。當(dāng)桿52旋轉(zhuǎn)的時(shí)候， 臂51沿水平方向旋轉(zhuǎn)以使得分配管嘴50沿水平方向移動(dòng)。管嘴轉(zhuǎn)移部件53使得桿52 沿豎直軸O上升/下降。當(dāng)桿52上升/下降時(shí)，臂51沿豎直方向上升/下降并且使得 分配管嘴50沿豎直(上下)方向上升/下降，該豎直方向是分配管嘴50的縱向。
管54a的一端連接至分配管嘴50的基端。管54a的另一端連接至沖洗器55。 沖洗器陽(yáng)具有與管5如的另一端連接的管狀汽缸55a和設(shè)置在汽缸55a的內(nèi)壁表面上以便 能夠在滑動(dòng)的同時(shí)在汽缸55a內(nèi)向前/向后移動(dòng)的活塞55b?；钊? 連接至活塞驅(qū)動(dòng)部 件56?；钊?qū)動(dòng)部件56被配置為，舉例來(lái)說(shuō)，使用線(xiàn)性馬達(dá)，并使活塞5 相對(duì)于汽缸 55a向前/向后移動(dòng)。管54b的一端連接至沖洗器55的汽缸55a。管54b的另一端連接 至包含預(yù)加載液體Ll的箱57。在管54b中間，連接電磁閥58和泵59。諸如蒸餾水和 脫氧水的不可壓縮流體被應(yīng)用作為預(yù)加載液體Li。該預(yù)加載液體Ll也可以應(yīng)用作為用 于清洗分配管嘴50內(nèi)部的清洗液體。
樣本分配機(jī)構(gòu)5驅(qū)動(dòng)泵59，并且通過(guò)打開(kāi)電磁閥58，包含在箱57內(nèi)的預(yù)加載液 體Ll經(jīng)由管54b填充進(jìn)沖洗器55的汽缸55a內(nèi)。此外，預(yù)加載液體Ll通過(guò)管5 從汽 缸55a填充至分配管嘴50的頂端。在預(yù)加載液體Ll被填充至分配管嘴50的頂端的狀態(tài) 中，電磁閥58被打開(kāi)，且泵59被停止。在吸取樣本或試劑的情形中，驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部 件56以使得活塞55b相對(duì)于汽缸55a向后移動(dòng)，以致吸取壓力經(jīng)由預(yù)加載液體Ll被施加 至分配管嘴50的頂端部分并且借助該吸取壓力吸取樣本或試劑。另一方面，在排出樣本 或試劑的情形中，驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56以使得活塞55b相對(duì)于汽缸55a向前移動(dòng)，以致 排出壓力經(jīng)由預(yù)加載液體Ll被施加至分配管嘴50的頂端部分并且通過(guò)該排出壓力排出樣 本或試齊U。
雖然在圖中未顯示，但是樣本分配機(jī)構(gòu)5包括感應(yīng)由分配管嘴50分配的樣本及試劑的液面的液面感應(yīng)功能。舉例來(lái)說(shuō)，液面感應(yīng)功能包括，根據(jù)分配管嘴50接觸樣本 或標(biāo)本的時(shí)候的靜電電容的變化來(lái)感應(yīng)液面的功能。
管嘴清洗機(jī)構(gòu)6被設(shè)置在樣本臺(tái)2和反應(yīng)臺(tái)3之間的位置，并位于樣本分配機(jī)構(gòu) 5中的分配管嘴50的水平運(yùn)動(dòng)的軌跡中間。管嘴清洗機(jī)構(gòu)8被設(shè)置在試劑臺(tái)4和反應(yīng)臺(tái)3 之間的位置，并位于試劑分配機(jī)構(gòu)7中的分配管嘴50的水平運(yùn)動(dòng)的軌跡中間。圖3顯示 管嘴清洗機(jī)構(gòu)的示意性構(gòu)造圖。如圖3所示，管嘴清洗機(jī)構(gòu)6 (與管嘴清洗機(jī)構(gòu)8相同) 具有清洗箱60。清洗箱60被形成為管狀，并且在它的上部具有孔60a以便降下的分配管 嘴50的頂端從上側(cè)插入。
在清洗箱60的中心區(qū)域，設(shè)置了矩形的或圓柱形的儲(chǔ)存箱62。儲(chǔ)存箱62在它 的上部具有孔62a以便降下的分配管嘴50的頂端從上側(cè)插入。在儲(chǔ)存箱62的側(cè)表面的 下部，設(shè)置了供給將被儲(chǔ)存的液體的單元63。供給將被儲(chǔ)存的液體的單元63經(jīng)由管嘴部 件63a連接至儲(chǔ)存箱62，該管嘴部件63a被設(shè)置成它的排出口朝向儲(chǔ)存箱62內(nèi)。管63b 的一端連接至管嘴部件63a，且管63b的另一端連接至包含清洗液體L2的箱61c。在管 63b的中間，連接有電磁閥6 和泵61e，并且管63b從管嘴部件63a經(jīng)由電磁閥6 和 泵61e連接至箱61c。蒸餾水、脫氧水等被應(yīng)用作為清洗液體L2。在儲(chǔ)存箱62的底部 上，連接了管62b的一端，并且管62b的另一端經(jīng)由電磁閥62d連接至廢物箱62c。
在清洗箱60內(nèi)，設(shè)置有溢出箱64。溢出箱64與儲(chǔ)存箱62被并排布置在清洗箱 60內(nèi)。溢出箱64的孔形成為白(mortar)狀以便形成從儲(chǔ)存箱62的孔6 向下傾斜的斜 面，并且孔的下部被形成為穿透清洗箱60的底部。管64a的一端連接至溢出箱64的下 部。管64a的另一端連接至廢物箱62c。
管嘴清洗機(jī)構(gòu)6打開(kāi)電磁閥6 并且驅(qū)動(dòng)泵61e，以致包含在箱61c內(nèi)的清洗液 體L2從管嘴部件63a的排出口經(jīng)由管63b供給至儲(chǔ)存箱62內(nèi)部，并且儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱62 內(nèi)。從管嘴部件63a供給至儲(chǔ)存箱62內(nèi)并且從孔6 溢出的清洗液體L2沿著在儲(chǔ)存箱 62和溢出箱64之間形成的斜面從箱62被引導(dǎo)至溢出箱64，并且經(jīng)由管64a從該溢出箱 64排放至清洗箱60外的廢物箱62c。通過(guò)打開(kāi)電磁閥62d，儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液 體L2經(jīng)由管62b被排放至廢物箱62c。
在具有這種構(gòu)造的自動(dòng)分析器1中，樣本分配機(jī)構(gòu)5將樣本從樣本容器22分配 至反應(yīng)容器32。此外，在反應(yīng)容器32內(nèi)，試劑分配機(jī)構(gòu)7分配來(lái)自試劑容器42的試劑。 在其中已經(jīng)分配了樣本和試劑的反應(yīng)容器32由反應(yīng)臺(tái)3沿圓周方向輸送的同時(shí)，樣本和 試劑被攪拌并發(fā)生反應(yīng)，并且反應(yīng)容器32在光源33a和光接收部33b之間經(jīng)過(guò)。然后， 從光源33a發(fā)出并穿過(guò)反應(yīng)容器32內(nèi)的反應(yīng)液體的分析光被光接收部33b測(cè)量，并且成 分的濃度等被分析。在分析終止之后，測(cè)量之后將反應(yīng)液體排放之后，反應(yīng)容器32被清 洗機(jī)構(gòu)34清洗，隨后在樣本的分析中再次被使用。
接下來(lái)，說(shuō)明控制機(jī)構(gòu)10。如圖1所示，控制機(jī)構(gòu)10包括控制部件101、輸入 部件102、分析部件103、存儲(chǔ)部件104、輸出部件105和發(fā)送/接收部件107。包括在 控制機(jī)構(gòu)10內(nèi)的各個(gè)部件電連接至控制部件101。分析部件103經(jīng)由控制部件101被連 接至光度計(jì)33，根據(jù)由光接收部33b接收到的光量來(lái)分析樣本的成分的濃度等，并且將 分析結(jié)果輸出至控制部件101。輸入部件102是用于將要被檢查的項(xiàng)目等輸入至控制部件 101的操作的部件，舉例來(lái)說(shuō)，鍵盤(pán)、鼠標(biāo)等被用作輸入部件。
存儲(chǔ)部件104被配置為使用磁性地存儲(chǔ)信息的硬盤(pán)和電存儲(chǔ)與在進(jìn)行處理的 過(guò)程中由自動(dòng)分析器1從硬盤(pán)加載的處理有關(guān)的各種程序的存儲(chǔ)器，并且存儲(chǔ)包括 樣本的分析結(jié)果等的信息。存儲(chǔ)部件104可以包括能夠讀取存儲(chǔ)在例如CD-ROM、 DVD-ROM、PC卡等的存儲(chǔ)介質(zhì)上的信息的輔助存儲(chǔ)器。
輸出部件105被配置為使用打印機(jī)、揚(yáng)聲器等，并在控制部件101的控制下，輸 出與分析有關(guān)的信息。輸出部件105包括配置為使用顯示器等的顯示部件106。顯示部 件106顯示分析的內(nèi)容、警報(bào)等，并且顯示面板等被用作顯示部件106。輸入部件102和 顯示部件106可以具體化為觸摸面板。發(fā)送/接收部件107具有作為根據(jù)預(yù)定格式經(jīng)由 未顯示的通信網(wǎng)絡(luò)發(fā)送/接收信息的接口的功能。
此外，上述樣本分配機(jī)構(gòu)5 (與試劑分配機(jī)構(gòu)7相同)的管嘴轉(zhuǎn)移部件53、活塞 驅(qū)動(dòng)部件56、電磁閥58和泵59被連接至控制部件101，并且上述管嘴清洗機(jī)構(gòu)6 (與管嘴 清洗機(jī)構(gòu)8相同)的泵61e、電磁閥6 和62d也被連接至控制部件101?？刂茩C(jī)構(gòu)10使 用與自動(dòng)分析器1的各個(gè)處理相關(guān)的各種程序來(lái)控制樣本分配機(jī)構(gòu)5、試劑分配機(jī)構(gòu)7、 管嘴清洗機(jī)構(gòu)6和8的操作和處理。
在如此配置的自動(dòng)分析器1中，試劑分配機(jī)構(gòu)7將試劑從試劑容器42分配至由 旋轉(zhuǎn)的反應(yīng)臺(tái)3沿圓周方向輸送的多個(gè)反應(yīng)容器32。其中已經(jīng)分配試劑的反應(yīng)容器32被 反應(yīng)臺(tái)3沿圓周方向輸送，并且樣本分配機(jī)構(gòu)5從保持在樣本臺(tái)2上的樣本容器22分配 樣本。在分配試劑和樣本之后，在分配接下來(lái)的試劑和樣本之前，分配管嘴被管嘴清洗 機(jī)構(gòu)6和8清洗，以避免遺留物。
接下來(lái)，將詳細(xì)說(shuō)明圖1和圖3中顯示的管嘴清洗機(jī)構(gòu)6 (與管嘴清洗機(jī)構(gòu)8相 同)。圖4是示出清洗分配管嘴的操作的流程圖，圖5是示出管嘴清洗機(jī)構(gòu)的清洗操作的 操作圖。
如圖4所示，首先，控制部件101將分配管嘴50移動(dòng)至位于樣本吸取位置的樣 本容器22的孔2 上方，并且使用分配管嘴50吸取樣本(步驟Sll)。接下來(lái)，控制部 件101將分配管嘴50移動(dòng)至位于樣本排出位置的反應(yīng)容器32上方，并且排出樣本(步驟 S12)。其后，控制部件101將分配管嘴50移動(dòng)至管嘴清洗機(jī)構(gòu)6內(nèi)的清洗箱60中的儲(chǔ) 存箱62的孔6 上方，以及有清洗液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62的上方，進(jìn)行第一清洗步驟 (步驟S13)，在該步驟中，通過(guò)排出預(yù)加載液體Ll而清洗內(nèi)部殘留有樣本的分配管嘴50 的內(nèi)壁表面，其中清洗液體L2是供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63所供給的。其后， 控制部件101進(jìn)行第二清洗步驟(步驟S14)，在該步驟中，分配管嘴50降下并浸入有清 洗液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62內(nèi)以至少清洗外壁表面。
在第一清洗步驟(步驟S13)中，如圖5(a)所示，首先，控制部件101通過(guò)連接 至儲(chǔ)存箱62的側(cè)面的下部的供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63來(lái)供給清洗液體。在有 清洗液體L2從孔6 溢出的儲(chǔ)存箱62上，控制部件101驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56以使得活 塞55b相對(duì)于汽缸55a向前運(yùn)動(dòng)，以將預(yù)加載液體Ll與殘留在分配管嘴50內(nèi)的樣本一起 排出。作為排出預(yù)加載液體Ll的結(jié)果，樣本從分配管嘴50內(nèi)部被去除，并且內(nèi)壁表面 被清洗。當(dāng)從分配管嘴50排出并包含樣本的預(yù)加載液體Ll到達(dá)儲(chǔ)存箱62時(shí)，由用于供 給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63所供給的清洗液體L2從孔6 溢出并進(jìn)入與儲(chǔ)存箱62 鄰近的溢出箱64。如此，包含樣本的預(yù)加載液體Ll被強(qiáng)制地與溢出的清洗液體L2—起11排放至溢出箱64。作為儲(chǔ)存箱62的清洗液體L2在包含樣本的預(yù)加載液體Ll下降并到 達(dá)儲(chǔ)存箱62的時(shí)候溢出的結(jié)果，樣本不會(huì)混入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2中，這允許用 清潔的清洗液體L2進(jìn)行清洗。如此，與用其中混有樣本的清洗液體L2進(jìn)行清洗的情形 相比較，可以減少在第一清洗步驟之后的清洗分配管嘴50的外壁表面的時(shí)間。從儲(chǔ)存箱 62溢出的清洗液體L2沿著儲(chǔ)存箱62和溢出箱64之間形成的斜面被引導(dǎo)至溢出箱64并 且經(jīng)由連接至溢出箱64的管64a被丟棄在廢物箱6 內(nèi)。
在第一清洗步驟終止之后，進(jìn)程前進(jìn)至第二清洗步驟(步驟S14)。如圖5(b)所 示，控制部件101使用管嘴轉(zhuǎn)移部件53，將帶有殘留在外壁表面上的樣本的分配管嘴50 降下并浸入有清洗液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62，該清洗液體L2是由連接在儲(chǔ)存箱62的側(cè)表 面的下部的、供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63經(jīng)由管嘴部件63a供給的。當(dāng)外壁表面 上附有樣本的分配管嘴50的頂端被降下并浸入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2中時(shí)，在儲(chǔ)存 箱62的孔6 中，由供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63供給至儲(chǔ)存箱62的清洗液體L2 溢出并進(jìn)入溢出箱64內(nèi)。如此，在剛完成從分配管嘴50的清洗之后，通過(guò)將分配管嘴 50降下并浸入清洗液體L2內(nèi)而從分配管嘴50的外壁表面被清洗的樣本連同清洗液體L2 一起被強(qiáng)制地溢出至溢出箱64。由于儲(chǔ)存箱62和溢出箱64之間的壁表面具有形成為從 儲(chǔ)存箱62向溢出箱64向下傾斜的斜面的形狀，因此容易進(jìn)行溢出。此外，通過(guò)調(diào)節(jié)分 配管嘴50的降下速度和將要溢出的清洗液體L2的量，可以在用儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體 L2進(jìn)行清洗之后，使得附于分配管嘴50的樣本與清洗液體L2—起溢出，而不會(huì)擴(kuò)散。 由于包含被去除的樣本的清洗液體L2被排放而沒(méi)有殘留在儲(chǔ)存箱62內(nèi)，因此儲(chǔ)存箱62 儲(chǔ)存了清潔的清洗液體L2，并且被污染的清洗液體L2不會(huì)再次附于分配管嘴50上，這 樣允許清洗時(shí)間的減少。
在本發(fā)明的管嘴清洗方法中，可以設(shè)計(jì)成使得外壁表面的清洗在將分配管嘴50 降下至儲(chǔ)存箱62內(nèi)所需的時(shí)間內(nèi)終止。此外，在降下分配管嘴50終止之后，分配管嘴 50可以保持為浸入在儲(chǔ)存箱62內(nèi)以進(jìn)一步清洗外壁表面。從儲(chǔ)存箱62溢出的清洗液體 L2被引導(dǎo)至溢出箱64，并經(jīng)由連接至溢出箱64的管64a被丟棄在廢物箱6 中。
這里，分配管嘴50在儲(chǔ)存箱62內(nèi)插入的深度可以是等于或大于在吸取樣本或試 劑的時(shí)候?qū)⒎峙涔茏?0埋入樣本等內(nèi)的任何深度，并且根據(jù)分析信息來(lái)選擇和確定。分 析信息與放置在樣本臺(tái)2上的樣本容器22相關(guān)聯(lián)地被儲(chǔ)存在存儲(chǔ)部件104中。在吸取血 清樣本或試劑的時(shí)候埋入分配管嘴50的深度是大約幾毫米(舉例來(lái)說(shuō)，3mm)，而在吸取 全血樣本的時(shí)候埋入分配管嘴50的深度是取決于樣本的總深度的深度(舉例來(lái)說(shuō)，離開(kāi) 液面總深度的70%)。如此，分配管嘴50在儲(chǔ)存箱62內(nèi)的插入深度是根據(jù)樣本的類(lèi)型 而設(shè)定，以致分配管嘴50以等于或大于在吸取的時(shí)候埋入分配管嘴50的深度的深度被插 入儲(chǔ)存箱62內(nèi)。即使在埋入深度最大的吸取全血樣本之后的管嘴清洗的情形中，在將分 配管嘴50插入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的時(shí)候，分配管嘴50的頂端的位置高于從供給將被儲(chǔ)存的清 洗液體的單元63連接管嘴部件63a的部分。通過(guò)將分配管嘴50的頂端部分定位成比管 嘴部件63a更高，即使在樣本殘留在分配管嘴50的外壁表面的情形中，也可以通過(guò)供給 來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63的供給液體來(lái)使得儲(chǔ)存箱62的內(nèi)部保持清潔。
在清洗分配管嘴50的外壁表面終止之后，來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元 63的清洗液體L2的供給被停止，并且儲(chǔ)存箱62的清洗液體L2的溢出也被停止。如上所述，通過(guò)頻繁地控制來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63的清洗液體L2的供給，可以 減少將被丟棄的清洗液體L2的量。在溢出終止之后，如圖5(c)所示，通過(guò)管嘴轉(zhuǎn)移部 件53使分配管嘴50升起，并從儲(chǔ)存箱62被拉出。通過(guò)調(diào)節(jié)升起分配管嘴50的速度， 可以減少附于分配管嘴50上的清洗液體L2的量。
在將分配管嘴50從儲(chǔ)存箱62拉出之后，如圖5(d)所示，通過(guò)打開(kāi)電磁閥62d， 儲(chǔ)存在儲(chǔ)存部件62中的清洗液體L2經(jīng)由管6 被排放至廢物箱62c。
雖然已經(jīng)描述了只有分配管嘴50的外壁表面在第二清洗步驟中被清洗的情形， 也可以在如圖5(b)所示的降下分配管嘴之后并且在如圖5(c)所示的升起分配管嘴50之 前，在儲(chǔ)存箱62內(nèi)浸入并清洗分配管嘴50以清洗外壁表面，同時(shí)驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56 使得活塞55b相對(duì)于汽缸55a向前和向后運(yùn)動(dòng)，以致分配管嘴50吸取/排出儲(chǔ)存箱62內(nèi) 的清洗液體L2以進(jìn)一步清洗分配管嘴50的內(nèi)壁表面。
此外，雖然如圖5(c)所示在上述的實(shí)施例中儲(chǔ)存箱62的溢出在升起分配管嘴50 之前就停止了，但是可以通過(guò)繼續(xù)來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63的清洗液體L2 的供給來(lái)使溢出繼續(xù)。
接下來(lái)，使用圖6，說(shuō)明本實(shí)施例的管嘴清洗方法的各個(gè)步驟的操作時(shí)間。圖6 是使用本發(fā)明的管嘴清洗機(jī)構(gòu)的清洗操作的時(shí)序圖。
在將樣本或試劑排出至容納在反應(yīng)臺(tái)3的容納部31內(nèi)的反應(yīng)容器32之后，分配 管嘴50被管嘴轉(zhuǎn)移部件53轉(zhuǎn)移至管嘴清洗機(jī)構(gòu)6或8的儲(chǔ)存箱62的上部。在轉(zhuǎn)移分配 管嘴50之后，如圖6 (a)所示，通過(guò)驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56以使得活塞55b相對(duì)于汽缸55a 向前移動(dòng)，預(yù)加載液體Ll與殘留在分配管嘴50內(nèi)的樣本一起從分配管嘴50排出(tl)。 然后，如圖6(b)所示，儲(chǔ)存箱62由控制部件101控制以使得，在活塞驅(qū)動(dòng)部件56被驅(qū) 動(dòng)的點(diǎn)tl之后，到驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56之后預(yù)加載液體Ll落下并達(dá)到儲(chǔ)存箱62的點(diǎn)t2 為止，清洗液體L2至少?gòu)墓┙o將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63被供給并且從儲(chǔ)存箱62的 孔6 沿著儲(chǔ)存箱62和溢出箱64之間形成的斜面溢出至溢出箱64。
在清洗分配管嘴50的內(nèi)壁表面之后，控制部件101停止活塞驅(qū)動(dòng)部件56的驅(qū)動(dòng) 以停止預(yù)加載液體Ll的排出(t3)，并且結(jié)果是，在被排出的預(yù)加載液體Ll到達(dá)儲(chǔ)存箱 62之后儲(chǔ)存箱62的溢出也被停止(t4)。在包含樣本的預(yù)加載液體Ll從分配管嘴50被 排出并且被引導(dǎo)至儲(chǔ)存箱62的同時(shí)，通過(guò)將清洗液體L2從供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單 元63供給從而至少儲(chǔ)存箱62被控制成溢出。通過(guò)這樣的控制，可以防止樣本混入儲(chǔ)存 箱62內(nèi)的清洗液體L2中。
其后，如圖6(c)所示，通過(guò)管嘴轉(zhuǎn)移部件53使得分配管嘴50被降下并浸入儲(chǔ) 存箱62內(nèi)(歷)。然后，如圖6(b)所示，儲(chǔ)存箱62被控制成，在管嘴轉(zhuǎn)移部件53被驅(qū) 動(dòng)的點(diǎn)t5之后，到分配管嘴50的頂端浸入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2中的點(diǎn)出為止，清 洗液體L2至少?gòu)墓┙o將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63被供給并且在儲(chǔ)存箱62的孔62a內(nèi) 溢出。
在分配管嘴50的降下終止的時(shí)間點(diǎn)(t7)，分配管嘴50的外壁表面的清洗被終 止，并且儲(chǔ)存箱62的溢出也停止(t8)。在分配管嘴50的降下終止之后清洗儲(chǔ)存箱62中 的分配管嘴50的外壁表面(或內(nèi)外壁表面)的情形中，在儲(chǔ)存箱內(nèi)的浸入清洗終止之后 使溢出停止(在這樣的情形中，浸入清洗的時(shí)間使得t7和t8之間的間隔變得更長(zhǎng))。
其后，如圖6(c)所示，通過(guò)驅(qū)動(dòng)管嘴轉(zhuǎn)移部件53使得分配管嘴50開(kāi)始從儲(chǔ)存 箱62被拉出(t9)，并且分配管嘴50的拉出在til完成。如圖6(d)所示，在分配管嘴50 被管嘴轉(zhuǎn)移部件53豎直地升起并從儲(chǔ)存箱62的清洗液體L2拉出的時(shí)間tlO之后，通過(guò) 打開(kāi)電磁閥62d，儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2被排放至廢物箱62c。
本實(shí)施例的管嘴清洗方法的使用允許在單個(gè)儲(chǔ)存箱中清洗分配管嘴以允許清洗 時(shí)間的減少，并且減少進(jìn)入儲(chǔ)存箱內(nèi)的樣本的遺留物以允許高效率的清洗。此外，本實(shí) 施例的清洗箱包括單個(gè)儲(chǔ)存箱和溢出箱，從儲(chǔ)存箱溢出的清洗液體被排放至該溢出箱， 本實(shí)施例的清洗箱并不需要設(shè)置諸如廢物箱的附加設(shè)備，并且本實(shí)施例的清洗箱具有清 洗機(jī)構(gòu)被簡(jiǎn)單化的優(yōu)點(diǎn)，這導(dǎo)致成本的降低。
作為本實(shí)施例的變化例的實(shí)例，通過(guò)在第一清洗步驟和第二清洗步驟始終持續(xù) 來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63的清洗液體L2的供給，儲(chǔ)存箱62可以總是持續(xù) 溢出。在這樣的情形中，如圖5(d)所示的儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2至廢物箱 62c的排放被省略，并且隨后進(jìn)行分配管嘴50的清洗。
此外，作為本實(shí)施例的變形例的實(shí)例，也可以在第一清洗步驟和第二清洗步驟 中始終從供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63供給清洗液體L2以使得儲(chǔ)存箱62溢出，在 如圖5(c)所示的分配管嘴50的升起之前停止來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63的 清洗液體L2的供給，并通過(guò)管嘴轉(zhuǎn)移部件53從儲(chǔ)存箱62拉出分配管嘴50。此后，如 圖5 (d)所示的儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2被排放在廢物箱6 內(nèi)，并且重新進(jìn)行分配管 嘴50的清洗。由于本方法允許將被使用的清洗液體L2的量的減少，同時(shí)維持了儲(chǔ)存箱 62內(nèi)的清洗液體L2的較高的澄清度，因此本方法是更優(yōu)選的。
(實(shí)施例2)
接下來(lái)，說(shuō)明本發(fā)明的管嘴清洗方法的實(shí)施例2。實(shí)施例2與實(shí)施例1的不同之 處在于，在實(shí)施例2中，供給將被噴出的清洗液體的單元61被布置在清洗箱60內(nèi)的儲(chǔ)存 箱62和溢出箱64上方。
圖7顯示本實(shí)施例的管嘴清洗裝置的示意性構(gòu)造圖，圖8顯示示出清洗操作的流 程圖，圖9顯示示出清洗操作的操作圖。
如圖7所示，在本實(shí)施例的管嘴清洗裝置的清洗箱60中，設(shè)置了供給將被噴出 的清洗液體的單元61。供給將被噴出的清洗液體的單元61具有管嘴部件61a。多個(gè)(在 本實(shí)施例中是兩個(gè))管嘴部件61a被布置在清洗箱60的上部，朝向清洗箱60的豎直中心 線(xiàn)S，以致排出口面向斜下方。管61b的一個(gè)分支端連接至各個(gè)管嘴部件61a。此外， 管61b被形成為在它從一端延伸至另一端的時(shí)候接合在一起。管61b的另一端連接至包 含清洗液體L2的箱61c。此外，在接合在一起的管61b的中間，連接了電磁閥61d和泵 61e。
儲(chǔ)存箱62和溢出箱64被設(shè)置在清洗箱60內(nèi)部的管嘴部件61a的下方區(qū)域以及 管6 和電磁閥62d被布置在儲(chǔ)存箱62的底部，供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63被設(shè) 置在儲(chǔ)存箱62的側(cè)表面的下部，這些方面是與實(shí)施例1相同的。
在本實(shí)施例中，通過(guò)打開(kāi)電磁閥61d并驅(qū)動(dòng)泵61e，包含在箱61c內(nèi)的清洗液體 L2從管嘴部件61a的排出口噴出，經(jīng)由管61b進(jìn)入清洗箱60內(nèi)部。此外，通過(guò)打開(kāi)電磁 閥6 和驅(qū)動(dòng)泵61e，包含在箱61c內(nèi)的清洗液體L2從管嘴部件63a的排出口經(jīng)由管63b供給至儲(chǔ)存箱62內(nèi)部，并被儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱62內(nèi)部。從管嘴部件61a排出至清洗箱60內(nèi) 部的清洗液體L2和從管嘴部件63a供給至儲(chǔ)存箱62內(nèi)部并且從儲(chǔ)存箱62的孔62a溢出 的清洗液體L2溢出并進(jìn)入溢出箱64。由于儲(chǔ)存箱62和溢出箱64之間的壁表面具有形 成為從儲(chǔ)存箱62至溢出箱64向下傾斜的斜面的形狀，清洗液體L2沿著斜面從孔62a被 引導(dǎo)至溢出箱64的內(nèi)部。溢出的清洗液體L2等經(jīng)由管64a從溢出箱64排放至清洗箱60 外部的廢物箱62c。此外，通過(guò)打開(kāi)電磁閥62d，儲(chǔ)存在儲(chǔ)存部件62內(nèi)的清洗液體L2經(jīng) 由管62b被排放至廢物箱62c。
在本實(shí)施例中，如圖8所示，步驟S21、S22、S23和S25與實(shí)施例1中的相同， 但是本實(shí)施例與實(shí)施例1的不同之處在于，在步驟S23和S25之間設(shè)置了這樣的步驟，其 中分配管嘴50進(jìn)入流動(dòng)路徑并下降，清洗液體L2在流動(dòng)路徑已經(jīng)由供給將被噴出的清洗 液體的單元61噴出，并且分配管嘴50的外壁表面被清洗，其中供給將被噴出的清洗液體 的單元61在有清洗液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62的上部中(步驟S24)。樣本由分配管嘴50 吸取(步驟S21)，樣本被排出至反應(yīng)容器32內(nèi)(步驟S22)，通過(guò)在儲(chǔ)存箱62上排出預(yù) 加載液體Ll來(lái)清洗分配管嘴50的內(nèi)壁表面，其中供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63向 儲(chǔ)存箱62供給清洗液體L2從而儲(chǔ)存箱62有清洗液體L2溢出(步驟S23)，并且分配管 嘴50被降下并進(jìn)入流動(dòng)路徑，清洗液體L2在流動(dòng)路徑已經(jīng)從有清洗液體L2溢出的儲(chǔ)存 箱62上的供給將被噴出的清洗液體的單元61的管嘴部件61a噴出，外表面壁被清洗(步 驟S24)。接著，分配管嘴50被降下并浸入有清洗液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62內(nèi)以進(jìn)一步 至少清洗外壁表面(步驟S25)。在第一清洗步驟中(步驟S23)，如圖9(a)所示，首先，控制部件101通過(guò)連接 至儲(chǔ)存箱62的側(cè)表面的下部的供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63來(lái)供給清洗液體L2。 在清洗液體L2經(jīng)由孔62a溢出的儲(chǔ)存箱62上，控制部件101驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56以使 得活塞55b朝向汽缸55a運(yùn)動(dòng)，借此將預(yù)加載液體Ll與殘留在分配管嘴50內(nèi)的樣本一起 排出。作為排出預(yù)加載液體Ll的結(jié)果，樣本從分配管嘴50內(nèi)部被去除，并且它的內(nèi)壁 表面被清洗。當(dāng)從分配管嘴50排出的并包含樣本的預(yù)加載液體Ll到達(dá)儲(chǔ)存箱62時(shí)， 由供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63供給的清洗液體L2從孔62a溢出并進(jìn)入靠近儲(chǔ)存箱 62的溢出箱64內(nèi)。如此，包含樣本的預(yù)加載液體Ll被強(qiáng)制地與溢出的清洗液體L2 — 起排放至溢出箱64內(nèi)。作為當(dāng)包含樣本的預(yù)加載液體Ll落下并到達(dá)儲(chǔ)存箱62的時(shí)候儲(chǔ) 存箱62的清洗液體L2溢出的結(jié)果，樣本不會(huì)混入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2中，這允許 用清潔的浸洗液體L2進(jìn)行后來(lái)的浸洗。從儲(chǔ)存箱62溢出的清洗液體L2被弓I導(dǎo)至溢出箱 64，并經(jīng)由連接至溢出箱64的管64a被丟棄進(jìn)廢物箱62c內(nèi)。在第一清洗步驟終止之后，如圖9(b)所示，控制部件101使分配管嘴50降下并 且進(jìn)入流動(dòng)路徑內(nèi)，清洗液體L2在流動(dòng)路徑已經(jīng)從供給將被噴出的清洗液體的單元61的 管嘴部件61a噴出并清洗分配管嘴50的外壁表面，該供給將被噴出的清洗液體的單元61 位于有清洗液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62的上部。在圖9(b)中，在清洗液體L2從供給將被 儲(chǔ)存的清洗液體的單元63的管嘴部件63a供給至儲(chǔ)存部件62并且清洗液體L2從儲(chǔ)存箱 62的孔62a溢出至溢出箱64的狀態(tài)中，分配管嘴50被降下并進(jìn)入從而被插入清洗箱60 的孔60a內(nèi)。結(jié)果，從管嘴部件61a噴出的清洗液體L2沿著分配管嘴50的縱向(進(jìn)入 方向)沖擊分配管嘴50的外壁表面，并且附于分配管嘴50的外壁表面上的樣本被去除，從而清洗分配管嘴50的外壁表面。被去除的樣本與清洗液體L2 —起落入儲(chǔ)存箱62內(nèi)。 由于儲(chǔ)存箱62有清洗液體L2從孔62a溢出，因此被去除的樣本與溢出的清洗液體L2 — 起被排放至溢出箱64。接下來(lái)，如圖9(c)所示，在繼續(xù)將清洗液體L2從管嘴部件61a噴出至有清洗 液體L2溢出的儲(chǔ)存箱62內(nèi)的同時(shí)，分配管嘴50降下并浸入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2 內(nèi)，該清洗液體L2是由供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63供給。當(dāng)分配管嘴50浸入儲(chǔ) 存箱62內(nèi)的清洗液體L2內(nèi)時(shí)，經(jīng)由管嘴部件63a連接至儲(chǔ)存箱62的下部的供給將被儲(chǔ) 存的清洗液體的單元63持續(xù)供給清洗液體L2。如此，在儲(chǔ)存箱62的孔62a內(nèi)，清洗液 體L2溢出至溢出箱64，并且使通過(guò)從管嘴部件61a噴出清洗液體L2而去除的樣本和通 過(guò)浸入在儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2中而從外壁表面清洗的樣本與清洗液體L2 —起被強(qiáng) 制地溢出至溢出箱64。在清洗分配管嘴50的外壁表面終止之后，來(lái)自供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元 63的清洗液體L2的供給被停止，儲(chǔ)存箱62的清洗液體L2的溢出也被停止。在溢出終止 之后，如圖9(d)所示，通過(guò)管嘴轉(zhuǎn)移部件53將分配管嘴50升起，并從儲(chǔ)存箱62拉出。在將儲(chǔ)存箱62從分配管嘴50拉出之后，如圖9(e)所示，通過(guò)打開(kāi)電磁閥62d， 儲(chǔ)存在儲(chǔ)存部件62內(nèi)的清洗液體L2經(jīng)由管62b被排放至廢物箱62c。接下來(lái)，使用圖10，說(shuō)明本實(shí)施例的管嘴清洗方法的各個(gè)步驟的操作時(shí)間。圖 10是使用本實(shí)施例的管嘴清洗機(jī)構(gòu)的清洗操作的時(shí)序圖。在將樣本或試劑排出至容納在反應(yīng)臺(tái)3的容納部31內(nèi)的反應(yīng)容器32內(nèi)之后，分 配管嘴50被管嘴轉(zhuǎn)移部件53轉(zhuǎn)移至管嘴清洗機(jī)構(gòu)6或8的儲(chǔ)存箱62的上部。在轉(zhuǎn)移分 配管嘴50之后，如圖10 (a)所示，通過(guò)驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56以將活塞55b相對(duì)于汽缸55a 向前移動(dòng)，預(yù)加載液體Ll與殘留在分配管嘴50內(nèi)的樣本一起從分配管嘴50排出(tl)。 然后，如圖10(b)所示，儲(chǔ)存箱62由控制部件101控制以使得，在活塞驅(qū)動(dòng)部件56被驅(qū) 動(dòng)的點(diǎn)tl之后，到驅(qū)動(dòng)活塞驅(qū)動(dòng)部件56之后預(yù)加載液體Ll落下并達(dá)到儲(chǔ)存箱62的點(diǎn)t2 為止，清洗液體L2至少?gòu)墓┙o將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63被供給并且從儲(chǔ)存箱62的 孔62a沿著儲(chǔ)存箱62和溢出箱64之間形成的斜面溢出至溢出箱64。 在清洗分配管嘴50的內(nèi)壁表面之后，控制部件101停止活塞驅(qū)動(dòng)部件56 (t3)， 并且結(jié)果是，在被排出的預(yù)加載液體Ll到達(dá)儲(chǔ)存箱62之后儲(chǔ)存箱62的溢出也被停止 (t4)。在包含樣本的預(yù)加載液體Ll從分配管嘴50被排出并且被引導(dǎo)至儲(chǔ)存箱62的同 時(shí)，通過(guò)將清洗液體L2從供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63供給從而至少儲(chǔ)存箱62被 控制成溢出。通過(guò)這樣的控制，可以防止樣本混入儲(chǔ)存箱62內(nèi)的清洗液體L2中。此后，如圖10(c)和10(d)所示，管嘴轉(zhuǎn)移部件51使得分配管嘴50降下并且進(jìn) 入流動(dòng)路徑內(nèi)，清洗液體L2在流動(dòng)路徑由在清洗箱60的上部中的供給將被噴出的清洗液 體的單元61噴出。然后，如圖10(b)和10(d)所示，控制儲(chǔ)存箱62以使得，在清洗液 體L2由供給將被噴出的清洗液體的單元61噴出之后(t5)，到作為清洗液體L2沖擊分配 管嘴50的外壁表面以去除附于分配管嘴50上的樣本并且包含樣本的清洗液體L2落下并 到達(dá)儲(chǔ)存箱62的時(shí)間點(diǎn)的點(diǎn)t6為止，清洗液體L2至少?gòu)墓┙o清洗液體的單元供給并且 從儲(chǔ)存箱62的孔62a溢出。分配管嘴50降下并進(jìn)入流動(dòng)路徑內(nèi)，清洗液體L2在流動(dòng)路 徑從管嘴部件61a噴出然后降下并浸入儲(chǔ)存箱62內(nèi)。在管嘴轉(zhuǎn)移部件53使得分配管嘴50降下的同時(shí)，通過(guò)從供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元63供給清洗液體L2而至少控制 儲(chǔ)存箱62溢出。在用從管嘴部件61a排出的清洗液體L2清洗殘留在分配管嘴50的外壁 表面的樣本的最上面部分之后，通過(guò)供給將被噴出的清洗液體的單元61進(jìn)行的清洗液體 L2的噴出被停止(t7)。在終止降下分配管嘴50的時(shí)間點(diǎn)(t8)，分配管嘴50的外壁表面的清洗被終止， 并且儲(chǔ)存箱62的溢出也停止(t9)。在分配管嘴50的降下終止之后進(jìn)一步清洗儲(chǔ)存箱62 中的分配管嘴50的外壁表面(或內(nèi)外壁表面)的情形中，在儲(chǔ)存箱62內(nèi)的分配管嘴50 的浸入清洗終止之后使溢出停止(在這樣的情形中，浸入清洗的時(shí)間使得t8和t9之間的 間隔變得更長(zhǎng))。此后，通過(guò)驅(qū)動(dòng)管嘴轉(zhuǎn)移部件53開(kāi)始將分配管嘴50從儲(chǔ)存箱62拉出(tlO)，并且分配管嘴50的拉出在tl2完成。如圖10(e)所示，在分配管嘴50被管嘴轉(zhuǎn)移部件53 豎直地升起并從儲(chǔ)存箱62的清洗液體L2拉出的點(diǎn)til之后，通過(guò)打開(kāi)電磁閥62d，儲(chǔ)存 箱62內(nèi)的清洗液體L2被排放至廢物箱62c。工業(yè)實(shí)用性如上所述，本發(fā)明的清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗方法和管 嘴清洗裝置在對(duì)樣本和試劑的反應(yīng)物進(jìn)行光學(xué)測(cè)量并分析樣本的成分的分析器中是有用 的。
權(quán)利要求
1.一種清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗方法，其特征在于，所述方 法包括第一清洗步驟，其中在分配終止之后，通過(guò)排出預(yù)加載液體從而在有清洗液體溢出 的儲(chǔ)存箱的上部中清洗所述分配管嘴的內(nèi)壁表面；以及第二清洗步驟，其中通過(guò)使得所述分配管嘴降下并浸入有所述清洗液體溢出的所述 儲(chǔ)存箱內(nèi)從而至少清洗所述分配管嘴的外壁表面。
2.如權(quán)利要求1所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在從所述分配管嘴排出的用于清 洗所述內(nèi)壁表面的所述預(yù)加載液體落下并到達(dá)所述儲(chǔ)存箱之前，所述第一清洗步驟中的 所述儲(chǔ)存箱的溢出開(kāi)始。
3.如權(quán)利要求1或2所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在從所述分配管嘴排出用于 清洗所述內(nèi)壁表面的所述預(yù)加載液體終止之后，并在被排出的預(yù)加載液體落下并到達(dá)所 述儲(chǔ)存箱之后，所述第一清洗步驟中的所述儲(chǔ)存箱的所述溢出停止。
4.如權(quán)利要求3所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在所述分配管嘴開(kāi)始降下之后并 在所述分配管嘴的頂端浸入所述儲(chǔ)存箱內(nèi)之前，所述第二清洗步驟中的所述儲(chǔ)存箱的所 述溢出重新開(kāi)始。
5.如權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在從所述儲(chǔ)存箱 拉出所述分配管嘴之前，所述第二清洗步驟中的所述儲(chǔ)存箱的所述溢出停止。
6.如權(quán)利要求1至5中任意一項(xiàng)所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在所述第二清 洗步驟終止之后，并在通過(guò)升起所述分配管嘴而使得所述分配管嘴從所述儲(chǔ)存箱拉出之 后，儲(chǔ)存在所述儲(chǔ)存箱內(nèi)的清洗液體被排放。
7.如權(quán)利要求1至6中任意一項(xiàng)所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在所述第一清 洗步驟和所述第二清洗步驟中，從所述儲(chǔ)存箱溢出的所述清洗液體被排放至所述溢出箱 內(nèi)。
8.如權(quán)利要求1所述的管嘴清洗方法，其特征在于，在所述第二清洗步驟之前，所述 分配管嘴被降下并且進(jìn)入流動(dòng)路徑，在所述流動(dòng)路徑處，位于有所述清洗液體溢出的所 述儲(chǔ)存箱的上部的供給將被噴出的清洗液體的單元噴出清洗液體。
9.一種清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴的管嘴清洗裝置，其特征在于，所述清 洗裝置包括儲(chǔ)存箱，在它的上部具有孔，所述分配管嘴被插入所述孔內(nèi)，在所述儲(chǔ)存箱中清洗 液體溢出；溢出箱，從所述儲(chǔ)存箱溢出的所述清洗液體在所述溢出箱被排放；供給將被儲(chǔ)存的清洗液體的單元，用于將所述清洗液體供給至所述儲(chǔ)存箱；控制單元，當(dāng)從所述分配管嘴排出的用于清洗內(nèi)壁表面的預(yù)加載液體落下并到達(dá)所 述儲(chǔ)存箱，并且所述分配管嘴的頂端開(kāi)始浸入所述儲(chǔ)存箱內(nèi)的時(shí)候，所述控制單元用于 至少控制所述儲(chǔ)存箱為溢出狀態(tài)。
10.如權(quán)利要求9所述的管嘴清洗裝置，其特征在于，所述溢出箱的所述孔被形成為 具有從所述儲(chǔ)存箱的所述孔向下傾斜的斜面。
11.如權(quán)利要求9所述的管嘴清洗裝置，其特征在于，所述控制單元進(jìn)行控制以使 得，在從所述分配管嘴排出的用于清洗內(nèi)壁表面的預(yù)加載液體落下并到達(dá)所述儲(chǔ)存箱之前，溢出開(kāi)始，并且在從所述分配管嘴排出用于清洗所述內(nèi)壁表面的所述預(yù)加載液體終 止并且隨后被排出的預(yù)加載液體落下并到達(dá)所述儲(chǔ)存箱之后，所述溢出停止。
12.如權(quán)利要求10所述的管嘴清洗裝置，其特征在于，所述控制單元進(jìn)行控制以使 得，在所述分配管嘴開(kāi)始降下之后并且在所述分配管嘴的所述頂端浸入所述儲(chǔ)存箱內(nèi)之 前，溢出重新開(kāi)始，并且在將所述分配管嘴從所述儲(chǔ)存箱拉出之前，溢出停止。
13.如權(quán)利要求9至12中任意一項(xiàng)所述的管嘴清洗裝置，其特征在于所述管嘴清洗 裝置包括供給將被噴出的清洗液體的單元，所述供給將被噴出的清洗液體的單元用于在 所述儲(chǔ)存箱的上部的區(qū)域中噴出清洗液體；以及所述控制單元進(jìn)行控制以使得，當(dāng)由所 述供給將被噴出的清洗液體的單元噴出的清洗液體落入所述儲(chǔ)存箱內(nèi)時(shí)，至少所述儲(chǔ)存 箱變?yōu)橐绯鰻顟B(tài)。
全文摘要
本發(fā)明提供允許確實(shí)地進(jìn)行分配管嘴的清洗并允許清洗時(shí)間減少的管嘴清洗方法和管嘴清洗裝置。為此目的，一種清洗用于吸取和排出液體的分配管嘴(50)的管嘴清洗方法包括第一清洗步驟，其中在分配終止之后，通過(guò)排出預(yù)加載液體(L1)而在有清洗液體(L2)溢出的儲(chǔ)存箱(62)的上部中清洗分配管嘴(50)的內(nèi)壁表面；以及第二清洗步驟，其中通過(guò)使得將分配管嘴(50)降下并浸入有清洗液體(L2)溢出的儲(chǔ)存箱(62)內(nèi)來(lái)至少清洗外壁表面。
文檔編號(hào)B08B9/027GK102027377SQ20098010985
公開(kāi)日2011年4月20日 申請(qǐng)日期2009年3月11日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月17日
發(fā)明者黑田顕久 申請(qǐng)人:貝克曼考爾特公司