專利名稱：基片存放容器的干式清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種基片存放容器的干式清洗裝置，尤其涉及使用干冰粒子對基片存放容器的主體和蓋子分別進行干式清洗的基片存放容器的干式清洗裝置。
背景技術(shù)：
通常，半導(dǎo)體裝置或顯示器裝置通過使用半導(dǎo)體晶片或平板顯示器(FPDflat panel display)基片經(jīng)過蒸鍍、蝕刻、光刻、離子注入等各種工藝而制造。
為了順利進行上述各種工藝半導(dǎo)體晶片或平板顯示器基片不僅在各組之間進行移送，而且還在同一個組中的各制造裝置之間進行移送。
作為一例，基片可以通過自動搬運車(truck)或機器移送臂來移送。
這種基片在同一組中較短的距離內(nèi)可以以張為單位進行移送，而在距離較長或穩(wěn)定性要求較高時可以以組(lot)為單位存放到輸送盒(carrier)或晶片盒(cassette)等基片存放容器中進行移送。
作為一例，基片存放容器中由聚丙烯(poly propylene)材質(zhì)構(gòu)成的容器稱為P.P.盒。
所述P.P.盒包含內(nèi)部形成用于存放基片的存放空間的主體和安裝在所述主體入口處的蓋子。
此外，即使是微細(xì)的雜質(zhì)或顆粒，只要被貼附在基片表面，基片質(zhì)量將顯著降低。
為此，用于存放基片的基片存放容器需要具有高潔凈度。
因此，基片存放容器在存放基片之前通過基片存放容器的清洗裝置進行清洗。
通常，基片存放容器經(jīng)過在所述主體和蓋子上處理清洗液之后通過噴射干燥空氣使殘留液干燥的濕式清洗過程進行清洗。
但是，由于現(xiàn)有的基片存放容器的清洗裝置采用濕式清洗方式，因此存在需要經(jīng)過由清洗液處理過程和干燥空氣噴射過程組成的兩個步驟的不便之處。
并且，由于現(xiàn)有的基片存放容器的清洗裝置需要分別具有處理清洗液的裝置和噴射干燥空氣的裝置，因此存在設(shè)備體積過大、制作成本上升的缺點。
尤其，由于基片存放容器為盒狀，現(xiàn)有的基片存放容器的清洗裝置很難利用干燥空氣對其整個內(nèi)部進行均勻干燥，因此存在難以完成精細(xì)的清洗過程的問題。
并且，如上所述的聚丙烯材質(zhì)的基片存放容器，由于在干燥過程中被暴露在高溫干燥空氣中，所以易于變形并因此縮短壽命。
此外，除了所述濕式清洗方式以外目前還存在利用刷子、超音波或化學(xué)藥品等的各種清洗方式。
但是，上述的清洗方式難以滿足隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的發(fā)展而提出的精細(xì)的清洗要求。
尤其，最近隨著環(huán)保問題日益受重視對清洗方式所提出的環(huán)保要求越來越高，而上述清洗方式難以滿足環(huán)保要求。
最近，曾提出過既能滿足環(huán)保要求、又能克服上述清洗方式中的缺陷的清洗方式。
作為最具代表性的一例，曾提出過將通過二氧化碳(CO2)氣體的相變化產(chǎn)生的干冰粒子高速撞擊到被清洗物體的表面，從而清除雜質(zhì)或顆粒的干冰清洗方式。
所述干冰清洗方式，由于干冰粒子在清除被清洗物的污染物之后被升華而沒有殘留物，因而比濕式清洗方式更為環(huán)保。
并且，由于所述干冰清洗方式只通過噴射干冰粒子的一個步驟即可完成清洗，因此清洗過程較簡單、設(shè)備體積也可以顯著減小，這有利于提高清潔室的空間利用率，而且由于可以進行微細(xì)的清洗過程，因此還可以對難以清除污染粒子的部分進行清洗。
因此，有必要提供使用干冰粒子清洗基片存放容器的基片存放容器清洗裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決如上所述的問題而提出的，其目的在于提供一種使用干冰粒子清洗基片存放容器的基片存放容器的干式清洗裝置。
為了實現(xiàn)上述目的本發(fā)明所提供的干式清洗裝置包含用于裝載基片存放容器的裝載部、使用干冰粒子清洗所述基片存放容器的清洗部以及用于卸載在所述清洗部進行清洗的所述基片存放容器的卸載部。
在所述結(jié)構(gòu)中，所述裝載部按照互不相同的路徑將所述基片存放容器的主體和蓋子裝載到所述清洗部，所述清洗部向所述主體和蓋子的整個內(nèi)部分別噴射干冰粒子，所述卸載部按照互不相同的路徑卸載經(jīng)過清洗的所述主體和蓋子。


圖1為一般的基片存放容器一實施例的剖面圖；圖2為本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置一實施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置裝載部的本發(fā)明一實施例的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置裝載部的本發(fā)明一實施例的正面結(jié)構(gòu)示意圖；圖5為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置清洗部的本發(fā)明一實施例的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；圖6為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置清洗部的本發(fā)明一實施例的正面結(jié)構(gòu)示意圖；圖7為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置卸載部的本發(fā)明一實施例的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖；圖8為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置卸載部的本發(fā)明一實施例的正面結(jié)構(gòu)示意圖；主要符號說明100為基片存放容器，101為主體，102為蓋子，200為裝載部，210為第一裝載部，220為第二裝載部，300為清洗部，310為第一清洗移送部，320為第二清洗移送部，330為干式噴射單元，333為干冰噴嘴，334為空氣噴嘴，340為氣刀(air knife)，350為門，360為清除單元，400為卸載部，410為第一卸載部，420為第二卸載部，500為翻轉(zhuǎn)單元。
具體實施例方式
以下，參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的最佳實施例。
圖1為一般的基片存放容器一實施例的剖面圖。如圖1所示，所述基片存放容器100包含內(nèi)部形成用于存放基片的存放空間101a的主體101、用于開閉所述主體101的存放空間101a的蓋子102。
圖2為本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置一實施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
如圖2所示，依據(jù)本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置的一實施例包含裝載部200，以用于將由主體101和蓋子102構(gòu)成的基片存放容器100分離為主體101和蓋子102而分別按互不相同的路徑進行裝載；清洗部300，以用于向由所述裝載部200裝載的主體101和蓋子102內(nèi)部噴射干冰粒子進行清洗；卸載部400，以用于將由所述清洗部300進行清洗的主體101和蓋子102按互不相同的路徑進行卸載。
所述裝載部200包含用于裝載基片存放容器100的主體101的第一裝載部210(211、212)和用于裝載基片存放容器100的蓋子102的第二裝載部220。
這種裝載部200最好相鄰而設(shè)置第一裝載部210和第二裝載部220，以使工作者易于裝載主體101和蓋子102。
所述清洗部300包含用于接收第一裝載部210裝載的主體101的第一清洗移送部310、用于接收第二裝載部220裝載的蓋子102的第二清洗移送部320及用于分別向主體101和蓋子102內(nèi)部噴射干冰粒子的干式噴射單元330。
所述卸載部400包含用于卸載由清洗部300進行清洗的主體101的第一卸載部410和用于卸載由清洗部300進行清洗的蓋子102的第二卸載部420。
所述主體101最好采用一般的搬運狀態(tài)，例如以開口朝上的狀態(tài)進行裝載及卸載，這樣就不需要專門進行翻轉(zhuǎn)。
并且，通過干式噴射單元330向主體101內(nèi)部噴射干冰粒子之后，為了使與所述干冰粒子一同清除的雜質(zhì)依靠重力作用進行自由降落，主體101最好以開口朝下的狀態(tài)投入到清洗部300。
并且，考慮到清洗部300中干式噴射單元330的設(shè)置空間，主體101需要上升到高于最初投入高度的位置。
因此，為了易于投入主體101，裝載部200將最初以開口朝上的狀態(tài)裝載的主體101按上下方向翻轉(zhuǎn)為開口朝下的狀態(tài)，并將主體101上升到高于最初投入高度的位置而裝載到清洗部300。
并且，清洗部300由下到上進入到開口朝下的主體101內(nèi)部噴射干冰粒子，以通過自由降落清除雜質(zhì)。
并且，為了易于搬出主體101，卸載部400將從清洗部300以開口朝下的狀態(tài)搬出的主體101按上下方向翻轉(zhuǎn)為開口朝上的狀態(tài)，并將主體101下降到最初的投入高度進行卸載。
因此，裝載部200和卸載部400上分別設(shè)有將在下面進行描述的一對翻轉(zhuǎn)單元500。
圖3為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置裝載部的本發(fā)明一實施例的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖，圖4為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置裝載部的本發(fā)明一實施例的正面結(jié)構(gòu)示意圖。
基片存放容器100以搬運狀態(tài)裝載到所述裝載部200，例如主體101以開口朝上的狀態(tài)投入到第一裝載部210(211、212)，蓋子102以開口朝下的狀態(tài)投入到第二裝載部220。
并且，如上所述，主體101上升到進行清洗作業(yè)所需高度的同時按上下方向翻轉(zhuǎn)為開口朝下的狀態(tài)，然后裝載到清洗部300。
因此，裝載部200上設(shè)有翻轉(zhuǎn)單元500，以用于提升并按上下方向翻轉(zhuǎn)主體101以使主體101開口朝下。
作為一例，在第一裝載部212設(shè)置翻轉(zhuǎn)單元500的區(qū)間可以設(shè)置主體監(jiān)測傳感器(未圖示)，以用于監(jiān)測主體101是否進入。
因此，當(dāng)由所述主體監(jiān)測傳感器監(jiān)測到主體101時最好停止第一裝載部212，并由翻轉(zhuǎn)單元500加壓支持而提升及旋轉(zhuǎn)主體101。
所述翻轉(zhuǎn)單元500包含用于加壓支持主體101兩個側(cè)面而進行旋轉(zhuǎn)的加壓旋轉(zhuǎn)部件510和用于升降所述加壓旋轉(zhuǎn)部件510的升降部件520。
所述加壓旋轉(zhuǎn)部件510包含在主體101的兩個側(cè)面相對而設(shè)置的一對加壓襯墊511、用于旋轉(zhuǎn)所述各加壓襯墊511的一對驅(qū)動部512、用于將所述各驅(qū)動部512移送到主體101側(cè)面并使加壓襯墊511加壓接觸主體101側(cè)面的一對汽缸513。
所述加壓襯墊511直接連接到驅(qū)動部512，可以以一點支持主體101的一側(cè)面，但最好如圖3所示，以兩點支持主體101的一側(cè)面，從而穩(wěn)定地加壓并支持主體101。
據(jù)此，主體101一側(cè)的各加壓襯墊511分別結(jié)合到設(shè)置桿514的兩側(cè)，而設(shè)置桿514的中央連接驅(qū)動部512。
因此，當(dāng)主體101沿著第一裝載部210以開口朝上的狀態(tài)到達清洗部300跟前時，加壓襯墊511通過汽缸513朝主體101的兩個側(cè)面突出，從而加壓并支持主體101。
如此，由于主體101由加壓襯墊511加壓并支持的狀態(tài)下汽缸513沿著升降部件520上升，因而主體101也一起上升。同時，驅(qū)動部512將設(shè)置桿514旋轉(zhuǎn)180度，以使主體101按上下方向翻轉(zhuǎn)為開口朝下。
如此，當(dāng)主體101開口朝下并被提升到一定高度時，提升第一裝載部212以支持主體101的底面。因此，當(dāng)由第一裝載部212支持主體101時翻轉(zhuǎn)單元500脫離主體101而下降。在此狀態(tài)下第一裝載部212被旋轉(zhuǎn)驅(qū)動，從而將主體101裝載到清洗部300的第一清洗移送部310。
如上所述，主體101不需要手動提升或翻轉(zhuǎn)，通過翻轉(zhuǎn)單元500自動上升或上下翻轉(zhuǎn)為開口朝下，然后被投入到清洗部300。
另外，蓋子102沿著第二裝載部220水平移送到第二清洗移送部320。
圖5為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置清洗部的本發(fā)明一實施例的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖，圖6為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置清洗部的本發(fā)明一實施例的正面結(jié)構(gòu)示意圖。
在所述清洗部300主體101和蓋子102以開口朝下的狀態(tài)分別投入到第一清洗移送部310和第二清洗移送部320。
如此，為了向移送到第一清洗移送部310和第二清洗移送部320的主體101和蓋子102的整個內(nèi)部噴射干冰粒子，清洗部300在第一清洗移送部310和第二清洗移送部320的下側(cè)分別設(shè)置干式噴射單元330。
并且，第一清洗移送部310和第二清洗移送部320如圖所示，在其旋轉(zhuǎn)軸(shaft)的中央部分被略去的狀態(tài)下支持主體101和蓋子102的邊緣。因此，當(dāng)所述各干式噴射單元330向主體101和蓋子102內(nèi)部噴射干冰粒子時不會受到干涉。
并且，干式噴射單元330向主體101和蓋子102內(nèi)部的互不相同的多個部位呈輻射狀地噴射干冰粒子。
尤其，向主體101內(nèi)部噴射干冰粒子的干式噴射單元330最好構(gòu)成為可升降的結(jié)構(gòu)，從而上升進入到主體101的內(nèi)部。
這種干式噴射單元330包含多個干冰噴嘴333，該干冰噴嘴333偏心結(jié)合到與驅(qū)動軸331相結(jié)合的轉(zhuǎn)板332，根據(jù)所述4轉(zhuǎn)板332的旋轉(zhuǎn)呈輻射狀地噴射干冰粒子。
由于各干冰噴嘴333呈輻射狀地噴射干冰粒子，因此對主體101和蓋子102的整個內(nèi)部進行干式清洗。
在上述結(jié)構(gòu)中，干式噴射單元330還包含用于向主體101內(nèi)部噴射干燥空氣的空氣噴嘴334。
由于主體101的內(nèi)部比蓋子102內(nèi)部深，因此設(shè)置所述空氣噴嘴334用于防止主體101內(nèi)部存在不能通過干冰粒子進行清洗的部位。
即，由各干冰噴嘴333噴射的干冰粒子通過由所述空氣噴嘴334噴射的干燥空氣被順利地引導(dǎo)到主體101和蓋子102的整個內(nèi)部，從而沒有遺漏而完整地進行清洗。
在上述結(jié)構(gòu)中，清洗部300還包含用于向主體101和蓋子102的外表面加壓噴射干燥空氣的氣刀340。
通過這種氣刀340對主體101和蓋子102的外表面也進行清洗，因而可以完全消除因基片存放容器100引起的基片被污染的因素。
并且，氣刀340最好以固定形態(tài)設(shè)置在第一清洗移送部310和第二清洗移送部320的入口，以使主體101和蓋子102在移送的途中被清洗。
在上述結(jié)構(gòu)中，清洗部300設(shè)置在外殼301內(nèi)部，所述外殼301還包含門350，以用于開閉投入主體101的入口或搬出主體101的出口。
作為一例，門350的上下部可以由外殼301引導(dǎo)滑移，并可以與汽缸(未圖示)等結(jié)合進行自動操作。
因此，防止在清洗部300進行清洗的過程中產(chǎn)生的顆?；螂s質(zhì)流入到裝載部200或卸載部400。
并且，還可以在投入主體101的入口及搬出主體101的出口處均設(shè)置門350，從而可以對清洗部300進行密封。
在上述結(jié)構(gòu)中，清洗部300還包含用于在其內(nèi)部收集脫落的雜質(zhì)的清除單元360。
因此，在清洗部300中與干冰粒子進行反應(yīng)而產(chǎn)生的各種雜質(zhì)通過清除單元360排到外部，從而可以進一步提高清洗效率。
這種清除單元360最好結(jié)合在干式噴射單元330的下側(cè)，與干式噴射單元一起進行升降。
圖7為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置卸載部的本發(fā)明一實施例的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖，圖8為表示本發(fā)明所提供的基片存放容器的干式清洗裝置卸載部的本發(fā)明一實施例的正面結(jié)構(gòu)示意圖。
在所述卸載部400主體101以開口朝下的狀態(tài)被搬到第一卸載部410(411、412)，蓋子102以開口朝下的狀態(tài)被搬到第二卸載部420。
并且，在將主體101下降到便于搬出主體101的最初投入高度的同時按上下方向翻轉(zhuǎn)為開口朝上。
因此，卸載部400上設(shè)有翻轉(zhuǎn)單元500，以用于降低并按上下方向翻轉(zhuǎn)從清洗部300搬出的主體101以使其開口朝上。
這種翻轉(zhuǎn)單元500與設(shè)置在裝載部200的翻轉(zhuǎn)單元相同，因而在此省略其說明。
作為一例，在第一卸載部411設(shè)置翻轉(zhuǎn)單元500的區(qū)間可以設(shè)置主體監(jiān)測傳感器(未圖示)，以用于監(jiān)測主體101是否搬出。
因此，當(dāng)由所述主體監(jiān)測傳感器監(jiān)測到主體101時最好停止第一卸載部411，并由翻轉(zhuǎn)單元500加壓支持而降低及旋轉(zhuǎn)主體101。
據(jù)此，當(dāng)主體101沿著第一清洗移送部310進行清洗并以開口朝下的狀態(tài)到達第一卸載部411時，加壓襯墊511通過汽缸513朝主體101的兩個側(cè)面突出，從而加壓并支持主體101。
如上所述，在由加壓襯墊511加壓并支持主體101的狀態(tài)下降低第一卸載部411。如此，在主體101由加壓襯墊511加壓支持而被支撐的狀態(tài)下，如果第一卸載部411下降到最初的投入高度，則汽缸513將沿著升降部件520下降，因而主體101也一起下降。同時，驅(qū)動部512將設(shè)置桿514旋轉(zhuǎn)180度，以使主體101按上下方向翻轉(zhuǎn)為開口朝上。
如此，當(dāng)主體101在開口朝上的狀態(tài)下由第一卸載部411支持時，翻轉(zhuǎn)單元500脫離主體101而上升。在此狀態(tài)下主體101由第一卸載部411進行卸載。
如上所述，主體101不需要手動降低或翻轉(zhuǎn)，通過翻轉(zhuǎn)單元500自動降低或上下翻轉(zhuǎn)為開口朝上，從而恢復(fù)到最初狀態(tài)并被搬出。
另外，蓋子102沿著第二卸載部320水平移送而進行卸載。
此外，裝載部200、清洗部300及卸載部400上沿著主體101及蓋子102的移送路徑將設(shè)置多個監(jiān)測傳感器(未圖示)，以用于監(jiān)測主體101及蓋子102的位置。
雖然，上面通過附圖描述了本發(fā)明特定的優(yōu)選實施例，但本發(fā)明并非限定于所述實施例，在不脫離本發(fā)明技術(shù)思想的范圍內(nèi)本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的具有通常知識的工作者可以進行各種變更及修改。
綜上所述，本發(fā)明因為使用干冰粒子清洗基片存放容器，所以沒有被排出的廢棄物。從而具有環(huán)保效果。
并且，本發(fā)明因為使用干冰粒子，所以可以進行精細(xì)的清洗并使基片存放容器的變形或破損最小，具有延長使用壽命的效果。
并且，本發(fā)明與現(xiàn)有的濕式清洗裝置相比清洗工藝較簡單，因而可以使設(shè)備大小顯著減小，具有經(jīng)濟效應(yīng)。
并且，本發(fā)明不需要根據(jù)干冰粒子的噴射方向?qū)娣湃萜鞯闹黧w和蓋子進行翻轉(zhuǎn)，而是按照搬運狀態(tài)進行裝載及卸載，因而具有提高作業(yè)效率的效果。
權(quán)利要求
1.一種基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于包含裝載部，以用于裝載基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；以及卸載部，以用于卸載在所述清洗部進行清洗的所述基片存放容器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述裝載部按照互不相同的路徑將所述基片存放容器的主體和蓋子裝載到所述清洗部；所述清洗部向所述主體和蓋子的整個內(nèi)部分別噴射干冰粒子；所述卸載部按照互不相同的路徑卸載進行清洗的所述主體和蓋子。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述裝載部使所述主體開口朝下，同時使主體上升到高于最初的投入高度的位置而移送到所述清洗部；所述清洗部從下向上進入到所述主體內(nèi)部而噴射干冰粒子；所述卸載部使從所述清洗部搬出的所述主體開口朝上，同時使主體下降到最初的投入高度而進行移送。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述裝載部和所述卸載部還包含一對翻轉(zhuǎn)單元，以用于上下翻轉(zhuǎn)投入到所述裝載部的所述主體，并將從所述清洗部搬到所述卸載部的所述主體上下翻轉(zhuǎn)為開口朝上。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述各翻轉(zhuǎn)單元包含加壓旋轉(zhuǎn)部件，以用于加壓支持所述主體的兩個側(cè)面而進行旋轉(zhuǎn)；以及升降部件，以用于升降所述加壓旋轉(zhuǎn)部件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述加壓旋轉(zhuǎn)部件包含在所述主體的兩個側(cè)面相對而設(shè)置的一對加壓襯墊；一對驅(qū)動部，以用于旋轉(zhuǎn)所述各加壓襯墊；以及一對汽缸，以用于將所述各驅(qū)動部移送到所述主體側(cè)面，以使所述加壓襯墊加壓接觸所述主體側(cè)面。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述清洗部包含干式噴射單元，以用于向所述主體或所述蓋子內(nèi)部的互不相同的多個部位呈輻射狀地噴射干冰粒子。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述干式噴射單元包含多個干冰噴嘴，該干冰噴嘴偏心結(jié)合到與驅(qū)動軸相結(jié)合的轉(zhuǎn)板，并根據(jù)所述轉(zhuǎn)板的旋轉(zhuǎn)呈輻射狀地噴射干冰粒子。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述干式噴射單元還包含空氣噴嘴，以用于向所述主體或蓋子內(nèi)部噴射干燥空氣。
10.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述清洗部還包含氣刀，以用于向所述主體或蓋子的外表面加壓噴射干燥空氣。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述清洗部設(shè)置在外殼內(nèi)部，所述外殼還包含門，以用于開閉投入所述基片存放容器的入口或搬出所述基片存放容器的出口。
12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基片存放容器的干式清洗裝置，其特征在于所述清洗部還包含清除單元，以用于通過向外排出而清除清洗過程中產(chǎn)生的雜質(zhì)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基片存放容器的干式清洗裝置，該干式清洗裝置包含裝載部，以用于投入并移送基片存放容器；清洗部，以用于使用干冰粒子清洗所述基片存放容器；卸載部，以用于搬出并移送在所述清洗部完成清洗的所述基片存放容器。依據(jù)本發(fā)明，因為使用干冰粒子清洗基片存放容器，所以沒有被排出的廢棄物而具有環(huán)保效果。并且，本發(fā)明因為使用干冰粒子，所以可以進行微細(xì)的清洗并使基片存放容器的變形或破損最小，具有延長使用壽命的效果。并且，本發(fā)明與現(xiàn)有的濕式清洗裝置相比清洗工藝較簡單，因而可以使設(shè)備大小顯著變小，具有經(jīng)濟效應(yīng)。
文檔編號B08B7/00GK1990127SQ200610101810
公開日2007年7月4日 申請日期2006年7月11日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月29日
發(fā)明者金世鎬, 樸鐘秀, 尹哲男 申請人:K.C.科技股份有限公司