專利名稱：基板用搬運除塵裝置的使用方法以及基板用搬運除塵裝置的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明是關于基板用搬運除塵裝置的使用方法及這種基板用搬運除塵 裝置，用以搬運玻璃板、合成樹脂板或金屬板等基板，對附著于該基板表 面上的塵土或灰塵(以下將其稱為塵埃)等，只是利用的洗滌空氣或以超音波 頻率振動的超音波空氣(以下將其總稱為洗滌空氣)使塵埃飛散后而吸引除去。
背景技術(shù)：
邊參照圖邊說明以基板為對象的基板用搬運除塵裝置。圖18、圖19 是現(xiàn)有技術(shù)的基板用搬運除塵裝置的說明圖。圖20是說明基板的彎曲的說 明圖，圖20(a)是說明基板的前端的彎曲的說明圖，圖20(b)是說明基板的中 間位置的彎曲的說明圖。
如圖l8、圖19所示，在搬運輥IOO上朝基板搬運方向(箭頭a方向)搬 運基板G,利用除塵單元200除塵單元。除塵單元200包括下側(cè)除塵單元 210及上側(cè)除塵單元220。利用下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220在基 板G的表背面除塵。
下側(cè)除塵單元210沿著基板搬運方向(箭頭a方向)并列構(gòu)成吸氣室211、 噴氣室212及吸氣室213，配置于搬運輥100側(cè)(下側(cè))。吸氣室211、 213 分別與圖上未示的吸氣泵連接，并且，噴氣室212與圖上未示的送風泵連 接。吸氣室211、噴氣室212及吸氣室213各自具有吸引縫裙214、噴出縫 隙215，、吸引縫隙216。
同樣地，上側(cè)除塵單元220朝著基板搬運方向(箭頭a方向)并列構(gòu)成吸 氣室221、噴氣室222及吸氣室223,配置于無搬運輥100的側(cè)(上側(cè))。吸 氣室221、 223與圖上未示的吸氣泵連接，并且，噴氣室222與圖上未示的 送風泵連接。吸氣室221、噴氣室222及吸氣室223各自具有吸引縫隙224、 噴出縫隙225，、吸引縫隙226。
在圖18亦得知，下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220在上下相向配
置，在這些下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間搬運基板G。基板G 位于下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間時，配置成自基板G的背 面至下側(cè)除塵單元210的間隔及自基板G的表面至上側(cè)除塵單元220的間
隔大致相等。
如圖18、 19所示，這種基板G的前端的一邊相對下側(cè)除塵單元210、 上側(cè)除塵單元220的吸引縫隙214、 216、 224、 226及噴出縫隙215，、 225， 的長度方向大致平行，即，以相對基板搬運方向a大致垂直的狀態(tài)搬運。
在下側(cè)除塵單元210,自噴氣室212噴出洗滌空氣，用吸氣室211、213 吸引而除去由洗滌空氣所剝離的塵埃。下側(cè)除塵單元210對基板G的除塵 對象面是與下側(cè)除塵單元210相向的基板面(在圖18為背面)。
同樣地，在上側(cè)除塵單元220，自噴氣室222噴出洗滌空氣，用吸氣室 221、 223吸引而除去由洗滌空氣所剝離的塵埃。上側(cè)除塵單元220對基板 G的除塵對象面是與上側(cè)除塵單元220相向的基板面(在圖18為表面)。
在本基板用搬運除塵裝置1000，利用在基板G的上面.(上側(cè)除塵單元
板G的下面(下側(cè)除塵單元210側(cè))流動的空氣產(chǎn)生利用文杜里管效應的對下
衡，穩(wěn)定地搬運基板G。
此外，在這種基板用搬運除塵裝置的先前技術(shù)上，公開本專利申請人 之前申請的專利，例如公開于在特開2003-332401號公報段落編號 0027 0036、圖3)
近年來，基板G對TFT(薄膜電晶體)液晶面板、PDP(等離子顯示面板)、 或LCD(液晶顯示器)等使用的玻璃基板的需求增加。
這種玻璃基板為防止受損，通過使玻璃基板具有柔軟性而進行處理。 為確保柔軟性，有玻璃基板的厚度變薄的傾向。隨著玻璃基板變薄玻璃基 板的重量亦逐漸減少。于是，隨著玻璃基板變薄，發(fā)生新的問題。以下說 明這些問題。
(1)空轉(zhuǎn)的問題
在圖18所示的基板用搬運除塵裝置1000，隨著基板G的重量減少， 搬運輥IOO和基板G之間的摩擦力減少，到處可見搬運基板G的搬運輥100 空轉(zhuǎn)的現(xiàn)象。因此，為實現(xiàn)穩(wěn)定地搬運，要求調(diào)整文杜里管效應的平衡以
增大向下側(cè)吸引力。
(2) 除塵性能的增大的問題
亦要求除塵性能的增大。為了增大除塵性能，使來自噴氣室212、 222 的噴出量變多，隨著作用于基板G的來自吸氣室211、 221、"及引室213、 223等的吸引力也需要變大。若依據(jù)本方式，在依然保持文杜里管效應的平 衡下，通過噴出壓力的增大而可確實地除去塵埃。亦考慮上述的(l)的問題 時，想到在增大噴出壓力、吸引壓力下的同時調(diào)整文杜里管效應的平衡， 增大向下側(cè)的吸引力。
(3) 振動的問題
尤其，因發(fā)生如圖20(a)所示的彎曲，有在基板G發(fā)生振動的問題。關 于本振動進行說明。此外，在此為筒化說明，設吸引縫隙214、 224為VI 縫隙、設噴出縫隙215，、 225，為P縫隙、設吸引縫隙216、 226為V2縫隙。
在下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間無基板G的情況，如圖 18所示，因噴出縫隙215'、 225，在上下方向伸長，自上下的P縫隙出的洗 滌空氣相撞，空氣變成亂流的狀態(tài)。在這種情況下，基板G行進，如圖18、 19所示，到吸氣室211、 221的正下為止時，圖19的基板G的前端的斜線 部位于上下的VI縫隙之間，空氣不易流向上下的VI縫隙，相反側(cè)的上下 的P縫隙-V2縫隙間的空氣流量增加，在P縫隙-V2縫隙間和P縫隙-Vl縫 隙間發(fā)生壓力差(P縫隙-V2縫隙間的壓力比P縫隙-Vl縫隙間的壓力^氐)。 因而，失去文杜里管效應的平衡。
雖然本來，利用在基板G的上面和下面流動的洗滌空氣在兩面產(chǎn)生利 用文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力，又利用文杜里管效應的平衡穩(wěn)定地搬運 基板G，但是在圖18、 19的狀況，因下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220 都因在P縫隙-V1縫隙間的流量少，失去文杜里管效應的平衡。在這種狀況 下進一步搬運而如圖20(a)所示前端到達P縫隙為止時，基板G在表背面承 受自上下的P縫隙出來的空氣，線狀的噴射力自上下作用于基板G的前端 (請參照圖19的基板G的前端斜線部)，該基板G的前端在上下方向振動。 而且，因基板G的柔軟性增加，振動量變大。
雖然在基板G的前端向下方向動的情況，利用搬運輥10 0作用抵抗力， 但是在基板G的前端上下方向動的情況，因未受到限制，向上方向抬起的 力作用于基板G。在此，亦隨著基板G的重量的減少，可能實際上易抬起。
因此，有要影響這種振動的要求。 (4)彎曲的問題。
變薄的基板G因具有柔軟性而易彎曲。例如，如圖20(a)所示，若基板 G的前端受到吸引而彎曲，則作用下側(cè)除塵單元210的附近的搬運輥100 的力變大，成為制動力的車輪阻力變大，又，在外側(cè)的搬運輥IOO,反而基 板G浮起而不易傳達轉(zhuǎn)動力，這些作用相輔相乘，具有導致空轉(zhuǎn)的問題。
此外，如圖20(b)所示，雖然彎曲是在搬運途中亦會常發(fā)生的問題，但 是在此情況，因用兩側(cè)的搬運輥100支承基板G，彎曲量變小，如圖20(a) 所示，僅考慮前端的彎曲即可。雖然為解決前面的(1) (3)的課題，檢討調(diào)整 文杜里管效應的平衡以增加向下側(cè)的吸引力，但是在增加向下側(cè)的吸引力 的情況，亦有彎曲反而增大的問題。因此，有亦想抑制彎曲的要求。

發(fā)明內(nèi)容
因此，為解決上述的課題，本發(fā)明目的在于提供一種基板用搬運除塵 裝置的使用方法及基板用搬運除塵裝置，使在將基板的前端引入除塵單元 時不發(fā)生彎曲或振動，而且調(diào)整文杜里管效應的平tf，使增加向下側(cè)的吸 引力，即使是薄且具有柔軟性的基板亦實現(xiàn)穩(wěn)定地搬運或塵埃等的吸引的
增力口。
本發(fā)明的方面1的基板用搬運除塵裝置的使用方法是一種基板用搬運 除塵裝置的使用方法，該基板用搬運除塵裝置包括搬運裝置，自基板的 下側(cè)供給支承力，向規(guī)定的基板搬運方向搬運基板；及除塵單元，在基板 的表背面兩側(cè)以兩個一組相向配置至少具有各一個的吸氣室及噴氣室的上 側(cè)除塵單元及下側(cè)除塵單元，而且經(jīng)由噴氣室的線狀的縫隙向基板表面噴 出洗滌空氣，經(jīng)由吸氣室的線狀的縫隙吸引飛散的塵埃，其特征在于一 邊方向配置成相對除塵單元的吸氣室的吸引縫隙的長度方向及噴氣室的線
基板的突端成為前頭那樣地一邊搬運到除塵單元一邊接受除塵。
又，本發(fā)明的方面2的基板用搬運除塵裝置的使用方法是在方面1的 基板用搬運除塵裝置的使用方法，其中，吸引縫隙及噴出縫隙的長度方向 相對基板搬運方向是大致垂直，而且大致四邊形的基板的一邊方向相對基 板搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜。
又，本發(fā)明的方面3的基板用搬運除塵裝置的使用方法是在方面1的
基板用搬運除塵裝置的使用方法，其中，而且大致四邊形的基板的一邊方 向相對基板搬運方向的大致垂直，而且吸引縫隙及噴出縫隙的長度方向相 對基板搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜。
本發(fā)明的方面4的基板用搬運除塵裝置是一種基板用搬運除塵裝置， 包括搬運裝置，自基板的下側(cè)供給支承力，向規(guī)定的基板搬運方向搬運 基板；及除塵單元，在基板的表背面兩側(cè)以兩個一組相向配置至少具有各 一個的吸氣室及噴氣室的上側(cè)除塵單元及下側(cè)除塵單元，而且經(jīng)由噴氣室 的線狀的縫隙向基板表面噴出洗滌空氣，經(jīng)由吸氣室的線狀的縫隙吸引飛 散的塵埃，其特征在于除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙的長度方向 及噴氣室的線狀的噴出縫隙的長度方向配置成大致平行，而且各自相相對 基板搬運方向大致垂直；并且，在大致四邊形的基板的一邊方向相對基板 搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜的狀態(tài)，使基板的突端成為 前頭那樣地一邊搬運到除塵單元一邊接受除塵。
又，本發(fā)明的方面5的基板用搬運除塵裝置是一種基板用搬運除塵裝 置，包括搬運裝置，自基板的下側(cè)供給支承力，向規(guī)定的基板搬運方向 搬運基板；及除塵單元，在基板的表背面兩側(cè)以兩個一組相向配置至少具 有各一個的吸氣室及噴氣室的上側(cè)除塵單元及下側(cè)除塵單元，而且經(jīng)由噴 氣室的線狀的縫隙向基板表面噴出洗滌空氣，經(jīng)由吸氣室的線狀的縫隙吸 引飛散的塵埃，其特征在于除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙的長度 方向及噴氣室的線狀的噴出縫隙的長度方向配置成大致平行，對基板搬運 方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜，并且大致四邊形的基板的搬運 前端的 一 邊相對基板搬運方向大致垂直，而且使基板的突端成為前頭那樣 地一邊搬運到除塵單元一邊接受除塵。
又，本發(fā)明的方面6的基板用搬運除塵裝置是在方面4的基板用搬運 除塵裝置，其中，該搬運裝置包含棒形的搬運輥，棒形的搬運輥的軸向配 置成與除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙的長度方向及噴氣室的線狀的 噴出縫隙的長度方向大致平行，而且各自相對基板搬運方向大致垂直。
又，本發(fā)明的方面7的基板用搬運除塵裝置是在方面5的基板用搬運 除塵裝置，其中，該搬運裝置包含在傾斜的配列方向并列配置的多個圓板 形的搬運輥，圓板形的搬運輥的排列方向配置成與除塵單元的吸氣室的線
狀的吸引縫隙的長度方向及噴氣室的線狀的噴出縫隙的長度方向大致平 行，而且相對基板搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜。
又，本發(fā)明的方面8的基板用搬運除塵裝置是在方面4~7中任一項的
基板用搬運除塵裝置，其中，使下側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸 引力比上側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力大，賦予向搬運裝置 推壓基板的力。
又，本發(fā)明的方面9的基板用搬運除塵裝置是在方面8的基板用搬運 除塵裝置，其中，通過使向下側(cè)除塵單元的吸引壓力和向上側(cè)除塵單元的 吸引壓力變成相等，而且使來自下側(cè)除塵單元的噴出壓力比來自上側(cè)除塵 單元的噴出壓力大，而使下側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比 上側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力大，賦予向搬運裝置推壓基 板的力。
又，本發(fā)明的方面10的基板用搬運除塵裝置是在方面8的基板用搬運 除塵裝置，其中，通過使來自下側(cè)除塵單元的噴出壓力和來自上側(cè)除塵單 元的噴出壓力變成相等，而且向下側(cè)除塵單元的吸引壓力比向上側(cè)除塵單 元的吸引壓力大，而使下側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上 側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力大，賦予向搬運裝置推壓基板 的力。
又，本發(fā)明的方面11的基板用搬運除塵裝置是在方面8的基板用搬運 除塵裝置，其中，通過將自下側(cè)除塵單元至基板面的間隔調(diào)整成小于自上 側(cè)除塵單元至基板表面的間隔，而使下側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生 的吸引力比上側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力大，賦予向搬運 裝置推壓基板的力。
又，本發(fā)明的方面12的基板用搬運除塵裝置的使用方法是在方面9的 基板用搬運除塵裝置，其中，測量來自下側(cè)除塵單元及上側(cè)除塵單元的噴 出壓力，在來自上側(cè)除塵單元的噴出壓力比來自下側(cè)除塵單元的噴出壓力 大的情況控制成停止向除塵單元搬運基板。
又，本發(fā)明的方面13的基板用搬運除塵裝置是在如方面4 12中任一 項的基板用搬運除塵裝置，其中，下側(cè)除塵裝置包括抵接搬運的基板而轉(zhuǎn) 動的輔助輥。
又，本發(fā)明的方面14的基板用搬運除塵裝置是在方面13的基板用搬
運除塵裝置，其中，在下側(cè)除塵單元的^:入側(cè)的外側(cè)部配置所述輔助輥。
又，本發(fā)明的方面15的基板用搬運除塵裝置是在方面13或14的基板 用搬運除塵裝置，其中，在下側(cè)除塵單元的吸氣室的吸引縫隙內(nèi)配置所述
輔助輥。
又，本發(fā)明的方面16的基板用搬運除塵裝置的使用方法是在方面4~15 的其中之一的基板用搬運除塵裝置，其中，該下側(cè)除塵單元及上側(cè)除塵單 元沿著基板搬運方向并列配置噴氣室及隔著噴氣室的兩個吸氣室。
若依據(jù)以上所示的本發(fā)明，可提供基板用搬運除塵裝置的使用方法及 基板用搬運除塵裝置，使在將基板的前端引入除塵單元時不發(fā)生彎曲或振 動，而且調(diào)整文杜里管效應的平衡，而增加向下側(cè)的吸引力，即使是薄且 具有柔軟性的基板亦實現(xiàn)穩(wěn)定地搬運或塵埃等的吸引的增加。


圖1是說明基板用搬運除塵裝置及其使用方法的說明圖。 圖2是基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖3是自基板搬運方向看的搬運輥的結(jié)構(gòu)圖，圖3(a)是第一結(jié)構(gòu)圖， 圖3(b)是第二結(jié)構(gòu)圖。
圖4是除塵單元的剖面圖。
圖5是基板搬運的說明圖，圖5(a)是突端到達前側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài) 的說明圖，圖5(b)是突端到達噴出縫隙的狀態(tài)的說明圖，圖5(c)是突端到達 內(nèi)側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài)的說明圖。
圖6是第二形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖7是第三形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖8是輔助輥的結(jié)構(gòu)圖，圖8(a)是第一結(jié)構(gòu)圖，圖8(b)是第二結(jié)構(gòu)圖。
圖9是改良形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖IO是第四形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖11是輔助輥結(jié)構(gòu)的說明圖。
圖12是改良形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖13是第五形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
圖14是第五形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的基板搬運的說明圖。
圖15是第五形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的基板搬運的說明圖，圖15(a)
是突端到達前側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài)的說明圖，圖15(b)是突端到達噴出縫隙 的狀態(tài)的說明圖，圖15(C)是突端到達內(nèi)側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài)的說明圖。
圖16是搬運輥的支軸的說明圖。 圖17是輔助輥的說明圖。
圖18是現(xiàn)有技術(shù)的基板用搬運除塵裝置的說明圖。 圖19是現(xiàn)有技術(shù)的基板用搬運除塵裝置的說明圖。 圖20是說明基板的彎曲的說明圖，圖20(a)是說明基板的前端的彎曲 的說明圖，圖20(b)是說明基板的中間位置的彎曲的說明圖。 圖21是表示相對交叉角的噴出壓力上限的圖。 主要元件符號說明 1 基板用搬運除塵裝置
100搬運輥
101支軸
102、103 輔助輥
104搬運輥
105支軸
106板簧
200除塵單元
210下側(cè)除塵單元
211、213 吸氣室
212噴氣室
214、216 吸引縫隙
噴出縫隙
220上側(cè)除塵單元
221、223 "及氣室
222噴氣室
224、226 吸引縫隙
225噴出縫隙
300摘g運控制部
301壓力引入部
302差壓感測圖
303驅(qū)動控制部
G 基板
具體實施方式
. 接著，邊參照圖邊說明本發(fā)明的最佳實施形態(tài)(第 一形態(tài))的基板用搬運 除塵裝置及其使用方法。圖1是說明基板用搬運除塵裝置及其使用方法的
說明圖。圖2是基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖3是自基板搬運方向看 的搬運輥的結(jié)構(gòu)圖，圖3(a)是第一結(jié)構(gòu)圖，圖3(b)是第二結(jié)構(gòu)圖。圖4是除 塵單元的剖面圖。圖5是基板搬運的說明圖，圖5(a)是突端到達前側(cè)的吸引 縫隙的狀態(tài)的說明圖，圖5(b)是突端到達噴出縫隙的狀態(tài)的說明圖，圖5(c) 是突端到達內(nèi)側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài)的說明圖。
如圖1、圖2所示，本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置1包括搬運輥100 和除塵單元200。本除塵單元200又包括下側(cè)除塵單元210及上側(cè)除塵單元 220，利用下側(cè)除塵單元210及上側(cè)除塵單元220將基板G的表背面除塵。
搬運輥IOO是搬運裝置的一具體實例是支承、搬運基板G的輥。搬運 輥100構(gòu)成為供給搬運基板G的驅(qū)動力的結(jié)構(gòu)，或者，構(gòu)成為自由轉(zhuǎn)動以 從動于利用別的驅(qū)動源搬運的基板G。
如圖3(a)所示，搬運輥100具有設為橫跨基板G的兩側(cè)的長桿形的搬 運輥100的情況，和如圖3(b)所示僅抵接基板G的一部分的多個(在圖3(b) 為4個)短棒形的搬運輥100的情況的兩種形態(tài)。適當?shù)剡x擇這種形態(tài)。以 下說明本形態(tài)的搬運輥100是如圖3(a)所示的長的搬運輥100。
如圖4所示，下側(cè)除塵單元210沿著基板搬運方向(箭頭a方向)并列構(gòu) 成為吸氣室211、噴氣室212及吸氣室213，并配置于搬運輥IOO側(cè)(下側(cè))。 吸氣室211、 213與圖上未示的吸氣泵連接，又噴氣室212與圖上未示的送 風泵連接。吸氣室211、噴氣室212及吸氣室213各自具有吸引縫隙214、 噴出縫隙215、吸引縫隙216。
同樣地，上側(cè)除塵單元220朝著基板搬運方向(箭頭a方向)并列構(gòu)成為 吸氣室221、噴氣室222及吸氣室223，并配置于無^:運輥100的側(cè)(上側(cè))。 吸氣室221、 223與圖上未示的吸氣泵連接，又噴氣室222與圖上未示的送 風泵連接。吸氣室221、噴氣室222及吸氣室223各自具有吸引縫隙224、 噴出縫隙225 、吸引縫隙226。
在圖2亦得知，下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220在上下相向配置，
又，吸引縫隙214、噴出縫隙215、吸引縫隙216、吸引縫隙224、噴出縫 隙225及吸引縫隙226的長度方向大致平行。尤其將吸引縫隙214、 224、 噴出縫隙215、 225、吸引縫隙216、 226形成為自正上看為一條線。在這些 下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間搬運基板G?；錑位于下側(cè)除 塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間時，配置成自基板G的背面至下側(cè)除 塵單元210的間隔，及自基板G的表面至上側(cè)除塵單元220的間隔大致相 等。又，在本形態(tài)，使來自下側(cè)除塵單元210的噴氣室212的噴出壓力比 來自上側(cè)除塵單元220的噴氣室222的噴出壓力大，利用文杜里管效應取 得平tf并且向下側(cè)吸引。
說明利用文杜里管效應的平衡。首先，說明利用文杜里管效應的吸引 現(xiàn)象。首先，僅考慮上側(cè)除塵單元220單體。自噴氣室222所噴出的洗滌 空氣，具有例如不是如光那樣進行反射并朝向吸氣室221、 223,而具有沿 著基板G的表面流動的特性。又，成為在上側(cè)除塵單元220的正下方流路 窄，而在上側(cè)除塵單元220的兩外側(cè)流路寬的結(jié)構(gòu)。
在這種狀況下，利用文杜里管效應，因在流^^窄的上側(cè)除塵單元220 的正下方使壓力變成低狀態(tài)，發(fā)生吸引上側(cè)除塵單元220和基板G的吸引 現(xiàn)象。 .
在此情況，雖然機械地固定上側(cè)除塵單元220，但是因基板G只是放 置于搬運輥100上，基板G離開搬運輥100而上升。
于是，利用文杜里管效應，向上側(cè)除塵單元220吸引基板G。
因此，在下側(cè)除塵單元210亦同樣地施加噴出壓力，施加向下側(cè)吸引 的文杜里管效應。此時，如前面的說明所示，使向下側(cè)除塵單元210的吸 氣室211、吸氣室213的吸引壓力和向上側(cè)除塵單元220的吸氣室221、吸 氣室223的吸引壓力相等，而且，使來自下側(cè)除塵單元210的噴氣室212 的噴出壓力比來自上側(cè)除塵單元220的噴氣室222的噴出壓力大，利用文 杜里管效應取得平ff，并且向下側(cè)吸虧1 。
因而，使下側(cè)除塵單元210的利用文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上 側(cè)除塵單元220的利用文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力大，使基板G抵接搬 運輥100。 -
基板G例如是在TFT(薄膜電晶體)液晶面板、PDP(等離子顯示面板)、 或LCD(液晶顯示器)等使用的玻璃基板。在圖1 圖5所示的基板G僅圖示
長基板G的一部分。在本專利說明書，將基板G的上面定義為表面，將下 面定義為背面。
尤其，在本實施形態(tài)以薄且具有柔軟性的TFT液晶面板用的玻璃基板 為對象。
接著，說明本形態(tài)的除塵。
在隔著規(guī)定的間隔所設置的搬運輥100上依次搬運多片基板G。 此時，基板G如圖1、圖2所示，利用搬運輥100支承而在搬運平面 上移動，又，在大致四邊形的基4反G的一邊方向和下側(cè)除塵單元210、上 側(cè)除塵單元220的吸氣室211、 213、 221、 223的吸引縫隙214、 216、 224、 226及噴氣室212、 222的噴出縫隙215、 225的長度方向以少見定的交叉角傾 斜而交叉下搬運。若以基板搬運方向a為基準，吸引縫隙214、 216、 224、 226及噴出縫隙215、 225的長度方向相對基板搬運方向a是大致垂直，而 且大致四邊形的基^l的一邊方向相對基板"l般運方向a的大致垂直方向以頭見 定的交叉角ot傾斜。本交叉角如圖l(a)所示，配置成構(gòu)成角度a。關于本交
叉角(X將后述。
將這種傾斜的狀態(tài)的基板G搬至下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220 進行除塵。在此情況，除塵單元200總是進行利用噴氣室212、 222的洗滌 空氣的噴出及利用吸氣室211、 213、 221、吸氣室223的塵埃的吸引。即， 在基板G,表背兩面成為除塵對象面。
首先，在下側(cè)除塵單元210的正上朝箭頭a方向搬運要除塵的基板G。
基板G的突端Gl是前端的一部分，如圖5(a)所示突端Gl進入吸氣室 211、 221的吸引縫隙214、 216。在此情況，因吸引壓力僅作用于基板G的 突端G1的斜線部，吸引壓力小，因不像現(xiàn)有技術(shù)般吸引壓力作用于前端整 體(參照圖19),顯著降低發(fā)生彎曲的可能性。
又，亦抑制振動。說明這一點。此外，在此亦為了簡化說明，設吸引 縫隙214、 224為VI縫隙、設噴出縫隙215、 225為P縫隙、設吸引縫隙 216、 226為V2縫隙而進行說明。如圖4所示，上下的P縫隙朝基板拍殳運 方向a的相反側(cè)傾斜，基板G往這些P縫隙行進。
在這種狀況下變成圖5(a)所示的狀態(tài)時，雖然基板G的行進妨礙空氣 往VI縫隙的流入，^旦是其遮蔽區(qū)域窄，避免洗滌空氣立刻難流入上下的 Vl縫隙的情況，不會發(fā)生洗滌空氣的流動變成亂流的情況。'此外，因利用
P縫隙的傾斜在P-V1間的方向強迫地送洗滌空氣，空氣大部分不變地在 P-V1間流動。
因而，P縫隙-Vl縫隙間的空氣流量和相反側(cè)的P縫隙-V2縫隙間的空
氣流量平衡，在P縫隙-V1縫隙間和P縫隙-V2縫隙間的壓力差保持幾乎為 O(P縫隙-Vl縫隙間的壓力與P縫隙-V2縫隙間的壓力幾乎相等)的狀態(tài)，在 這點亦不會發(fā)生洗滌空氣的流動變成亂流的情況。因此，加上這些作用而 保持文杜里管效應的平衡。
接著，如圖5(b)、圖5(c)所示，沿著基板搬運方向a搬運基板G。 此時亦施加吸引壓力、噴出壓力等。可是，因不僅基板G自搬運輥100 突出的量(以下稱為外伸量)遠小于基板G的全長，依據(jù)前面所說明的原理， 使利用噴射、吸引施加的壓力如以斜線區(qū)域所示比以往少，而且亦保持文 杜里管效應的平衡，在抑制彎曲、振動下依然繼續(xù)搬入，利用下側(cè)除塵單 元210的兩側(cè)的搬運輥100支承。以后，基板G因加上吸引力和自重而向 搬運輥100堅固地抵接，不會發(fā)生基板G脫離拍《運輥100的情況。
接著，說明前面所說明的交叉角a。本交叉角a是自0。至45。的銳角， 優(yōu)選約為1° 30°。依據(jù)基板G適當?shù)貨Q定這種交叉角a的具體值，例如圖 21表示使用玻璃400mmx500mmx厚度0.7mm的基板G變更交叉角a的情
于是，有隨著交叉角a增加噴出壓力的上限增大的傾向。推測這是由 于隨著交叉角a增加噴出壓力的面積(圖5的斜線部)減少而施力減少。
若依據(jù)以上所說明的基板用搬運除塵裝置及其使用方法，利用在基板 G上面和下面流動的空氣產(chǎn)生的文杜里管效應的平衡得到基'板G的穩(wěn)定地 搬運，因在基板G進入通過下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220的正中 亦得到文杜里管效應的平衡，可得到穩(wěn)定地搬運。尤其通過采用傾斜的V1 縫隙、P縫隙、V2縫隙，可將來自噴氣室201P、 301P的噴出壓力設為至現(xiàn) 在為止的程度，在確保除塵性能下使基板G的彎曲變小，可穩(wěn)定地搬運(因 基板G在噴出縫隙的附近不會浮起，又向下側(cè)的吸引力弱，而不易發(fā)生基 板G的彎曲所引起的搬運故障的搬運。)。又，若使交叉角a大至最大，噴 出壓力亦可增加，在保持文杜里管效應的平衡下亦可預估吸引力或除塵性 能的改善。
接著，邊參照圖邊說明本發(fā)明的基板用搬運除塵裝置及其使用方法的
第二形態(tài)。此外，對于和前面所說明的現(xiàn)有技術(shù)或第一形態(tài)相同的結(jié)構(gòu)， 賦予相同的符號而且省略重復的說明。圖6是第二形態(tài)的基板用搬運除塵
裝置的結(jié)構(gòu)圖。
本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置如圖6所示，包括搬運輥100、除塵單元 200及搬運控制部300。是在圖2所示的第一形態(tài)的結(jié)構(gòu)又追加搬運控制部 300的結(jié)構(gòu)。在本基板用搬運除塵裝置1在箭頭a方向搬運基板G。 搬運輥100及除塵單元200和第一形態(tài)的相同，省略其重復說明。 拍殳運控制部300由圖6所示的壓力引入部301、差壓感測器302及驅(qū)動 控制部303構(gòu)成。
壓力引入部301 i殳置于噴氣室212、 222的室內(nèi)，引入在噴氣室212、
222的空氣。
差壓感測器302輸入來自兩個壓力引入部301的空氣，測量這些空氣 的差壓后，輸出差壓信號。
驅(qū)動控制部303根據(jù)自差壓感測器302輸出的差壓信號，進行搬運輥 100的驅(qū)動控制。
此外，搬運控制部300未限定為上述的結(jié)構(gòu)，例如，雖未圖示，亦可 在噴氣室212、 222的室內(nèi)各自設置壓力檢測感測器(轉(zhuǎn)換器)，測量在噴氣 室212、 222的噴出壓力，各自輸出壓力信號，根據(jù)自這兩處傳送的壓力信 號計算差壓信號，根據(jù)本差壓信號，使驅(qū)動控制部303進行搬運輥100的 驅(qū)動控制。
適當?shù)剡x擇這些結(jié)構(gòu)，例如在小規(guī)模的裝置，由成本等的觀點使用如 圖4所示的差壓感測器302的形態(tài)為優(yōu)選。
接著，說明本形態(tài)的除塵。 .
隔著規(guī)定的間隔依次搬運多片基板G,而進行除塵。在此情況，下側(cè) 除塵單元210、上側(cè)除塵單元220 —直進行利用噴氣室212、 222的洗滌空 氣的噴出及利用吸氣室211、 213、 221、 223的塵埃的吸引。
首先，在下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間朝箭頭a方向拍殳運 除塵的基板G。本基板G的表背兩面成為除塵對象面。
在此情況，使自下側(cè)除塵單元210的噴氣室212(下側(cè))噴出的洗滌空氣 的噴出壓力比自上側(cè)除塵單元220的噴氣室201P(上側(cè))噴出的洗滌空氣的 噴出壓力大，如前面的說明所示調(diào)整成向下側(cè)吸引。
又，在基板G位于下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間的情況， 配置成自基板G的背面至下側(cè)除塵單元210的間隔和自基板G的表面至上 側(cè)除塵單元220的間隔大致相等。
而，在洗滌空氣的噴出中，經(jīng)由兩個壓力引入部301向差壓感測器302 引入空氣后，自差壓感測器302向驅(qū)動控制部303輸出差壓信號。
驅(qū)動控制部303若由上側(cè)所噴出的洗滌空氣的噴出壓力較由下側(cè)所噴 出的洗滌空氣的噴出壓力大，則判定成異常狀態(tài)，除此之外，則判定成正 常狀態(tài)。
驅(qū)動控制部303若判斷噴出壓力是正常狀態(tài)，控制成使搬運輥100轉(zhuǎn) 動，使基板G進入下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220之間。而，在異 常狀態(tài)控制成使搬運輥100停止。
因而，因在結(jié)構(gòu)上在因噴出壓力變動而上側(cè)除塵單元220的吸引力比 下側(cè)除塵單元210的吸引力更大的異常狀態(tài)使基板G停止，.另一方面，在 正常狀態(tài)向搬運輥100搬運基板G,使基板G自搬運輥100浮起而脫離的 可能性更小，在基板G確實地抵接搬運輥100的狀態(tài)除塵。
因而，因降低基板G受損的可能性，而且在搬運機構(gòu)上僅最低限的搬 運輥100即可，不需要廣大的設備空間或復雜、昂貴的裝置結(jié)構(gòu)。尤其， 適合需要洗滌基板雙面的情況。
接著，邊參照圖邊說明本發(fā)明的基板用搬運除塵裝置及其使用方法的 第三形態(tài)。此外，對于和前面所說明的現(xiàn)有技術(shù)、第一、第二形態(tài)相同的 結(jié)構(gòu)，賦予相同的符號而且省略重復的說明。圖7是本形態(tài)的基板用搬運 除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。圖8是輔助輥的結(jié)構(gòu)圖，圖8(a)是第一結(jié)構(gòu)圖，圖8(b) 是第二結(jié)構(gòu)圖。圖9是改良形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。
本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置，是對圖2所示的第一形態(tài)又追加輔助 輥102的形態(tài)。
因才般運輥100及除塵單元200和第一形態(tài)的相同，省略其重復說明， 僅說明相異點。
如圖7所示，在下側(cè)除塵單元210的搬入側(cè)和搬出側(cè)的兩外側(cè)部配置 輔助輥102。輔助輥102是例如如圖8(a)所示自側(cè)面看為一環(huán)形的結(jié)構(gòu)，或 如圖8(b)所示為二環(huán)形(或三環(huán)形以上的多環(huán)形)的結(jié)構(gòu)都可。在本形態(tài)，是 以圖8(b)的多環(huán)形說明。
接著，關于本形態(tài)的除塵，以和第一形態(tài)的相異點為重點說明。 隔著規(guī)定的間隔依次搬運多片基板G，而進行除塵。在此情況，在除
塵單元200， 一直進行利用噴氣室212、 222的洗滌空氣的噴出及利用吸氣 室211、 213、 221、 223的塵埃的吸引。
首先，向除塵單元200在箭頭a方向搬運除塵的基板G。 利用文杜里管效應向有下側(cè)除塵單元210的下側(cè)吸引基板G?？墒牵?因不僅搬運輥IOO，而且輔助輥102支承基板G，使外伸量比以往減少，在 依然抵接輔助輥102、搬運輥100下搬入基板G，受到位于下側(cè)除塵單元 210的兩側(cè)的輔助輥102、搬運輥100支承。然后，加上吸引力，因基板G 確實地抵接輔助輥102、搬運輥IOO，不會發(fā)生基板G脫離搬運輥100的情 況。
如以上的說明所示，在本形態(tài)，不僅具有不離開搬運輥100上地搬運 基板G的效果，而且通過在進入下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220時 利用輔助輥102使外伸量減少，使吸引基板G的前端的可能性更小。
因而，因排除基板G受損的可能性，而且在搬運機構(gòu)上僅最低限的搬 運輥IOO、輔助輥102即可，不需要寬大的設備空間或復雜、昂貴的裝置結(jié) 構(gòu)。
此外，如圖9所示，采用在第二形態(tài)加上輔助輥102的改良形態(tài)，亦 可具有和本第三形態(tài)一樣的效果。
接著，邊參照圖邊說明本發(fā)明的基板用搬運除塵裝置及其使用方法的 第四形態(tài)。此外，對于和現(xiàn)有技術(shù)、第一、二、三形態(tài)相同的結(jié)構(gòu)，賦予 相同的符號而且省略重復的說明。圖IO是本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的 結(jié)構(gòu)圖，圖11是輔助輥結(jié)構(gòu)的說明圖。圖12是改良形態(tài)的基板用搬運除 塵裝置的結(jié)構(gòu)圖。本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置是對第 一形態(tài)又設置輔助 輥的形態(tài)，但是與第三形態(tài)在相異的位置配置輔助輥上相異。
在本形態(tài)，如圖IO所示，在下側(cè)除塵單元210的吸氣室211、 213的 上側(cè)配置輔助輥103。輔助輥103例如如圖11所示，配置于吸氣室211、 213 吸引縫隙214、 216內(nèi)。此外，本輔助輥103是例如如圖8(a)所示自基板搬 運方向看為一環(huán)形的結(jié)構(gòu)，或如圖8(b)所示自側(cè)面看為多環(huán)形(如圖8(b)所 示至少二環(huán)形)的結(jié)構(gòu)。雖然存在這種輔助輥103,可是只要確保對塵埃的 吸引無影響的充分大的吸引縫隙214、 216,對除塵能力不會發(fā)生問題。
如以上的說明所示，在本形態(tài)，不僅具有不會離開搬運輥100上地搬
運基板G的效果，而且通過在進入下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220 時利用輔助輥103使外伸量減少，使吸引基板G的前端的可能性更小。
因而，因排除基板G受損的可能性，而且在搬運機構(gòu)上僅最低限的搬 運輥IOO、輔助輥103即可，不需要寬大的設備空間或復雜、昂貴的裝置結(jié)構(gòu)。
此外，如圖12所示，采用在第二形態(tài)加上輔助輥103的改良形態(tài)，亦 可具有與本第四形態(tài)一樣的效果。
接著，邊參照圖邊說明本發(fā)明的基板用搬運除塵裝置及其使用方法的 第五形態(tài)。此外，對于與現(xiàn)有技術(shù)、第一、二、三、四形態(tài)相同的結(jié)構(gòu)， 賦予相同的符號而且省略重復的說明。圖13是本形態(tài)的基板用搬運除塵裝 置的結(jié)構(gòu)圖。圖14是本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的基本反搬運的說明圖。 圖15是本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置的基板搬運的說明圖，圖15(a)是突端 到達前側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài)的說明圖，圖15(b)是突端到達噴出縫隙的狀態(tài) 的說明圖，圖15(c)是突端到達內(nèi)側(cè)的吸引縫隙的狀態(tài)的說明圖。圖16是搬 運輥的支軸的說明圖。圖17是輔助輥的說明圖。
雖然本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置1具有和前面所說明的第一、二、 三、四形態(tài)相同的結(jié)構(gòu)，但是相異點是，使下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單 元220傾斜，替代使基板G傾斜。在此情況，在下側(cè)除塵單元210的前段、 后段配置排列方向傾斜的搬運輥104。本搬運輥104如圖13所示，是圓板 形并在斜方向并列配置多個。因而，可傾斜地配置下側(cè)除塵單元210。
又，除塵單元200變斜，自正上看時吸引縫隙214、 224、噴出縫隙215、 225及吸引縫隙216、 226亦看起來一條線。
而且，在結(jié)構(gòu)上相對于大致四邊形的基板G的一邊方向，下側(cè)除塵單 元210與上側(cè)除塵單元220的噴氣室212、 222的線狀的噴出縫隙215、 225 的長度方向及吸氣室211、 213、 221、 223的線狀的吸引縫隙214、 216、 224、 226的長度方向以規(guī)定的交叉角傾斜。此外，若以基板搬運方向a為基準， 大致四邊形的基板G的一邊方向相對基板搬運方向a是大致垂直，而且噴 出縫隙215、 225及吸引縫隙214、 216、 224、 226的長度方向相對基板搬 運方向a的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角a傾斜。在如這種基板G的突端 Gl變成前頭的方式被纟般至除塵單元200而接受除塵。如圖14所示，本交
叉角配置成構(gòu)成角度a。
接著，說明本形態(tài)的除塵。
在隔著規(guī)定的間隔所設置的搬運輥100、 104上依次搬運多片基板G。 將這種傾斜的狀態(tài)的基板G進入下側(cè)除塵單元210及上側(cè)除塵單元 220，進行除塵。在此情況，下側(cè)除塵單元210及上側(cè)除塵單元220總是進 行利用噴氣室212、 222的洗滌空氣的噴出及利用吸氣室211、 213、 221、
吸氣室223的塵埃的吸引。即，在基板G，表背兩面成為除塵對象面。
首先，在下側(cè)除塵單元210的正上朝箭頭a方向搬運要除塵的基板G。 如圖15(a)所示，基板G的突端Gl是前端的一部分進入吸氣室211、
221之間，在此情況，因吸引壓力僅作用于基板G的斜線部，吸引壓力小，
因不像現(xiàn)有技術(shù)那樣吸引壓力作用于前端整體(參照圖19)，顯著降低發(fā)生彎
曲的可能性。
又，關于振動亦如使用圖4的說明所示，P縫隙-V1縫隙間的空氣流量 和相反側(cè)的P縫隙-V2縫隙間的空氣流量平衡，在P縫隙-Vl縫隙間和P縫 隙-V2縫隙間保持壓力差幾乎為O(P縫隙-V1縫隙間的壓力和P縫隙-V2縫 隙間的壓力幾乎相等)的狀態(tài)。因此，加上這些作用而保持文杜里管效應的平衡。
以下接著，如圖15(b)、圖15(c)所示，向基板搬運方向搬運基板G。此 時施加如斜線部所示的吸引壓力、噴出壓力，但是因不僅基板G自搬運輥 104(或者輔助輥102或輔助輥103)突出的量(以下稱為外伸量)僅是遠小于基 板G的全長的一部分，而且依據(jù)前面所說明的原理，保持文杜里管效應的 平衡，在抑制彎曲、振動等的同時依然繼續(xù)搬入，利用下側(cè)除塵單元210 的兩側(cè)的搬運輥104(或者輔助輥102或輔助輥103)支承。以后，基板G因 加上吸引力和自重而向搬運輥100、 104堅固地抵接，不會發(fā)生基板G脫離 搬運輥100、 104的情況。
此外，搬運輥104有多個，但是在有一個高度比別的輥高的搬運輥104 的情況下，因基板G僅位于該搬運輥104之上，力集中于該位置，有對基 板G產(chǎn)生彎曲等不良影響的可能性。因此，圖16使搬運輥104的支軸105 經(jīng)由板簧106可調(diào)整高度。若依次方式，可避免力集中于基板G的一個位 置的情況。又，由于定位的關系在搬運輥的排列方向的最外，若拆掉板簧 106而僅有支軸105,可確保定位。
又，如圖17所示，亦可在下側(cè)除塵單元210的吸氣室211、 213的p及 引縫隙215、 225的上側(cè)配置輔助輥103(變成如圖10、圖11所示的結(jié)構(gòu))。 圓板形的輔助輥的排列方向與下側(cè)除塵單元的吸氣室211、 213的吸引縫隙 215、 225的長度方向一致。雖然這種輔助輥103存在，可是只要確保對塵 埃的吸引無影響的充分大的吸引口，在除塵性能不會發(fā)生問題。
于是，在本形態(tài)，不僅可得到與上述的第一 第四形態(tài)相同的效果，而 且不需要使基板G朝向斜方向放置于搬運輥100的作業(yè)，只要進行基板G 的一邊方向相對基板搬運方向a變成垂直的一般的配置，亦自動地設定交叉 角a，可賦予預先所設計的吸引力。又，作業(yè)員不必進行使只傾斜交叉角a 的作業(yè)，亦可提高作業(yè)性。
雖然以上說明了第一 第五形態(tài)，但是此外各種變形形態(tài)亦可能。在第 一 第五形態(tài)，雖然說明下側(cè)除塵單元210、上側(cè)除塵單元220在2個吸氣 室之間配置一個噴氣室的例子(V-P-V結(jié)構(gòu))，但是除此以外亦可在2個噴氣 室之間配置一個吸氣室的例子(P-V-P結(jié)構(gòu))、或并列一個吸氣室和一個噴氣 室而配置的例子(P-V結(jié)構(gòu)或V-P結(jié)構(gòu))。適當?shù)剡x"t奪這些結(jié)構(gòu)。
又，雖然在第一 第五形態(tài)在調(diào)整文杜里管效應上變更上下的噴出壓 力，但是亦可調(diào)整別的。
例如，亦可通過^吏來自下側(cè)除塵單元210的噴出壓力與來自上側(cè)除塵 單元220的噴出壓力相等，而且<吏對下側(cè)除塵單元210的吸引力比對上側(cè) 除塵單元220的吸引壓力大，而使下側(cè)除塵單元210的文片土里管效應所產(chǎn) 生的吸引力比上側(cè)除塵單元220的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力大，使賦 予向搬運輥100、 104或輔助輥102、 103推壓基4反G的力。此外，在此情 況，無法采用圖6、圖9、圖12的形態(tài)的搬運控制部。
又，亦可通過將自下側(cè)除塵單元210至基板G的背面的間隔調(diào)整成小 于自上側(cè)除塵單元220至基板G的表面的間隔，而使下側(cè)除塵單元210的 文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上側(cè)除塵單元220的文杜里管效應所產(chǎn)生 的吸引力大，使賦予向搬運輥100、 104或輔助輥102、 103推壓基板G的 力。此外，在此情況，無法采用圖6、圖9、圖12的形態(tài)的搬運控制部。
又，雖然在搬運裝置上說明考慮搬運輥100、 104或輔助輥102、 103 的結(jié)構(gòu)，但是在搬運裝置的其他例子上，亦可采用例如確保高度方向的定 位裝置，而且作為形成噴氣的無數(shù)的噴出孔的搬運面，將基板G配置于本
搬運面之上利用空氣進行搬運的結(jié)構(gòu)。在此情況，亦若在基板搬運方向和 各縫隙的長度方向確保規(guī)定的交叉角a，可具有如上述的效果。
又，亦可采用都包括圖7的輔助輥102和圖10的輔助輥103的搬運裝置。
以上說明本形態(tài)的基板用搬運除塵裝置及其使用方法。若依據(jù)本方式 的基板用搬運除塵裝置及其使用方法，解決上述的(l)空轉(zhuǎn)的問題、(2)除塵 性能的增大、(3)振動的問題、及(4)彎曲的問題。
首先，因利用圖4所示的傾斜縫隙能夠使空氣不會變成亂流而不破壞 文杜里管效應的平衡，所以，能夠消除(3)振動的問題、及(4)彎曲的問題。
又，因在如圖1、圖14所示的大致四邊形的基板G的一邊方向和除塵 單元的吸氣室的吸氣縫隙及噴氣室的噴出縫隙的長度方向以規(guī)定的交叉角 交叉并且進行搬運、除塵，使對外伸的基板G的壓力減少，在這一點亦能 夠消除(3)振動的問題、及(4)彎曲的問題。
而且，因不易發(fā)生振動或彎曲，使噴出壓力或吸引壓力增大而且調(diào)整 文杜里管效應的平衡，亦可使對下側(cè)的吸引力增大，分別消除(l)空轉(zhuǎn)的問 題、及(2)除塵性能的增大的問題。
可采用這些效果相輔相乘而提高可靠性的基板用搬運除塵裝置及其使 用方法。
權(quán)利要求
1.一種基板用搬運除塵裝置的使用方法，該基板用搬運除塵裝置包括搬運裝置，其自基板的下側(cè)供給支承力，向規(guī)定的基板搬運方向搬運基板；及除塵單元，其在基板的表背面兩側(cè)以兩個一組相向配置至少具有各一個的吸氣室及噴氣室的上側(cè)除塵單元及下側(cè)除塵單元，而且經(jīng)由噴氣室的線狀的縫隙向基板表面噴出洗滌空氣，經(jīng)由吸氣室的線狀的縫隙吸引飛散的塵埃，其特征在于大致四邊形的基板的一邊方向相對除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙的長度方向及噴氣室的線狀的噴出縫隙的長度方向配置成以規(guī)定的交叉角傾斜，使本基板的突端成為前頭那樣地一邊搬運到除塵單元一邊接受除塵。
2. 如權(quán)利要求1的基板用搬運除塵裝置的使用方法，其中，吸引縫隙 及噴出縫隙的長度方向相對基板搬運方向是大致垂直，而且大致四邊形的 基板的一邊方向相對基板搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜。
3. 如權(quán)利要求1的基板用搬運除塵裝置的使用方法，其中，大致四邊 形的基板的 一邊方向相對基板搬運方向大致垂直，而且吸引縫隙及噴出縫 隙的長度方向相對基板搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜。
4. 一種基板用搬運除塵裝置，包括搬運裝置，自基板的下側(cè)供給支承力，向規(guī)定的基板搬運方向搬運基 板；及除塵單元，在基板的表背面兩側(cè)以兩個一組相向配置至少具有各一個 的吸氣室及噴氣室的上側(cè)除塵單元及下側(cè)除塵單元，而且經(jīng)由噴氣室的線 狀的縫隙向基板表面噴出洗滌空氣，經(jīng)由吸氣室的線狀的縫隙吸引飛散的 塵埃，其特征在于把除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙的長度方向及噴氣室的線狀的 噴出縫隙的長度方向配置成大致平行，而且各自相對基板板運方向配置成 大致垂直；并且，在大致四邊形的基板的 一邊方向相對基板搬運方向的大致垂直方向以 規(guī)定的交叉角傾斜的狀態(tài)下，使基板的突端成為前頭那樣地一邊搬運到除 塵單元一邊接受除塵。
5. —種基板用搬運除塵裝置，包括搬運裝置，自基板的下側(cè)供給支承力，向規(guī)定的基板搬運方向搬運基 板；及除塵單元，在基板的表背面兩側(cè)以兩個一組相向配置至少具有各一個 的吸氣室及噴氣室的上側(cè)除塵單元及下側(cè)除塵單元，而且經(jīng)由噴氣室的線 狀的縫隙向基板表面噴出洗滌空氣，經(jīng)由吸氣室的線狀的縫隙吸引飛散的 塵埃，其特征在于除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙的長度方向及噴氣室的線狀的噴 出縫隙的長度方向配置成大致平行，并且相對基板搬運方向的大致垂直方 向以規(guī)定的交叉角傾斜；并且，大致四邊形的基板的搬運前端的 一邊相對基板搬運方向大致垂直，而 且使基板的突端成為前頭那樣地一邊搬運到除塵單元一邊接受除塵。
6. 如權(quán)利要求4的基板用搬運除塵裝置，其中，該搬運裝置包含棒形 的搬運輥；棒形的搬運輥的軸向配置成，與除塵單元的吸氣室的線狀的吸引縫隙 的長度方向及噴氣室的線狀的噴出縫隙的長度方向大致平行，而且各自相 對拍《運方向大致垂直。
7. 如權(quán)利要求5的基板用搬運除塵裝置，其中，該搬運裝置包含在傾 斜的排列方向并列配置的多個圓板形的搬運輥；圓板形的搬運輥的排列方向配置成，與除塵單元的吸氣室的線狀的吸 引縫隙的長度方向及噴氣室的線狀的噴出縫隙的長度方向大致平行，而且 相對基板搬運方向的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角傾斜。
8. 如權(quán)利要求4至7中任一項的基板用搬運除塵裝置，其中，使下側(cè) 除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上側(cè)除塵單元的文杜里管效應 所產(chǎn)生的吸引力大，賦予向搬運裝置推壓基板的力。
9. 如權(quán)利要求8的基板用搬運除塵裝置，其中，通過使向下側(cè)除塵單 元的吸引壓力和向上側(cè)除塵單元的吸引壓力變成相等，而且使來自下側(cè)除塵單元的噴出壓力比來自上側(cè)除塵單元的噴出壓力大，而4吏下側(cè)除塵單元 的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的 吸引力大，賦予向搬運裝置推壓基板的力。
10. 如權(quán)利要求8的基板用搬運除塵裝置，其中，通過使來自下側(cè)除塵 單元的噴出壓力和來自上側(cè)除塵單元的噴出壓力變成相等，而且向下側(cè)除 塵單元的吸引壓力比向上側(cè)除塵單元的吸引壓力大，而使下側(cè)除塵單元的 文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸 引力大，賦予向搬運裝置推壓基板的力。
11. 如權(quán)利要求8的基板用搬運除塵裝置，其中，通過將自下側(cè)除塵單 元至基板面的間隔調(diào)整成小于自上側(cè)除塵單元至基板表面的間隔，而使下 側(cè)除塵單元的文杜里管效應所產(chǎn)生的吸引力比上側(cè)除塵單元的文杜里管效 應所產(chǎn)生的吸引力大，賦予向搬運裝置推壓基板的力。
12. 如權(quán)利要求9的基板用搬運除塵裝置，其中，測量來自下側(cè)除塵單 元及上側(cè)除塵單元的噴出壓力，在來自上側(cè)除塵單元的噴出壓力比來自下 側(cè)除塵單元的噴出壓力大的情況下進行控制，以停止向除塵單元搬運基板。
13. 如權(quán)利要求4 12的任何一項所述的基板用搬運除塵裝置，其中， 下側(cè)除塵裝置包括抵接搬運的基板而轉(zhuǎn)動的輔助輥。
14. 如權(quán)利要求13的基板用搬運除塵裝置，其中，在下側(cè)除塵單元的 搬入側(cè)的外側(cè)部配置所述輔助輥。 .
15. 如權(quán)利要求13或14的基板用搬運除塵裝置，其中，在下側(cè)除塵單 元的吸氣室的吸引縫隙內(nèi)配置所述輔助輥。
16. 如權(quán)利要求4 15的任何一項所述的基板用搬運除塵裝置，其中， 所述下側(cè)除塵單元及上側(cè)除塵單元沿著基板搬運方向并列配置噴氣室及隔 著噴氣室的兩個吸氣室。
全文摘要
一種基板用搬運除塵裝置的使用方法及基板用搬運除塵裝置，使在將基板的前端引入除塵單元時不發(fā)生彎曲或振動，而且調(diào)整文杜里管效應的平衡，增加向下側(cè)的吸引力，即使是薄且具有柔軟性的基板也實現(xiàn)穩(wěn)定地搬運、塵埃等的吸引的增加。一種基板用搬運除塵裝置及其使用方法，將下側(cè)除塵單元(210)的吸氣室(211、213)的吸引縫隙的長度方向配置成對基板搬運方向(a)大致成直角，而且在基板(G)的一邊方向相對基板搬運方向(a)的大致垂直方向以規(guī)定的交叉角(α)傾斜的狀態(tài)，使基板(G)的突端成為前頭那樣地一邊搬運到下側(cè)除塵單元(210)一邊接受除塵。
文檔編號B08B5/00GK101171092SQ20058004971
公開日2008年4月30日 申請日期2005年8月5日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月6日
發(fā)明者中村康平, 管野盛利, 飯?zhí)镄惴?申請人:修谷魯電子機器股份有限公司