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用于皮膚組織的基于光的處理的皮膚處理裝置的制造方法_4

文檔序號:9871841閱讀:來源:國知局
聚集部分在皮膚組織內(nèi)部進入各個聚焦位置342,在本實例中在皮膚組織內(nèi)部在距皮膚表面300的第二焦點深度f2處。在圖5B的情況下,根據(jù)本發(fā)明的皮膚處理裝置200的出射表面45被推靠在皮膚表面300上,這將導致定位構(gòu)件50與光學系統(tǒng)20處于其中出射表面45與皮膚表面300接觸的處理位置Pt,其可能經(jīng)由折射率匹配流體350以進一步提高出射表面45和皮膚表面300之間的光親合。如前所述,出射表面45和皮膚表面之間的這種接觸會顯著降低出射表面45對光學系統(tǒng)20成像特性的光學貢獻,或者甚至會消除出射表面45的這一貢獻,使得在目前情況下,最終透鏡元件只在皮膚組織內(nèi)部的第一焦點深度提供了單個焦點340。因此,根據(jù)本發(fā)明的皮膚處理裝置200可在不同的操作模式中使用。
[0041]總之,本發(fā)明提供了一種非侵入性皮膚處理裝置200,其包括被構(gòu)造用于發(fā)射處理光的光源10,被構(gòu)造用于將處理光聚焦到皮膚組織內(nèi)部的焦點位置340內(nèi)的光學系統(tǒng)20,以及具有皮膚接觸表面52的定位構(gòu)件50,定位構(gòu)件50和光學系統(tǒng)20能夠相對于彼此被移位,用于改變并限定皮膚接觸表面和光學系統(tǒng)的最終透鏡元件30之間的距離。在使用中,最終透鏡元件面向皮膚表面300,并且定位構(gòu)件和光學系統(tǒng)可相對于彼此移位到處理位置Pt和不同于處理位置的另外位置Pfl。在使用中并在光學系統(tǒng)的處理位置,最終透鏡元件與皮膚表面接觸,以防止最終透鏡元件和皮膚表面之間的空氣間隙。
[0042]應當指出的是,上述實施例說明而非限制本發(fā)明,并且本領域技術人員將能夠設計許多替代實施例。
[0043]在權(quán)利要求中,置于括號之間的任何附圖標記不應被解釋為限制該權(quán)利要求。使用動詞“包括”及其變化形式并不排除權(quán)利要求中所列之外的元件或步驟的存在。元件之前的冠詞“一個(a)”或“一個(an)”不排除多個這樣的元件的存在。本發(fā)明可以通過包括若干不同元件的硬件,以及通過適當編程的計算機來實現(xiàn)。在設備權(quán)利要求中列舉了若干裝置,這些裝置的幾個可以由一個以及相同的硬件項目來體現(xiàn)。某些措施被記載在相互不同的從屬權(quán)利要求中這一事實并不表示這些措施的組合不能被利用。
【主權(quán)項】
1.一種皮膚處理裝置(200),用于皮膚組織的基于光的處理,所述皮膚處理裝置(200)包括: 光源(10),其被構(gòu)造成用于發(fā)射處理光, 光學系統(tǒng)(20),其被構(gòu)造成用于將所述處理光聚集到所述皮膚組織內(nèi)部的焦點位置(340),和 具有皮膚接觸表面(52)的定位構(gòu)件(50),所述定位構(gòu)件(50)和所述光學系統(tǒng)(20)能相對于彼此移位,用于改變所述皮膚接觸表面(52)和所述光學系統(tǒng)(20)的最終透鏡元件(30,31,32,33,34,35)之間的距離((10,(11,(12),在使用中,所述最終透鏡元件(30,31,32,33,34,35)面向皮膚表面(300),其中所述定位構(gòu)件(50)和所述光學系統(tǒng)(20)能相對于彼此移位到所述光學系統(tǒng)(20)的處理位置(Pt)和所述光學系統(tǒng)(20)的不同于所述處理位置(Pt)的另外位置(Pfl,Pf2),其中,在使用中并在所述處理位置(Pt)中,所述光學系統(tǒng)(20)的所述最終透鏡元件(30,31,32,33,34,35)與所述皮膚表面(300)接觸,在所述最終透鏡元件(30,31,32,33,34,35)和所述皮膚表面(300)之間不存在空氣間隙。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的皮膚處理裝置(200),其中所述光學系統(tǒng)(20)的所述另外位置(卩0,?€2)是另外處理位置(?0,?€2),其中所述最終透鏡元件(30,31,35)和所述皮膚接觸表面(52)之間的距離(dl,d2)被用于在所述皮膚組織內(nèi)部在與所述處理位置(Pt)相比不同的焦點位置(€142 43 44)處聚焦所述處理光。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的皮膚處理裝置(200),其中所述定位構(gòu)件(50)和所述光學系統(tǒng)(20)能通過鎖定機構(gòu)(70,71)相互鎖定在所述光學系統(tǒng)的所述另外位置(Pfl,Pf2)。4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的皮膚處理裝置(200),其中所述最終透鏡元件(35)的出射表面(45)具有用于在所述光學系統(tǒng)(20)的所述另外位置(Pfl,Pf2)產(chǎn)生在所述皮膚組織內(nèi)部的多個聚焦位置(342)的形狀,在使用中,所述出射表面(45)面向所述皮膚表面(300),并且其中所述最終透鏡元件(35)被配置為在所述光學系統(tǒng)(20)的所述處理位置(Pt)提供在所述皮膚組織內(nèi)部的單個焦點位置(340)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的皮膚處理裝置(200),其中所述最終透鏡元件(32,33,34)被配置為在所述光學系統(tǒng)(20)的所述另外位置(Pfl,Pf2)將所述處理光轉(zhuǎn)換成發(fā)散的光束,并且其中所述最終透鏡元件(32,33,34)被配置為在所述光學系統(tǒng)(20)的所述處理位置(Pt)將所述處理光聚焦到所述皮膚組織內(nèi)部的所述焦點位置(340)。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的皮膚處理裝置(200),其中所述最終透鏡元件(32,33)的出射表面(42,43)包括用于在所述光學系統(tǒng)(20)的所述另外位置(Pfl,Pf2)發(fā)散所述處理光的凹表面(42,43),在使用中,所述出射表面(42,43)面向所述皮膚表面(300)。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的皮膚處理裝置(200),其中所述最終透鏡元件(34)的出射表面(44)具有錐形突出形狀(47),用于將所述出射表面(44)附近的所述處理光在距所述出射表面(44) 一定距離處聚焦成發(fā)散的環(huán)形光束,在使用中,所述出射表面(44)面向所述皮膚表面(300)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的皮膚處理裝置(200),其中所述定位構(gòu)件(50)包括面向所述光學系統(tǒng)(20)的非透明壁(54),所述出射表面(44)的所述錐形突出形狀(47)被配置用于發(fā)散所述處理光,使得在使用中,基本上所有的處理光被發(fā)散以在所述光學系統(tǒng)(20)的所述另外位置(Pfl,Pf2)撞擊在所述定位構(gòu)件(50)的所述非透明壁(54)上。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的皮膚處理裝置(200),其中所述最終透鏡元件(31,33)的出射表面(45)包括菲涅耳透鏡(31,33,35),在使用中,所述出射表面(45)面向所述皮膚表面(300)o10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的皮膚處理裝置(200),其中所述光學系統(tǒng)(20)是靜態(tài)光學系統(tǒng)(20),而完全無需移動或調(diào)整透鏡元件。11.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的皮膚處理裝置(200),其中彈性元件(60A,60B)被設置在所述定位構(gòu)件(50)和所述光學系統(tǒng)(20)之間。12.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項所述的皮膚處理裝置(200),其中所述定位構(gòu)件(50)包括通孔,所述處理光通過所述通孔被聚焦到所述皮膚組織中,所述皮膚接觸表面(52)被設置在所述通孔的一側(cè)。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的皮膚處理裝置(200),其中所述定位構(gòu)件(50)的外形為圓柱體、長方體或三角棱柱形。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的皮膚處理裝置(200),其中所述定位構(gòu)件(50)的所述皮膚接觸表面(52)由非腐蝕性材料構(gòu)成。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種非侵入性皮膚處理裝置(200),其包括:被構(gòu)造用于發(fā)射處理光的光源(10),被構(gòu)造用于聚焦處理光到皮膚組織內(nèi)部的焦點位置(340)的光學系統(tǒng)(20),和具有皮膚接觸表面(52)的定位構(gòu)件(50),所述定位構(gòu)件(50)和所述光學系統(tǒng)(20)可相對于彼此移位,用于改變所述皮膚接觸表面(52)和所述光學系統(tǒng)的最終透鏡元件(30)之間的距離。在使用中,所述最終透鏡元件面向皮膚表面(300),并且所述定位構(gòu)件(50)和所述光學系統(tǒng)可相對于彼此移位到光學系統(tǒng)(20)的處理位置(Pt)和不同于所述處理位置的光學系統(tǒng)(20)的另外位置(Pf1)。在使用中并在所述處理位置中,所述光學系統(tǒng)的所述最終透鏡元件與所述皮膚表面接觸,在所述最終透鏡元件和所述皮膚表面之間不存在空氣間隙。
【IPC分類】A61N5/06
【公開號】CN105636643
【申請?zhí)枴緾N201480054809
【發(fā)明人】M·朱納, J·A·帕勒洛, B·瓦爾格斯
【申請人】皇家飛利浦有限公司
【公開日】2016年6月1日
【申請日】2014年9月23日
【公告號】WO2015049120A1
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