含離子液體的口腔護理組合物的制作方法
【專利說明】含離子液體的口腔護理組合物
[0001] 發(fā)明背景 離子液體是一類包含陽離子和陰離子的鹽，其在100 °c或更低的溫度下呈液體且通常 具有低于室溫的熔點。雖然不希望受理論的束縛，離子液體一般具有比常規(guī)鹽低得多的對 稱性且陽離子和陰離子的電荷通過在離子液體中共振而在分子的較大體積中分布，這被認(rèn) 為促成它們在比常規(guī)鹽（例如NaCl，mp 801°C )低得多的溫度下的液態(tài)。離子液體通常由 包含雜環(huán)的陽離子和相反陰離子組成，通常在性質(zhì)上是無機的。陽離子和陰離子的性質(zhì)將 確定離子液體的疏水性、粘度、密度和其它物理參數(shù)和特性。
[0002] 離子液體已被評價為對用于廣泛范圍的有機合成應(yīng)用的常規(guī)有機溶劑的環(huán)境友 好的或'綠色'替代品。離子液體具有將它們與常規(guī)有機溶劑區(qū)別開來的獨特特征。例如， 離子液體是不揮發(fā)的（即它們不容易蒸發(fā)到大氣中），它們具有高極性和電荷密度，它們可 以是疏水性或親水性的，且它們具有獨特的溶劑化性質(zhì)。因此，已知離子液體被用來清潔組 合物（例如，如在US 2006/0090777 Al和US 7 939 485 B2中所公開的）。一系列的離子 液體為商業(yè)可獲得的，或它們可通過簡單的離子交換反應(yīng)而容易地合成。
[0003] 生物膜是結(jié)構(gòu)化的微生物群，所述微生物被包封在自身產(chǎn)生的聚合的細胞外基質(zhì) 內(nèi)。生物膜通常粘附在活的或惰性的表面。在人或動物體內(nèi)，生物膜可在任何內(nèi)或外表面 上形成。已發(fā)現(xiàn)生物膜參與體內(nèi)廣泛種類的微生物感染并引起許多病癥，包括尿道感染、中 耳感染和特別是口腔疾病。
[0004] 牙菌斑由生物膜前體形成，并一定程度地存在于口腔內(nèi)幾乎所有的牙齒表面上或 在牙醫(yī)和衛(wèi)生人員（hygenist)使用的牙科器械上。它包含由包埋在多糖基質(zhì)中的微生物 群組成的密集的微生物層。菌斑可在牙齒表面的任何部分上形成，且特別是在牙齦邊緣和 在牙釉質(zhì)中的裂紋處發(fā)現(xiàn)。與在牙齒上形成菌斑有關(guān)的威脅在于菌斑積聚并最終生產(chǎn)牙齦 炎、牙周炎和其它類型的牙周疾病以及齲齒和牙結(jié)石的趨勢。
[0005] 菌斑本身極其堅固地附著于牙齒表面并在將其除去后迅速地在牙齒表面上重新 形成。目前菌斑去除方法主要依賴于菌斑的機械去除。這些方法包括刷牙、用研磨劑牙膏刷 牙、用牙線清潔、使用牙間清潔器、刮、利用聲波的能量（例如Sonicare牙刷）和超聲（例 如Ultreo牙刷），部分地依賴于許多消費者完全不具備的好的刷牙或用牙線清潔技術(shù)。而 且，這些方法尤其不足以除去頑固的菌斑，或深藏在牙腔和牙縫內(nèi)、牙齒之間或牙齦袋（gum pocket)內(nèi)的菌斑。
[0006] 本領(lǐng)域也已知將消滅或阻止細菌的生長的抗微生物劑摻入口腔組合物內(nèi)。然而， 由于致密的細胞外基質(zhì)和細胞外層保護生物膜或菌斑沉積物內(nèi)部發(fā)現(xiàn)的細菌免于抗微生 物劑的作用，存在于生物膜或菌斑沉積物中的細菌顯示對抗微生物劑的增加的抗性。
[0007] 因此需要提供用于除去菌斑的改進的方法和組合物，所述方法和組合物減輕因差 的刷牙/用牙線清潔技術(shù)所致的某些效率低下和有效地除去藏匿在牙齒之間、牙腔和牙縫 內(nèi)和在牙齦袋內(nèi)的菌斑。
[0008] 發(fā)明簡述 本發(fā)明旨在至少部分地滿足本領(lǐng)域的這些需求。
[0009] 在第一方面，本發(fā)明提供一種口腔護理組合物，其包含離子液體，其中離子液體包 含： a) 咪唑戀陽離子和 b) 選自水楊酸根、乙酸根、鹵離子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸 根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根（例如甲基硫酸根、乙基硫酸 根）、月桂基硫酸根、苯酷硫酸根、苯甲酸根、乙酰丙酮酸根（acetylacetonate)、羧酸根、梓 檬酸根、抗壞血酸根、二氰胺（dicyamide)、L_或D-氨基酸（例如精氨酸根、甘氨酸根、脯氨 酸根等）、乙醇酸根、葡糖酸根、馬來酸根、甜味劑陰離子（例如糖精根（saccharinate)、阿 司帕坦根（aspartamate)、環(huán)己基氨基磺酸根）、氫氧根、琥珀酸根、酒石酸根、丁二酸二辛 基磺酸根、亞油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的陰離子。
[0010] 典型地，陽離子是具有式I-R1H2H3-咪唑鐵的咪唑鐵離子，其中R 1、R2和R 3 獨立地選自H、烷基和烯基。
[0011] 任選地，R1、R2和R3獨立地選自H、C 烷基和C 2_22烯基。在另一個實施方案中， R1、R2和R 3獨立地選自H、C 12_22烷基和C 12_22烯基。在還有的另一個實施方案中，R 1、R2和R 3 獨立地選自H、Cp8烷基和C 2_8烯基。在又一個實施方案中，R 1、R2和R 3獨立地選自H、C η烷 基和C2_4烯基。更任選地，R 1和R 3獨立地選自C Htl烷基和C 2_1(|烯基，和R 2獨立地選自H、 CV1。烷基和C2_1Q烯基。
[0012] 還更任選地，C1M烷基和C 2_1(|烯基是線性的。
[0013] 任選地，R1是C 6_1(|烷基或C 6_1(|烯基。更任選地，R 3是甲基。
[0014] 典型地，R2是H。
[0015] 任選地，R1選自乙基、丁基、己基、癸基和烯丙基。
[0016] 更任選地，鹵離子是氟離子、氯離子、溴離子或碘離子。
[0017] 還更任選地，烷基硫酸根和烷基磷酸根包含1-22個碳原子。還更任選地，烷基硫 酸根和烷基磷酸根包含1-4個碳原子，或6-10個碳原子或12-22個碳原子。典型地，陰離 子選自乙酸根、溴離子、氯離子、甲基硫酸根、乙基硫酸根、辛基硫酸根、二乙基磷酸根和甲 苯磺酸根。
[0018] 任選地，陰離子選自乙酸根、辛基硫酸根或甲苯磺酸根。
[0019] 任選地，離子液體選自1-乙基-3-甲基咪唑錯（EMM)氯化物、EMM溴化物、EMM 乙基硫酸鹽、EMIM二乙基磷酸鹽、EMIM乙酸鹽、EMIM甲苯磺酸鹽、1- 丁基-3-甲基咪唑Il (BMM)氯化物、BM頂溴化物、BMM甲基硫酸鹽、BMM辛基硫酸鹽、BM頂乙酸鹽、1-烯丙 基-3-甲基咪唑輸（AMM)氯化物、1-癸基-3-甲基咪唑錯（DMM)氯化物和1，2, 3-三甲 基咪唑鐵（TMM)甲基硫酸鹽。典型地，口腔護理組合物包含基于組合物總重量計少于0.1 wt%的量的研磨劑。任選地，口腔護理組合物包含基于組合物總重量計少于0. 01 wt%的量 的研磨劑。更任選地，口腔護理組合物基本上不含任何研磨劑。
[0020] 典型地，離子液體以基于組合物總重量的約0.1 wt%_約30 wt%的量存在于口腔 護理組合物中。任選地，離子液體以基于組合物總重量的約0.5 wt%_約20 wt%的量存在 于口腔護理組合物中。更任選地，離子液體以基于組合物總重量的約5 wt%_約15 wt%的 量存在于口腔護理組合物中。還更任選地，離子液體以基于組合物總重量的約8 wt%_約10 Wt%的量存在于口腔護理組合物中。
[0021] 典型地，離子液體以約I mM-約500 mM的濃度存在于口腔護理組合物中。
[0022] 任選地，離子液體以約5 mM-約300 mM的濃度存在于口腔護理組合物中。更任選 地，離子液體以約15 mM-約250 mM或約I mM-約50 mM的濃度存在于口腔護理組合物中。
[0023] 典型地，口腔護理組合物包含用于口腔清洗劑、牙膏、口腔珠粒或條帶、灌洗液、菌 斑去除液、舌噴霧、牙線、糖果、錠劑、口香糖、貼劑（例如類似無煙煙草袋的口腔內(nèi)貼劑）和 棒棒糖的口腔可接受的載體。
[0024] 典型地，口腔護理組合物還包含一種或多種選自稀釋劑、碳酸氫鹽、pH調(diào)節(jié)劑、表 面活性劑、泡沫調(diào)節(jié)劑、增稠劑、粘度調(diào)節(jié)劑、濕潤劑、甜味劑、香料、食用色素、抗齲齒劑、抗 牙結(jié)石或牙垢控制劑、研磨劑及其混合物的試劑。
[0025] 任選地，口腔護理組合物用于除去或減少菌斑，牙齒美白，和/或抑制細菌的生 長。
[0026] 任選地，口腔護理組合物用于預(yù)防或治療齲齒、牙周病、牙齦炎或口腔干燥（口干 癥）。
[0027] 在第二方面，本發(fā)明提供從受試者的口腔除去或減少菌斑的方法，其包括給予受 試者治療有效量的包含至少一種離子液體的組合物。
[0028] 任選地，組合物破壞、分離和/或溶解口腔中的菌斑。
[0029] 更任選地，該方法包括預(yù)防或治療齲齒、牙周疾病或牙齦炎。
[0030] 在第三方面，本發(fā)明提供在受試者中美白牙齒的方法，其包括給予受試者治療有 效量的包含至少一種離子液體的組合物。
[0031] 典型地，在以上限定的本發(fā)明方法中，離子液體包含： a) 咪唑纖陽離子，和 b) 選自水楊酸根、乙酸根、鹵離子、磷酸根、烷基磷酸根、膦酸根、焦磷酸根、六偏磷酸 根、聚偏磷酸根、正磷酸根、三聚磷酸根、硫酸根、烷基硫酸根（例如甲基硫酸根、乙基硫酸 根）、月桂基硫酸根、苯酚硫酸根、苯甲酸根、乙酰丙酮酸根、羧酸根、檸檬酸根、抗壞血酸根、 二氰胺、L-或D-氨基酸（例如精氨酸根、甘氨酸根、脯氨酸根等）、乙醇酸根、葡糖酸根、馬 來酸根、甜味劑陰離子（例如糖精根、阿司帕坦根、環(huán)己基氨基磺酸根）、氫氧根、琥珀酸根、 酒石酸根、丁二酸二辛基磺酸根、亞油酸根、油酸根和甲苯磺酸根的陰離子。
[0032] 典型地，在以上限定的本發(fā)明方法中，陽離子是具有式I-R1I-R2-S-R 3-咪唑爾的 咪唑f翁離子，其中R1、R2和R3獨立地選自H、烷基和烯基。任選地，R \ R2和R3是獨立地選 擇的H、CV22烷基和C 2_22烯基。在另一個實施方案中，R \ R2和R 3獨立地選自H、C 12_22烷基 和C12_22烯基。在還有的另一個實施方案中，R 1、R2和R3獨立地選自H、C u烷基和C 2_8烯基。 在又一個實施方案中，R1、R2和R 3獨立地選自H、C i_4烷基和C 2_4烯基。更任選地，R 1和R3獨 立地選自C1,烷基和C 2_1(|烯基，和R2獨立地選自H、C η。烷基和C 2_1(|烯基。
[0033] 還更任選地，Cpltl烷基和C 2_1(|條基是線性的。
[0034] 任選地，R1是C 6_1(|烷基或C 6_1(|烯基。更任選地，R 3是甲基。
[0035] 典型地，R2是H。
[0036] 任選地，R1是乙基，R2是H和R 3是甲基。
[0037] 任選地，在本發(fā)明的方法中，R1選自乙基、丁基、己基、癸基和烯丙基。
[0038] 更任選地，在本發(fā)明的方法中，鹵離子是氯離子或溴離子。
[0039] 還更任選地，烷基硫酸根和烷基磷酸