1.一種用于放射治療的劑量計(jì)算的方法，其中涉及
a.提供身體的要經(jīng)受放射治療的部分的計(jì)劃圖像，
b.提供相同部分的分次圖像，以及
c.把所述計(jì)劃圖像與所述分次圖像配準(zhǔn)(S2)以產(chǎn)生所述計(jì)劃圖像的變形場(chǎng)，并且使用該變形場(chǎng)來(lái)獲得第一計(jì)算基礎(chǔ)，該第一計(jì)算基礎(chǔ)包括與所述部分相關(guān)的第一位置信息和第一物質(zhì)特性信息，所述方法包括以下步驟
d.基于所述分次圖像獲得第二計(jì)算基礎(chǔ)(S3)，該第二計(jì)算基礎(chǔ)包括與所述部分相關(guān)的第二位置信息和第二物質(zhì)特性信息，以及
e.基于所述第一計(jì)算基礎(chǔ)和所述第二計(jì)算基礎(chǔ)，并且使用來(lái)自所述第一計(jì)算基礎(chǔ)和所述第二計(jì)算基礎(chǔ)的物質(zhì)特性信息來(lái)執(zhí)行(S5)劑量計(jì)算。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其中，使用來(lái)自所述第一計(jì)算基礎(chǔ)的所述身體的所述部分的至少第一區(qū)域中的物質(zhì)特性信息以及來(lái)自所述第二計(jì)算基礎(chǔ)的所述身體的所述部分的至少第二區(qū)域中的物質(zhì)特性信息來(lái)執(zhí)行所述劑量計(jì)算。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的方法，其中，執(zhí)行劑量計(jì)算的步驟包括
f.基于所述第一計(jì)算基礎(chǔ)和所述第二計(jì)算基礎(chǔ)產(chǎn)生(S4)合成計(jì)算基礎(chǔ)，所述產(chǎn)生包括：
g.確定所述合成計(jì)算基礎(chǔ)的至少第一區(qū)域，其用于根據(jù)所述第二計(jì)算基礎(chǔ)來(lái)結(jié)合物質(zhì)特性信息，以及
h.產(chǎn)生所述合成計(jì)算基礎(chǔ)，該合成基礎(chǔ)包括基于所述第二計(jì)算基礎(chǔ)的所述第一區(qū)域中的物質(zhì)特性信息以及基于所述第一計(jì)算基礎(chǔ)的至少第二區(qū)域中的物質(zhì)特性信息。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的方法，其中，產(chǎn)生(S4)所述合成計(jì)算基礎(chǔ)的步驟使用所述至少第一區(qū)域中的來(lái)自所述分次圖像和所述計(jì)劃圖像這兩者的物質(zhì)特性來(lái)執(zhí)行。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4的方法，其中，所述第一區(qū)域中的物質(zhì)特性信息在至少一個(gè)體素中使用來(lái)自所述分次圖像和所述計(jì)劃圖像的組合信息來(lái)計(jì)算。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中的任一項(xiàng)的方法，其中，所述第一區(qū)域包括下列之一的至少一部分：胃、腸、膀胱、子宮、肺、舌頭。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)的方法，其中，所述配準(zhǔn)(S2)使用可變形配準(zhǔn)方法來(lái)執(zhí)行。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)的方法，其中，所述物質(zhì)特性信息包括關(guān)注區(qū)域的密度和/或原子結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)的方法，其中，所述計(jì)劃圖像使用扇形射束CT來(lái)獲取。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)的方法，其中，所述分次圖像使用錐形射束CT來(lái)獲取。
11.一種包括計(jì)算機(jī)可讀代碼裝置的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，所述計(jì)算機(jī)可讀代碼裝置當(dāng)在計(jì)算機(jī)中運(yùn)行時(shí)，將使所述計(jì)算機(jī)執(zhí)行根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的方法。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品，被存儲(chǔ)在載體上。
13.一種用于為放射治療執(zhí)行劑量計(jì)算的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)(5)，該系統(tǒng)包括用于執(zhí)行圖像的配準(zhǔn)的處理裝置(7)，所述計(jì)算機(jī)系統(tǒng)具有存儲(chǔ)器(11)，該存儲(chǔ)器(11)存儲(chǔ)有根據(jù)權(quán)利要求11或12的計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品使得該計(jì)算機(jī)程序產(chǎn)品當(dāng)被執(zhí)行時(shí)，將控制所述處理裝置(7)。