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自動消融跟蹤的制作方法與工藝

文檔序號:12702044閱讀:來源:國知局
自動消融跟蹤的制作方法與工藝

技術(shù)特征:
1.一種用于執(zhí)行醫(yī)療手術(shù)的裝置,包括:侵入式探針,所述侵入式探針被構(gòu)造成與患者的身體內(nèi)的器官接觸以及在所述探針接觸的器官中的多個組織位點處施加治療;以及處理器,所述處理器聯(lián)接至所述探針并且被構(gòu)造成顯示所述器官的標測圖以及跟蹤所述探針相對于所述標測圖的位置,在施加治療的同時評估所述探針與所述組織位點之間的接觸的穩(wěn)定性,以及響應(yīng)所評估的穩(wěn)定性來自動標記所述標測圖,指示在其上施加治療的組織位點。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成接受穩(wěn)定性標準的定義,以及標記所評估的穩(wěn)定性符合所述穩(wěn)定性標準的位點。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成接受用于不同的器官區(qū)域的不同的相應(yīng)的穩(wěn)定性標準的定義。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的裝置,其中所述器官具有壁,所述壁包含在其上施加治療的組織位點,并且其中所述不同的相應(yīng)的定義包括響應(yīng)不同區(qū)域中的所述壁的厚度變化而設(shè)定的不同閾值。5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置,其中所述穩(wěn)定性標準規(guī)定了最小時間,并且其中所述處理器被構(gòu)造成自動標記所述標測圖以指示所述探針在其上穩(wěn)定不小于所述最小時間的組織位點。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成通過在施加治療期間測量所述探針的位置改變來評估所述穩(wěn)定性,同時補償所述身體的運動。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置,其中所述器官是心臟,并且其中補償所述運動包括補償由于呼吸而造成的心臟位置變化。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成通過測量所述探針與所述組織位點之間的接觸力來評估所述穩(wěn)定性。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置,其中由所述探針施加的治療包括消融所述組織位點。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成使用所述探針測量所述組織位點處的電阻抗,并且在治療期間響應(yīng)所述阻抗的改變在所述標測圖上標記所述組織位點。11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成使用所述探針測量所述組織位點處的電生理信號,以及在治療期間響應(yīng)所述電生理信號的改變在所述標測圖上標記所述組織位點。12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成使用所述探針測量所述組織位點處的溫度,以及在治療期間響應(yīng)所述溫度的改變在所述標測圖上標記所述組織位點。13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置,其中所述處理器被構(gòu)造成通過所述探針測量被遞送至所述組織位點的電功率,并且在治療期間響應(yīng)施加于所述組織位點中的每一個組織位點的累積功率在所述標測圖上標記所述組織位點。
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