流體皮膚處理裝置制造方法
【專利摘要】一種用于執(zhí)行皮膚處理的裝置，該裝置包括筒盒，該筒盒具有用于保持處理流體的隔室和用于接納廢流的儲槽，所述儲槽和隔室都與真空壓力源連通。真空源通過施加器頭中的出口抽吸處理流體并隨后將使用過的流體吸入廢物儲槽。施加器頭可包括用于執(zhí)行微晶磨皮術(shù)的磨蝕材料和/或用于施加微電流的陽極和陰極。
【專利說明】流體皮膚處理裝置
[0001] 相關(guān)申請的交叉引用
[0002] 本申請依據(jù)35U.S.C. § 120要求于2011年12月19日提交的美國專利申請?zhí)?61/577, 444的優(yōu)先權(quán)，其內(nèi)容和公開信息的全文通過引用并入本文。

【背景技術(shù)】
[0003] 微晶磨皮術(shù)是一種用于從最外層皮膚（表皮）除去死細胞以提供更青春健康的外 觀、除皺紋、清除堵塞毛孔、除去某些類型的不希望但可能發(fā)生的皮膚狀況且增強皮膚彈性 的處理過程。微晶磨皮術(shù)的過程須以某種精度來進行，從而下面的鮮活皮膚組織層不會被 除去或受損，但能除去足夠多的死細胞以產(chǎn)生有用效果。
[0004] 用于尤其是臉部的肌膚的其它處理是微電流處理。通過對臉部皮膚施加微電流， 外表的細微線條和皺紋可被除去，從而導致改善的皮膚紋理和外觀。施用微電流也可幫助 某些水基物質(zhì)通過離子電滲療法滲入皮膚。在現(xiàn)有技術(shù)中也公開了各種各樣的其它皮膚處 理。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0005] 圖1是本裝置的一個實施方式的立體圖。
[0006] 圖2是圖1的裝置的側(cè)視圖。
[0007] 圖3是圖1的裝置的前視圖。
[0008] 圖4是圖1的裝置的分解視圖。
[0009] 圖5沿圖3的線5-5的剖視圖。
[0010] 圖6是圖1的裝置的施加器頭的部件和筒盒的分解視圖。
[0011] 圖7A是圖1的裝置的廢物隔室的前側(cè)立體圖。
[0012] 圖7B是圖1的裝置的廢物隔室的后視圖。
[0013] 圖7C是圖1的裝置的廢物隔室的前視圖。
[0014] 圖7D是圖1的裝置的廢物隔室的沿圖7C的線A-A的剖視圖。
[0015] 圖8是圖1的裝置的筒盒的剖視圖。
[0016] 圖9是本裝置的施加器頭的實施方式的示意圖。
[0017] 圖10是用于向本裝置的使用者的皮膚執(zhí)行微晶磨皮術(shù)的施加器頭的實施方式的 示意圖。
[0018] 圖11是用于向?qū)Ρ狙b置的使用者的皮膚通電的施加器頭的實施方式的示意圖。
[0019] 圖12是用于向?qū)Ρ狙b置的使用者皮膚的施加光能的施加器頭的實施方式的示意 圖。
[0020] 發(fā)明概述
[0021] 本發(fā)明是一種裝置，該用于裝置對裝置的使用者的皮膚進行處理。該處理涉及向 使用者的皮膚表面輸送流體，這可利用以下裝置來完成，該裝置包括具有用于保持處理流 體的處理流體隔室和用于接內(nèi)廢流的廢流存儲隔室的筒盒。這兩個隔室與一真空壓力源連 通，從而來自廢流存儲隔室的真空管道的出口的真空壓力從處理流體隔室的出口吸出處理 流體。位于處理流體隔室的近端中的柱塞與隔室的近側(cè)部分液密地接合，并且還被同時向 遠側(cè)移動。
[0022] 真空管道的入口被定位成當來自處理流體隔室的所有流體都被容納在廢流存儲 隔室中時，所述廢流存儲隔室中的流體不會到達該入口。優(yōu)選地，真空管道足夠長，從而當 來自處理流體隔室的所有流體都被容納在廢流存儲隔室中時，廢流存儲隔室中的流體不會 到達該真空管道的入口。使用其容積至少是處理流體隔室的容積的兩倍的廢物存儲隔室也 能幫助防止流體流入真空管道中。在廢流存儲隔室中使用足夠量的吸收材料以吸收來自處 理流體隔室的所有流體也能幫助防止流體侵入真空管道，尤其是當真空管道的入口被吸收 性材料包圍時。
[0023] 該裝置還包括施加器末端或施加器頭，該施加器末端或施加器頭具有與處理流體 隔室的出口孔連通的流體出口、與廢流存儲隔室的流體入口連通的流體入口和具有遠側(cè)邊 緣并圍繞該施加器頭的流體出口和流體入口的周向壁。所述邊緣向外延伸超過該施加器頭 的流體出口和流體入口，從而當該邊緣接觸使用者的皮膚時能圍繞該邊緣形成密封，以允 許來自真空壓力源的真空壓力向遠側(cè)拉動所述處理流體隔室的柱塞并且從處理流體隔室 抽出處理流體。在處理流體被施加至使用者的皮膚之后，所施加的流體通過施加器頭的流 體入口而被抽入廢流存儲隔室。
[0024] 處理流體可以是各種不同流體中的任何一種，但優(yōu)選的是水或水溶液。處理流體 還可以包括維他命或荷爾蒙。在一個實施方式中，處理流體可包括磨蝕材料，例如氧化鋁、 碳酸氫鈉、氯化鈉、二氧化硅、氧化鎂、金剛石、聚酯、尼龍。
[0025] 在一個實施方式中，該裝置的施加器末端可以附加地包括用于向使用者皮膚輸送 微電流的部件。在此實施方式中，施加器末端還包括具有上表面的陽極元件和具有上表面 的陰極元件。所述陽極的上表面和所述陰極的上表面優(yōu)選地向外延伸超過施加器末端的流 體出口的遠端和流體入口的遠端，以實現(xiàn)與使用者的皮膚或至少與使用者的皮膚上的流體 的接觸和電耦合，由此允許該裝置執(zhí)行微電流處理。在一個實施方式中，所述陽極的上表面 和所述陰極的上表面向外延伸了與施加器末端的周向壁的邊緣一樣的程度。微電流發(fā)生器 優(yōu)選地輸送1微安到1000微安之間的電流，更優(yōu)選地是100微安到600微安培之間的電流。
[0026] 在其它實施方式中，該施加器末端可以配備有附加功能。例如該施加器末端的周 向壁的邊緣可包括磨蝕材料以利用本裝置執(zhí)行微晶磨皮術(shù)?；蛘撸撌┘悠髂┒丝梢耘湓O(shè) 有超聲波換能器、LED光源或其組合。
[0027] 說明
[0028] 本裝置和方法涉及皮膚護理的大體領(lǐng)域以及人們清理、剝除、嫩化和向皮膚中注 入處理物的方式。本文所述的裝置是新穎的美容裝置以及采用單手手持裝置來提供其中一 些當今流行的美容樣式的方法，包括流體輔助式微晶磨皮術(shù)和微電流處理。在其它實施方 式中，可以提供附加的處理，諸如光療和液體注射面部處理。
[0029] 微晶磨皮術(shù)是這樣一種處理，其涉及有選擇地除去皮膚表面細胞。這種處理已經(jīng) 被人反復多次提到過，包括美膚裝置的使用，該裝置結(jié)合了磨蝕末端和真空，例如融合了空 氣壓力和粉末流動的裝置，或者振動且轉(zhuǎn)動的皮膚刷和墊。所產(chǎn)生的優(yōu)點是既增強了皮膚 表面的反射性（線條和其它瑕疵不太可見），還更好地吸收局部處理成分。其它皮膚處理包 括：流體注入式面部美容，其采用液體或乳化液并且一般還有空氣壓力以更好地將局部處 理成分輸送到皮膚中；光療法將特定波長的可見光和紅外光輸送到皮膚；采用真空壓的真 空療法；超聲；射頻和微波能量療法；按摩療法；和溫度療法（熱療/冷療）。
[0030] 但仍然需要一種裝置，其能利用對皮膚的流體輸送和捕捉和空氣壓力，并且可以 與以上處理結(jié)合使用來產(chǎn)生新的處理方法。另外，需要一種裝置，其小巧且是手持的并且具 有可拆下且可更換的處理頭，因此由相同的裝置提供許多處理形式。
[0031] 定義
[0032] 當在本文中使用時，以下術(shù)語及其變體具有下述含義，除非在使用這樣的術(shù)語的 上下文中明顯指出不同的含義。
[0033] "筒盒"是指本裝置的這樣的部件，該部件具有用于保持粉末或液體的隔室并且可 以被插入本裝置的容座中。
[0034] "細長的"是指其長度大于其寬度的構(gòu)造或形狀。
[0035] "墊圈"是指密封兩個表面之間的結(jié)合部的一片橡膠環(huán)或其它材料環(huán)。
[0036] "水平"是指大致平行于（即，基本上不延伸向或延伸出）本裝置的表面或結(jié)構(gòu)的 取向。
[0037] "下部的"是指本裝置中的部件的更靠近或朝向本裝置的表面或結(jié)構(gòu)的相對位置。
[0038] "噴嘴"是指具有開口的噴射管道，以用于調(diào)節(jié)和/或引導流體的流動。
[0039] "向外的"和"向外地"是指在遠離本裝置的表面和結(jié)構(gòu)的方向上。
[0040] "柱塞"是指在裝置管道內(nèi)移動的活塞狀往復運動件。
[0041] "末端"是指結(jié)構(gòu)和組件的端部。
[0042] "管"、"管狀的"或"管道"是指這樣的結(jié)構(gòu)，其具有中空的孔或通道或其它通路，基 本上沿結(jié)構(gòu)的縱軸線對齊并且可具有不同的橫截面。因此，這些術(shù)語不僅是指常見的具有 帶中心開口的圓形橫截面的管，也是指包括具有正方形、橢圓形或非幾何形且甚至不規(guī)則 的橫截面的結(jié)構(gòu)的其它結(jié)構(gòu)，所述結(jié)構(gòu)包括這樣的通路。
[0043] 本文所用的"真空線路"是一種管狀結(jié)構(gòu)，其將系統(tǒng)的其它部件互連以在其間形成 真空流路。
[0044] "真空泵"是從密封的容積中除去氣體分子以留下局部真空的裝置。
[0045] "上方的"是指本裝置的部件的進一步遠離或離開本裝置的表面或結(jié)構(gòu)的相對位 置。
[0046] "堅向"是指朝向或離開在使用時供放置本裝置的支承表面延伸的取向。
[0047] 術(shù)語"包括"及其變體例如"包括有"、"包含"不打算排除其它添加物、零部件、整 休或步驟。術(shù)語"一"、"一個"和"該"及本文所用的相似稱謂要被解釋成涵蓋單數(shù)和復數(shù)， 除非其在上下文中的應(yīng)用另有所指。
[0048] 裝置部件
[0049] 手持單元
[0050] 如例如在圖1到圖3所示，在優(yōu)選實施方式中，本裝置1包括手持單元，該手持單 元具有手柄部10和頭部20,所述手柄部用于抓握裝置1，所述頭部包括本裝置1的筒盒100 和施加器末端200。手柄部10大致從裝置的近端2延伸向遠端4,其中頭部20從遠端4向 外延伸。
[0051] 本裝置的組成部件在圖4到圖6中示出。為了制造方便，圖1到6中所示的裝置 1的殼體5包括前殼體部12和后殼體部16,該前殼體部12和后殼體部16相連而形成殼體 5并封閉裝置的內(nèi)部部件。在所示實施方式中，容納在手柄部10中的部件由蓋14保持在 殼體中，蓋14通過將遠離（即向內(nèi)）蓋14的內(nèi)表面15延伸的桿11裝入管狀接納部13的 開口而被接合至前殼體部12,所述管狀接納部13遠離（即向內(nèi)）前殼體部12的內(nèi)表面17 延伸。容納部13定尺寸成接納桿11并以摩擦配合保持所述桿，由此將前殼體部12和蓋14 保持在一起。另選地，桿11可以被保持在后殼體部16上，或者接納部13另選地可以被定 位在后殼體部14上，并且桿11可以定位在蓋14或前殼體部12上。也可采用現(xiàn)有技術(shù)已 知的連接前殼體部12和后殼體部16的其它方式。后殼體部16安放到蓋14上方并且可以 通過粘合劑、摩擦配合或以現(xiàn)有技術(shù)已知的其它方式被保持在所述蓋上。殼體5優(yōu)選地由 諸如剛性塑料聚合物的剛性材料形成。
[0052] 在此實施方式中，諸如真空泵50的真空壓力源容納在手柄部10的殼體5內(nèi)，該真 空壓力源可以是機電式壓力發(fā)生器，諸如交流或直流空氣泵。該真空源例如可產(chǎn)生在1到 14 psi之間的力。另選地，本裝置內(nèi)可以包括一個或多個壓力保持腔，在該情況下，壓力發(fā) 生部件將位于該裝置之外。雖然在本裝置中采用真空壓力來輸送和除去處理流體，但在替 代實施方式中，真空壓力可被施加到使用者的皮膚以獲得其自身的處理效果，而沒有施加 流體。真空泵50優(yōu)選地通過真空保持部34被固定在殼體5內(nèi)，真空保持部的內(nèi)表面接觸 并接合真空泵50的外表面，并且該真空保持部具有向外延伸的凸緣，該凸緣將真空保持部 34固定至殼體5的內(nèi)壁。
[0053] 手柄部10也可保持電池40以給真空泵50通電。在所示的實施方式中，電池40 位于真空泵50的下方，但也可以采用其它布置。電池優(yōu)選的是充電式的，在該情況下，該電 池可以被安放成與用于與電線連接的連接器電耦合，以將電池40放置成與電輸出端或其 它電源電耦合。本裝置1另選地可以只通過經(jīng)電線連接至電輸出端來通電。在另一實施方 式中，電池通過與充電站的感應(yīng)耦合被充電，如現(xiàn)有技術(shù)中所公開的那樣。電池40也可以 是一次性電池，在該情況下，后殼體部16和蓋14 (如果有）必須被可逆地固定至裝置1的 前殼體部12。在使用充電電池的實施方式中，電池40優(yōu)選地通過電池板32被固定在殼體 5內(nèi)，電池板接觸電池40的后表面并包括向外延伸的凸緣，該凸緣將電池板32固定至殼體 5的內(nèi)壁。
[0054] 對裝置1的通電可利用通斷開關(guān)36來控制，所述開關(guān)優(yōu)選地通過壓下按鈕18來 致動。按鈕18被保持在殼體5的后部16的開口 19內(nèi)，優(yōu)選地保持在裝直的遠端4中，并 且包括被保持在殼體5的內(nèi)部的周向凸緣18a以將固定按鈕18至該裝置。按鈕18優(yōu)選地 由彈性體材料或其它柔性材料形成并且在使用者向按鈕18的外表面37施加壓力時致動該 開關(guān)。壓力被從按鈕18的后表面向內(nèi)延伸的柱37被繼續(xù)傳輸給電開關(guān)36的遠端35。
[0055] 在一優(yōu)選實施方式中，在利用本裝置1所實現(xiàn)的處理中所用的流體容納在筒盒 100中，筒盒100保持在裝置的頭部20內(nèi)。頭部20包括位于該頭部20的遠部23內(nèi)的開口 21以接納這樣的筒盒100,并且頭部還包括周向壁22,該周向壁具有用于接合筒盒100的內(nèi) 表面26。在頭部20的遠端23的外表面中優(yōu)選地結(jié)合凹槽25,并且這些凹槽25與位于末 端蓋60的內(nèi)表面上的螺紋61匹配，末端蓋用于將附接末端200固定到頭部20的遠端23。 頭部20還優(yōu)選地包括位于頭部20的近端21內(nèi)的后壁24,以更好地固定該筒盒100。后壁 24還優(yōu)選地包括真空線路連接器28,以固定真空泵50的真空端口 52和真空線路連接器28 之間的真空線路（未示出）。
[0056] 籃盒
[0057] 所示的實施方式中的頭部20在其內(nèi)保持有處理流體隔室或儲槽120以及廢流存 儲隔室160,這些隔室優(yōu)選地一起設(shè)置為一體筒盒100。在所示的實施方式中，處理流體隔 室120包括近端121、遠端123、用于保持處理流體的內(nèi)部隔室125、出口 128和柱塞130。柱 塞的遠側(cè)面132與隔室125的內(nèi)部（和處理流體，如果有）連通，柱塞130的外邊緣133圍 繞內(nèi)部隔室125進行密封，從而流體可以被保持在隔室125內(nèi)。柱塞130為此優(yōu)選地由彈 性體材料或者其它柔性材料形成。柱塞130也能移動，從而當處理流體響應(yīng)于來自真空泵 50的真空壓力而從隔室125被抽出時，使柱塞130遠側(cè)移向處理流體隔室120的遠端123。 可以是電動式或機械式的閥（未示出）能位于出口 128中或出口的下游以防止使用過的流 體返回到隔室125。
[0058] 廢流存儲隔室140類似地包括近端141、遠端143、用于接納廢處理流體的內(nèi)部隔 室145和入口 148。在圖5到圖7的實施方式中，廢流體隔室140包括支座或容座146,該 支座或容座定尺寸成接納并保持處理流體隔室120,從而處理流體隔室120的近端121靠近 容座146的后壁142。在優(yōu)選的實施方式中，廢流存儲隔室140的內(nèi)部隔室145的容積將 大于處理流體隔室120的內(nèi)部隔室124的容積。處理流體隔室120可通過摩擦配合、粘合 劑或以現(xiàn)有技術(shù)已知的其它手段被保持在容座146中?？梢允请妱邮交驒C械式的閥（未示 出）能夠位于入口 148中或入口的上游以防止使用過的流體離開隔室145。
[0059] 通入廢流存儲隔室140的流體入口 148將使用過的處理流體和皮膚碎屑攜帶至內(nèi) 部隔室145。入口 148優(yōu)選地將進入隔室的流體引導向內(nèi)壁或者以其它方式離開通向真空 管道入口 158的出口。
[0060] 廢物存儲隔室140還包括真空管道150。真空管道150包括入口 158和出口 156， 空氣由該入口處被從廢流存儲隔室140抽出。在圖5和圖6的實施方式中，該出口連至位 于廢物存儲隔室140的后壁144中的連接器152,因此連接器152的近端連接至在頭部20 的后壁24中的真空線路連接器28,以使真空管道150與真空泵50的真空壓力連通。另選 地，頭部20的后壁24可僅僅包括一開口，并且真空管道150的出口 156可直接連接至真空 線路。
[0061] 真空管道150的入口 158優(yōu)選地如此定位和/或具有足夠長度，使得當來自處理 流體隔室的所有流體都被容納在廢流存儲隔室140中時，廢流存儲隔室140內(nèi)的流體將不 會到達入口 158。這可部分地通過將廢流存儲隔室140的內(nèi)部隔室145的容積設(shè)置為大于 處理流體隔室的內(nèi)部隔室125的容積且最好至少是其兩倍來實現(xiàn)。在此情況下，當該真空 管道延伸入內(nèi)部隔室145的內(nèi)部中時，隔室中廢流的液面高度將總是保持為低于入口 158 的開口。
[0062] 廢流存儲隔室140也可以優(yōu)選地包括位于內(nèi)部隔室145中的吸收材料155。該吸 收材料可以是能夠吸收并保持一些或全部的進入內(nèi)部隔室145的使用過的處理流體的任 何材料。吸收材料例如可以是棉或吸收聚合物，該吸收聚合物例如是在一次性尿布中所用 的吸收聚合物。在一個優(yōu)選實施方式中，足夠的吸收材料155可被用在廢流存儲隔室140 中，從而由處理流體隔室120所保持的所有流體都可以被吸收。在此實施方式中，真空管道 150可以位于廢流存儲隔室140的內(nèi)部隔室145中的任何方便位置上，只要吸收材料位于隔 室145的入口 148和真空管道150的入口 158之間即可。
[0063] 本裝置的流體存儲隔室優(yōu)選地容納在單個筒盒中，該筒盒是一次性的或可再填充 的。在所示的實施方式中，筒盒100穿過頭部20內(nèi)的開口 21被插入，使得廢流存儲隔室 140的后壁144靠近頭部20的后壁24放置或最好接觸該頭部的后壁。在如圖8所示的替 代實施方式中，處理流體隔室120和廢流存儲隔室140可以是單獨的單元，并且可以被單獨 地置入頭部20中，或是置入共同的隔室或單獨的隔室中。光指示器或某些其它視覺指示器 可被用于顯示該流體存儲隔室何時需要被更換、排空或再充填。
[0064] 施加器末端
[0065] 本裝置1還包括施加器頭或施加器末端200,該施加器頭或施加器末端具有位于 該裝置的頭部20的遠端23處或其附近的近端202。在如圖1到圖6所示的實施方式中， 施加器末端200通過末端蓋60被固定至頭部20,末端蓋60在其內(nèi)表面上具有與在頭部20 遠端23的外表面上的凹槽25配合的螺紋。末端蓋60的內(nèi)表面接觸施加器末端200的周 向凸緣201的遠側(cè)表面，而凸緣201的近側(cè)表面接觸頭部20的遠端或者筒盒100的遠端， 末端蓋60由此通過摩擦配合將施加器末端200保持就位。也可采用將施加器末端附接到 頭部20的和/或筒盒100的遠端的其它方式。
[0066] 施加器末端200還包括流體出口 210和流體入口 220,流體出口 210和流體入口 220在施加器末端200的遠端或靠近遠端面206開孔。流體出口 210與處理流體隔室120 的出口孔128流體連通，施加器末端200的流體入口 220與廢流存儲隔室140的流體入口 148流體連通。這些部件之間的連通可通過使用管道或現(xiàn)有技術(shù)已知的其它手段來實現(xiàn)。 在圖5和圖6所示的實施方式中，施加器末端的流體出口 210和流體入口 220通過流體連 接器160分別被連接至處理流體隔室120的出口孔128和廢流存儲隔室140的流體入口 148,該流體連接器具有入口管道162和164以在近端分別連接至處理流體隔室120的出口 孔128和廢流存儲隔室140的流體入口 148。流體管道162的遠端161與施加器末端200 的出口 210相連，而流體管道164的遠端163與入口 220相連。
[0067] 施加器末端200還包括周向壁230,該周向壁從位于施加器末端200的表面206 的近端232向外延伸到位于在其遠端處的邊緣234。壁230包圍流體出口 210和流體入口 220。邊緣234優(yōu)選地大致是平面的，從而當邊緣234接觸使用者的皮膚時，可以圍繞該邊緣 形成密封。當形成密封或大致密封時，來自真空泵50的真空壓力能夠從處理流體隔室120 引出處理流體以及拉動處理流體隔室120的柱塞130,由此從施加器末端的流體出口 210抽 出處理流體。該真空壓力也將被施加至使用者的皮膚的、且混雜有死皮細胞和其它碎屑的 流體抽入施加器末端200的流體入口 220中，并從那里抽入廢流存儲隔室140。
[0068] 另詵的施加器末端
[0069] 除了向使用者的皮膚輸送流體之外，施加器末端200還可以還配備有附加功能。 在一個實施方式中，磨蝕處理頭可以在邊緣234接觸使用者的皮膚時放置成與使用者的皮 膚300接觸，以便剝落皮膚。在圖9所示的實施方式中，邊緣234配設(shè)有磨蝕材料260和/ 或一個或多個鋒利刃，從而邊緣234由此提供了磨蝕表面。在圖10所示的另一實施方式中， 一片磨蝕材料262可如圖10所示設(shè)置在邊緣234內(nèi)，只要在施加器末端200的出口 210和 入口 220之間提供流體連通即可。通過將磨蝕末端與真空源組合，使用者皮膚中的可見線 條和其它瑕疵可被減少，并且可以實現(xiàn)局部處理成分的更好吸收。也可使磨蝕表面振動和 /或轉(zhuǎn)動。
[0070] 在另一實施方式中，可以在施加器末端200的遠端上設(shè)置超聲波發(fā)生器，以用超 聲速向裝置1的使用者的皮膚300輸送波。這些波可以但不限于處于1兆赫至6兆赫的范 圍內(nèi)。例如，包括超聲換能器的處理頭可以設(shè)置在施加器末端200的壁230內(nèi)。
[0071] 在圖11所示的又一個實施方式中，施加器末端200可以包括用于向使用者的皮膚 輸送微電流的部件。在此實施方式中，施加器末端還包括具有上表面293的陽極兀件292和 具有上表面295的陰極元件294。陽極292的上表面293和陰極294的上表面295優(yōu)選地 向外延伸超過施加器末端的流體入口的遠端和流體出口的遠端以實現(xiàn)與使用者的皮膚或 至少是與使用者的皮膚上的流體的接觸和電耦合，由此允許該裝置進行微電流處理。在一 個實施方式中，陽極292的上表面293和陰極294的上表面295向外延伸到與施加器末端 200的周向壁的邊緣234 -樣的程度。微電流發(fā)生器優(yōu)選地發(fā)出在1至1000微安之間且 更優(yōu)選地是在100至600微安之間并且在約3至10赫茲之間的頻率下的電流。也可規(guī)定 在針對每個極性的從約1到約4秒的持續(xù)時間內(nèi)使極性從正變?yōu)樨?。陽極292和陰極294 由諸如金屬的導電材料形成并且與位于殼體5內(nèi)或筒盒100內(nèi)的微電流發(fā)生器以及與電池 40電f禹合。
[0072] 在圖12所示的另一個實施方式中，施加器末端200可配備有光能源280例如閃光 燈的LED，以向皮膚輸送例如用可見光或紅外光之類的光。LED或其它光源可以設(shè)置在施加 器末端200的遠端處的壁230內(nèi)或者可設(shè)置在所述壁外。該光源與電池40電耦合并且在 某些實施方式中可以與用于控制光源280的輸出的電路電耦合以便例如提供脈沖光和/或 穩(wěn)定的光流。
[0073] 本裝置的另一實施方式可結(jié)合有針、針的組合或用于在皮膚中產(chǎn)生微孔的其它手 段，以向皮膚輸送射頻波。射頻波可以通過獨立構(gòu)件或通過微針或微穿孔源耦合至皮膚。也 可以通過微針向皮膚提供電流。
[0074] 當本裝置被設(shè)計成能用多個替代的施加器末端200來工作時，它可配設(shè)有電路和 應(yīng)用軟件和/或固件來識別裝與在該裝置上的具體的施加器末端200。該電路也將具有控 制施加器末端的相關(guān)功能的能力。
[0075] 材料
[0076] 各種不同處理流體中的任何一種都可被用在本裝置中。在一個實施方式中，處理 流體是水或水溶液。這樣的溶液可包含維他命、荷爾蒙、剝離劑、營養(yǎng)劑、藥物、植物制劑、豐 潤劑和局部使用所知的其它合成物以及其組合。處理流體另選地可以是用于皮膚處理的血 清。
[0077] 在一替代實施方式中，處理流體可被用于微晶磨皮術(shù)并且可包含晶體或其它細微 顆粒材料。可以采用適用于局部應(yīng)用的各種各樣的磨蝕材料，例如氧化鋁、碳酸氫鈉、氯化 鈉、二氧化硅、氧化鎂、水楊酸、金剛石、聚酯、尼龍或從諸如樹、稻草、蘆葦、玉米、向日葵、植 物或者蔗糖之類的植物源制成的有機晶體。顆粒的尺寸優(yōu)選地在約50和50微米之間，更 好的是約100微米?，F(xiàn)有技術(shù)已知的各種各樣的流體可被用作顆粒材料的載流體，流體的 選擇部分地取決于所用的磨蝕顆粒的性質(zhì)以及其它化妝品的選擇或者想要通過本處理獲 得的處理品質(zhì)。當使用水溶性磨蝕材料時，例如應(yīng)該選擇非含水的載體流體。
[0078] 雖然已經(jīng)相當詳細地參照某些優(yōu)選實施方式描述了本發(fā)明，但其它實施方式也是 可行的。例如針對本方法所披露的步驟不是限制性的，也不是要表明每個步驟對于該方法 是必然重要的，相反，它們只是示例性步驟。因此，所附權(quán)利要求書的范圍不應(yīng)該局限于本 文所包含的優(yōu)選實施方式的描述。
[0079] 在本文中記載的數(shù)值范圍僅旨在用作用于單獨地提到的落在該范圍內(nèi)的每個單 獨值的簡寫方式。除非本文另有說明，否則每個單獨值均被結(jié)合在說明書中，就像它們在本 文中被單獨提到那樣。本文引用的所有參考文獻的全文被納入本文。
【權(quán)利要求】
1. 一種用于執(zhí)行微晶磨皮術(shù)的裝置，該裝置包括： (a) 筒盒，該筒盒包括： (i) 用于保持處理流體的處理流體隔室，該處理流體隔室具有近端、遠端和筒形內(nèi)壁， 其中所述近端還包括柱塞，該柱塞以液密接合的方式將所述近端與該處理流體隔室的近側(cè) 部分密封開來，其中所述遠端包括出口孔； (ii) 用于接納廢流的廢流存儲隔室，該廢流存儲隔室具有近端、遠端和流體入口，其中 該廢流存儲隔室的內(nèi)部容積大于所述處理流體隔室的內(nèi)部容積；和 (iii) 位于所述廢流存儲隔室內(nèi)的真空管道，該真空管道具有與所述廢流存儲隔室的 內(nèi)部連通的入口和位于所述廢流存儲隔室外側(cè)的出口，其中該真空管道的所述入口被定位 成當來自所述處理流體隔室的所有流體都被容納在所述廢流存儲隔室中時，所述廢流存儲 隔室中的流體不會到達該入口； (b) 真空壓力源，該真空壓力源與所述廢流存儲隔室的所述真空管道的所述出口連通； 以及 (c) 施加器頭，該施加器頭具有： (i) 具有遠端的流體出口，該流體出口與所述處理流體隔室的所述出口孔流體連通； (ii) 具有遠端的流體入口，該流體入口與所述廢流存儲隔室的所述流體入口流體連 通；和 (iii) 周向壁，該周向壁具有遠側(cè)邊緣并且圍繞該施加器頭的所述流體出口和所述流 體入口，其中所述邊緣向外延伸超過該施加器頭的所述流體出口和所述流體入口， 其中，當所述周向壁的所述邊緣接觸使用者的皮膚時能圍繞該邊緣形成密封，以允許 來自所述真空壓力源的真空壓力向遠側(cè)拉動所述處理流體隔室的所述柱塞并且通過所述 施加器頭的所述流體出口從所述處理流體隔室抽出處理流體，隨后將施加至使用者的皮膚 的流體通過所述施加器頭的所述流體入口而被抽入所述廢流存儲隔室。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，該裝置還包括位于所述廢流存儲隔室中的吸收材料。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其中，所述吸收材料的量足以吸收來自所述處理流體 隔室的所有流體，并且其中所述真空管道的所述入口被該吸收材料包圍。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述廢流存儲隔室的容積是所述處理流體隔室 的容積的至少兩倍。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述真空管道足夠長，從而當來自所述處理流體 隔室的所有流體都被容納在所述廢流存儲隔室中時，所述廢流存儲隔室中的流體不會到達 該真空管道的所述入口。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，該裝置還包括位于所述處理流體隔室內(nèi)的處理流體。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述處理流體是水溶液。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其中，所述處理流體附加地包括維他命或荷爾蒙。
9. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其中，所述處理流體包括選自以下組的磨蝕材料，該組 包括氧化鋁、碳酸氫鈉、氯化鈉、二氧化硅、氧化鎂、金剛石、聚酯、尼龍。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，該裝置附加地包括： 具有上表面的陽極；和 具有上表面的陰極； 其中，所述陽極的所述上表面和所述陰極的所述上表面向外延伸超過所述施加器頭的 所述流體出口的遠端和所述流體入口的遠端并且與被施加至使用者的皮膚的處理流體電 耦合，由此允許該裝置執(zhí)行微電流處理。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其中，所述陽極的所述上表面和所述陰極的所述上 表面向外延伸超過所述施加器頭的所述流體出口的遠端和所述流體入口的遠端而達至與 所述施加器頭的所述周向壁的邊緣相同的程度。
12. 根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其中，能夠在所述陽極和所述陰極之間施加10微安 至1000微安之間的電流。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其中，能夠在所述陽極和所述陰極之間施加100微安 至600微安之間的電流。
14. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述周向壁的所述邊緣包括磨蝕材料。
【文檔編號】A61N1/20GK104114236SQ201280069865
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2012年12月19日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月19日
【發(fā)明者】J·大衛(wèi) 申請人:J·大衛(wèi)