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一種土豆粉生產(chǎn)線的制造方法與工藝

文檔序號:11413111閱讀:441來源:國知局
本發(fā)明涉及土豆加工技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種土豆粉的制備方法及其裝置。

背景技術(shù):
土豆,屬茄科多年生草本植物,塊莖可供食用,是全球第三大重要的糧食作物,僅次于小麥和玉米。土豆又稱地蛋、馬鈴薯、洋山芋等,茄科植物的塊莖。與小麥、玉米、稻谷、高粱并成為世界五大作物。土豆粉的加工過程通常分為以下幾個步驟:清洗-去皮-切片-熟化-冷卻-制泥-干燥,現(xiàn)有的土豆粉加工過程中,由于其各個工序大都是直接在空氣中進行,這就導(dǎo)致土豆中的多酚氧化酶(PPO)很容易與空氣中的氧接觸,會發(fā)生氧化聚合,導(dǎo)致褐變,土豆發(fā)生褐變后不但會使土豆變黑,同時會破壞土豆的氨基酸、蛋白質(zhì)和抗壞血酸發(fā)生病變,導(dǎo)致土豆的營養(yǎng)價值降低,再者,土豆發(fā)生褐變后,其風(fēng)味較差,褐變產(chǎn)生的產(chǎn)物有抗氧化作用,會產(chǎn)生有害成分,如丙烯酰胺,危害人體健康。

技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種避免土豆在加工過程中發(fā)生褐變的土豆粉生產(chǎn)線。本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為:該土豆粉生產(chǎn)線,包括依次設(shè)置的清洗裝置、去皮裝置、切片裝置、熟化裝置、冷卻裝置、制泥裝置、微波干燥裝置;所述清洗裝置包括輸送帶A、被動滾筒A、驅(qū)動滾筒A、驅(qū)動電機A、一次清洗槽A、二次清洗槽A,所述被動滾筒A、驅(qū)動滾筒A將輸送帶A繃緊,驅(qū)動電機A用于使驅(qū)動滾筒A轉(zhuǎn)動,所述一次清洗槽A、二次清洗槽A依次沿輸送帶A的運行方向設(shè)置,所述輸送帶A為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),所述一次清洗槽A包括第一水槽A,所述第一水槽A位于上層的輸送帶A與下層的輸送帶A之間,第一水槽A內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第一下噴管A,所述第一下噴管A上間隔設(shè)置有多個第一下噴嘴A,所述第一下噴嘴A朝向上層的輸送帶A,所述第一水槽A的上方設(shè)置有多個第一上噴管A,所述第一上噴管A上間隔設(shè)置有多個第一上噴嘴A,所述第一上噴嘴A朝向上層的輸送帶A,第一水槽A的底部連接有與其連通的第一排污管A;所述二次清洗槽A包括第二水槽A,所述第二水槽A位于上層的輸送帶A與下層的輸送帶A之間,第二水槽A內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第二下噴管A,所述第二下噴管A上間隔設(shè)置有多個第二下噴嘴A,所述第二下噴嘴A朝向上層的輸送帶A,所述第二水槽A的上方設(shè)置有多個第二上噴管A,所述第二上噴管A上間隔設(shè)置有多個第二上噴嘴A,所述第二上噴嘴A朝向上層的輸送帶A,第二上噴管A、第二下噴管A均與高壓水管連通,第二水槽A的底部連接有與其連通的第二排污管A,所述第二排污管A末端連接有水池A,所述水池A上設(shè)置有入水口A與出水口A,所述入水口A與第二排污管A末端連通,所述出水口A上連接有引水管A,所述引水管A上設(shè)置有水泵A,引水管A的末端分別與第一上噴管A、第一下噴管A連通;所述去皮裝置包括密閉的外筒體B、驅(qū)動電機B,所述外筒體B內(nèi)設(shè)置有轉(zhuǎn)盤B,所述轉(zhuǎn)盤B的外徑與外筒體B的內(nèi)徑相匹配,所述轉(zhuǎn)盤B的下表面中心位置固定有轉(zhuǎn)軸B,轉(zhuǎn)軸B下端延伸至外筒體B外,驅(qū)動電機B的輸出軸與轉(zhuǎn)軸B的下端相連,所述轉(zhuǎn)盤B的上表面為波浪形,轉(zhuǎn)盤B將外筒體B的內(nèi)部分為去皮空腔B與儲水空腔B,所述去皮空腔B內(nèi)設(shè)置有噴水頭B,所述噴水頭B位于轉(zhuǎn)盤B上方且朝向轉(zhuǎn)盤B,所述噴水頭B上連接有引流管B,引流管B上設(shè)置有截止閥B,所述引流管B與高壓水管相連,所述外筒體B的筒壁上設(shè)置有出料口B,所述出料口B位于轉(zhuǎn)盤B所在水平面之上,所述去皮空腔B內(nèi)設(shè)置有環(huán)形套筒B,所述環(huán)形套筒B的外徑與外筒體B的內(nèi)徑相匹配,環(huán)形套筒B的內(nèi)壁表面為研磨面,環(huán)形套筒B的上端設(shè)置有升降裝置B,當(dāng)環(huán)形套筒B的下端靠進轉(zhuǎn)盤B時,環(huán)形套筒B將出料口B擋住,當(dāng)環(huán)形套筒B向上移動至最高點時,出料口B與去皮空腔B連通,所述轉(zhuǎn)盤B上設(shè)置有多個過水孔B,所述過水孔B將去皮空腔B與儲水空腔B連通,所述外筒體B的底部設(shè)置有排水口B,排水口B上連接有第一排污管B,第一排污管B上設(shè)置有第一導(dǎo)通閥B,第一排污管B的末端連接有密閉的過渡水箱B,所述過渡水箱B的底部連接有與之連通的第二排污管B,所述第二排污管B上設(shè)置有第二導(dǎo)通閥B,所述外筒體B上方設(shè)置有過渡筒體B,所述過渡筒體B的下端與外筒體B的上端密封連接且在過渡筒體B的下端設(shè)置有第一控制閥B,過渡筒體B的上端設(shè)置有第二控制閥B;所述切片裝置包括密閉的殼體C,所述殼體C內(nèi)設(shè)置有水平壓板C、伸縮氣缸C、多個條形刀片C組成的刀陣C、多塊擋料板C,所述伸縮氣缸C固定在殼體C的頂部,伸縮氣缸C的推拉桿C朝下,所述水平壓板C固定在推拉桿C的末端,多個條形刀片C互相平行設(shè)置且位于水平壓板C正下方,多個條形刀片C的刀刃均處于同一水平面且朝向水平壓板C,多塊擋料板C設(shè)置在刀陣C的四周,所述刀陣C的橫截面大小與水平壓板C的橫截面大小相同,所述殼體C上連接有導(dǎo)料管C,所述導(dǎo)料管C的一端與出料口B密封連接,另一端穿過殼體C延伸至擋料板C的上邊緣,所述水平壓板C上固定有擋板C,當(dāng)水平壓板C向下移動至水平壓板C的下表面與條形刀片的刀刃相接觸時,所述擋板C位于導(dǎo)料管C的出料口處且將其堵住,當(dāng)水平壓板C向上移動至最高點時,所述擋板C位于導(dǎo)料管C的出料口上方,所述導(dǎo)料管C上設(shè)置有截止閥C,所述殼體C底部設(shè)置有出料口C,所述出料口C位于刀陣C正下方;所述熟化裝置包括蒸汽發(fā)生器D、內(nèi)筒體D與外筒體D,所述內(nèi)筒體D設(shè)置在外筒體D內(nèi),所述外筒體D與內(nèi)筒體D之間形成一個密閉的夾層空間D,所述內(nèi)筒體的筒壁上設(shè)置有蒸汽通孔D,蒸汽發(fā)生器D與夾層空間D通過蒸汽管D連通,所述內(nèi)筒體D的上端設(shè)置有第一截止閥D,內(nèi)筒體D的下端設(shè)置有第二截止閥D,所述內(nèi)筒體D的上端連接有過渡筒體D,所述過渡筒體D的上端連接有料斗D,所述料斗D的出料口設(shè)置有第三截止閥D,所述料斗D的進料口與出料口C密封連接;所述冷卻裝置包括密閉的真空箱體E,所述真空箱體E上連接有真空泵E,所述真空箱體E的底部設(shè)置有出料口E,所述出料口E上密封連接有第一過渡筒體E,所述第一過渡筒體E的上端設(shè)置有第一截止閥E,所述第一過渡筒體E的下端設(shè)置有第二截止閥E,所述真空箱體E上方設(shè)置有第二過渡筒體E,所述第二過渡筒體E的下端與真空箱體E密封連接且與真空箱體E內(nèi)部連通,所述第二過渡筒體E的下端設(shè)置有第三截止閥E,所述第二過渡筒體E的上端與內(nèi)筒體D的下端密封連接;所述制泥裝置包括密閉的柱狀殼體F,所述柱狀殼體F內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)軸F,旋轉(zhuǎn)軸F的一端延伸至柱狀殼體F外且該端連接有用于驅(qū)動旋轉(zhuǎn)軸F轉(zhuǎn)動的驅(qū)動電機F,所述旋轉(zhuǎn)軸F的軸心線與柱狀殼體F的中心軸線重合,所述旋轉(zhuǎn)軸F上設(shè)置有螺旋式推料板F,所述螺旋式推料板F與旋轉(zhuǎn)軸F的表面、柱狀殼體F的內(nèi)表面共同圍成一個螺旋式通道F,所述柱狀殼體F上開有進料口F與出料口F,所述進料口F與螺旋式通道F的一端連通,所述進料口F與第二過渡筒體E的下端密封連接,出料口F與螺旋式通道F的另一端連通,所述出料口F上連接有出料管F,所述出料管F的末端延伸至柱狀殼體F外,所述出料管F的末端設(shè)置有截止閥F;所述出料口F處設(shè)置有制泥結(jié)構(gòu)F,所述制泥結(jié)構(gòu)F包括固定在旋轉(zhuǎn)軸F末端的錐臺F,所述錐臺F套設(shè)在旋轉(zhuǎn)軸F上,所述錐臺F的小徑端外徑與旋轉(zhuǎn)軸F的外徑大小相同且錐臺F的小徑端朝向螺旋式通道F,所述錐臺F的大徑端外徑小于柱狀殼體F的內(nèi)徑0.5-1mm,所述螺旋式通道F內(nèi)設(shè)置有預(yù)切割裝置F,所述預(yù)切割裝置F包括固定邊框F,所述固定邊框F的固定在螺旋式推料板F上,固定邊框F內(nèi)設(shè)置多個刀片組成的網(wǎng)格狀刀陣F;所述微波干燥裝置包括密閉的箱體G,所述箱體G內(nèi)設(shè)置有微波發(fā)射器G、微波接收器G、加熱筒體G,所述加熱筒體G的上端密封連接有過渡筒體G,所述過渡筒體G的上端延伸至箱體G外且與出料管F的末端密封連接,所述過渡筒體G的下端設(shè)置有第一截止閥G,所述加熱筒體G的下端延伸至箱體G外且在加熱筒體G的下端設(shè)置有第二截止閥G,所述微波發(fā)射器G、微波接收器G分別設(shè)置在加熱筒體G的兩側(cè)。進一步的是,所述水池A內(nèi)設(shè)置有多個濾網(wǎng)A,多個濾網(wǎng)A依次設(shè)置在入水口A與出水口A之間;所述輸送帶A上方設(shè)置有料斗A,料斗A的出料口朝向輸送帶A,料斗A位于一次清洗槽A的外側(cè);所述二次清洗槽A的外側(cè)設(shè)置有接料槽A,過渡筒體B的上端與接料槽A的下端密封連接,所述接料槽A上連接有導(dǎo)料槽A,所述導(dǎo)料槽A的一端與接料槽A相連,另一端延伸至被動滾筒A的外側(cè)且與輸送帶A相接觸。進一步的是,所述水平壓板C的下表面設(shè)置有一層緩沖膠墊C。進一步的是,所述錐臺F的外表面設(shè)置有多個刮板F,所述刮板F與錐臺F的母線之間的夾角為30-60度。進一步的是,所述箱體G的下方設(shè)置有振動篩G,所述振動篩G上連接有振動電機G,所述振動篩G與箱體G通過彈性元件G相連。進一步的是,所述振動篩G下方設(shè)置有第一接料槽G與第二接料槽G,所述第一接料槽G設(shè)置在振動篩G正下方,所述振動篩G傾斜設(shè)置,振動篩G的右端距離地面的高度大于左端距離地面的距離,所述第二接料槽G設(shè)置在振動篩G的左側(cè),所述振動篩G的左端連接有導(dǎo)料板G,所述導(dǎo)料板G的右端延伸至第二接料槽G內(nèi)。進一步的是,所述外筒體B上連接有用于向外筒體B內(nèi)充入氮氣的氮氣管B;所述殼體C上連接有用于向殼體C內(nèi)充入氮氣的氮氣管C;所述外筒體D上連接有用于向外筒體D內(nèi)充入氮氣的氮氣管D;所述殼體F上連接有用于向殼體F內(nèi)充入氮氣的氮氣管F;所述箱體G上連接有用于向箱體G內(nèi)充入氮氣的氮氣管G。本發(fā)明的有益效果是:該土豆粉生產(chǎn)線由依次設(shè)置的清洗裝置、去皮裝置、切片裝置、熟化裝置、冷卻裝置、制泥裝置、微波干燥裝置組成,各個裝置均在密閉的環(huán)境中工作,同時各個裝置之間均密封連接,使得土豆除了清洗工序外,其他工序均在密封的環(huán)境中進行,從保證土豆在整個加工過程中與氧氣接觸的幾率大大降低,可以有效防止在加工過程土豆中的多酚氧化酶(PPO)與空氣中的氧接觸,避免發(fā)生氧化聚合,可以有效防止土豆褐變,從而保證最后生產(chǎn)出的土豆粉品質(zhì)較高。附圖說明為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。圖1是本發(fā)明所述土豆粉生產(chǎn)線的結(jié)構(gòu)示意圖;圖中標(biāo)記說明:清洗裝置1、包括輸送帶A101、被動滾筒A102、驅(qū)動滾筒A103、驅(qū)動電機A104、一次清洗槽A105、第一水槽A1051、第一下噴管A1052、第一下噴嘴A1053、第一上噴管A1054、第一上噴嘴A1055、第一排污管A1056、二次清洗槽A106、第二水槽A1061、第二下噴管A1062、第二下噴嘴A1063、第二上噴管A1064、第二上噴嘴A1065、第二排污管A1066、水池A1067、引水管A1068、水泵A1069、濾網(wǎng)A107、料斗A108、接料槽A109、導(dǎo)料槽A110;去皮裝置2、外筒體B201、去皮空腔B2011、儲水空腔B2012、驅(qū)動電機B202、轉(zhuǎn)盤B203、轉(zhuǎn)軸B204、噴水頭B205、引流管B206、截止閥B207、出料口B208、環(huán)形套筒B209、升降裝置B210、過水孔B211、排水口B212、第一排污管B213、第一導(dǎo)通閥B214、過渡水箱B215、第二排污管B216、第二導(dǎo)通閥B217、過渡筒體B218、第一控制閥B219、第二控制閥B220、氮氣管B221;切片裝置、殼體C301、水平壓板C302、伸縮氣缸C303、條形刀片C304、刀陣C305、擋料板C306、推拉桿C307、導(dǎo)料管C308、擋板C309、截止閥C310、出料口C311、緩沖膠墊C312、氮氣管C313;熟化裝置4、蒸汽發(fā)生器D401、內(nèi)筒體D402、外筒體D403、夾層空間D404、蒸汽通孔D405、第一截止閥D406、第二截止閥D407、過渡筒體D408、料斗D409、第三截止閥D410、氮氣管D411;冷卻裝置5、真空箱體E501、真空泵E502、出料口E503、第一過渡筒體E504、第一截止閥E505、第二截止閥E506、第二過渡筒體E507、第三截止閥E508;制泥裝置、柱狀殼體F601、旋轉(zhuǎn)軸F602、驅(qū)動電機F603、螺旋式推料板F604、螺旋式通道F605、進料口F606、出料口F607、制泥結(jié)構(gòu)F608、錐臺F6081、刮板F6082、預(yù)切割裝置F609、固定邊框F6091、網(wǎng)格狀刀陣F6092、出料管F610、截止閥F611、氮氣管F612;微波干燥裝置7、箱體G701、微波發(fā)射器G702、微波接收器G703、加熱筒體G704、過渡筒體G705、第一截止閥G706、第二截止閥G707、振動篩G708、振動電機G709、彈性元件G710、第一接料槽G711、第二接料槽G712、導(dǎo)料板G713、氮氣管G714。具體實施方式為使本發(fā)明實施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚,下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。如圖1所示,該土豆粉生產(chǎn)線,包括依次設(shè)置的清洗裝置1、去皮裝置2、切片裝置、熟化裝置4、冷卻裝置5、制泥裝置、微波干燥裝置7;所述清洗裝置1包括輸送帶A101、被動滾筒A102、驅(qū)動滾筒A103、驅(qū)動電機A104、一次清洗槽A105、二次清洗槽A106,所述被動滾筒A102、驅(qū)動滾筒A103將輸送帶A101繃緊,驅(qū)動電機A104用于使驅(qū)動滾筒A103轉(zhuǎn)動,所述一次清洗槽A105、二次清洗槽A106依次沿輸送帶A101的運行方向設(shè)置,所述輸送帶A101為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),所述一次清洗槽A105包括第一水槽A1051,所述第一水槽A1051位于上層的輸送帶A101與下層的輸送帶A101之間,第一水槽A1051內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第一下噴管A1052,所述第一下噴管A1052上間隔設(shè)置有多個第一下噴嘴A1053,所述第一下噴嘴A1053朝向上層的輸送帶A101,所述第一水槽A1051的上方設(shè)置有多個第一上噴管A1054,所述第一上噴管A1054上間隔設(shè)置有多個第一上噴嘴A1055,所述第一上噴嘴A1055朝向上層的輸送帶A101,第一水槽A1051的底部連接有與其連通的第一排污管A1056;所述二次清洗槽A106包括第二水槽A1061,所述第二水槽A1061位于上層的輸送帶A101與下層的輸送帶A101之間,第二水槽A1061內(nèi)設(shè)置有多根互相平行設(shè)置的第二下噴管A1062,所述第二下噴管A1062上間隔設(shè)置有多個第二下噴嘴A1063,所述第二下噴嘴A1063朝向上層的輸送帶A101,所述第二水槽A1061的上方設(shè)置有多個第二上噴管A1064,所述第二上噴管A1064上間隔設(shè)置有多個第二上噴嘴A1065,所述第二上噴嘴A1065朝向上層的輸送帶A101,第二上噴管A1064、第二下噴管A1062均與高壓水管連通,第二水槽A1061的底部連接有與其連通的第二排污管A1066,所述第二排污管A1066末端連接有水池A1067,所述水池A1067上設(shè)置有入水口A與出水口A,所述入水口A與第二排污管A1066末端連通,所述出水口A上連接有引水管A1068,所述引水管A1068上設(shè)置有水泵A1069,引水管A1068的末端分別與第一上噴管A1054、第一下噴管A1052連通;所述去皮裝置2包括密閉的外筒體B201、驅(qū)動電機B202,所述外筒體B201內(nèi)設(shè)置有轉(zhuǎn)盤B203,所述轉(zhuǎn)盤B203的外徑與外筒體B201的內(nèi)徑相匹配,所述轉(zhuǎn)盤B203的下表面中心位置固定有轉(zhuǎn)軸B204,轉(zhuǎn)軸B204下端延伸至外筒體B201外,驅(qū)動電機B202的輸出軸與轉(zhuǎn)軸B204的下端相連,所述轉(zhuǎn)盤B203的上表面為波浪形,轉(zhuǎn)盤B203將外筒體B201的內(nèi)部分為去皮空腔B2011與儲水空腔B2012,所述去皮空腔B2011內(nèi)設(shè)置有噴水頭B205,所述噴水頭B205位于轉(zhuǎn)盤B203上方且朝向轉(zhuǎn)盤B203,所述噴水頭B205上連接有引流管B206,引流管B206上設(shè)置有截止閥B207,所述引流管B206與高壓水管相連,所述外筒體B201的筒壁上設(shè)置有出料口B208,所述出料口B208位于轉(zhuǎn)盤B203所在水平面之上,所述去皮空腔B2011內(nèi)設(shè)置有環(huán)形套筒B209,所述環(huán)形套筒B209的外徑與外筒體B201的內(nèi)徑相匹配,環(huán)形套筒B209的內(nèi)壁表面為研磨面,環(huán)形套筒B209的上端設(shè)置有升降裝置B210,當(dāng)環(huán)形套筒B209的下端靠進轉(zhuǎn)盤B203時,環(huán)形套筒B209將出料口B208擋住,當(dāng)環(huán)形套筒B209向上移動至最高點時,出料口B208與去皮空腔B2011連通,所述轉(zhuǎn)盤B203上設(shè)置有多個過水孔B211,所述過水孔B211將去皮空腔B2011與儲水空腔B2012連通,所述外筒體B201的底部設(shè)置有排水口B212,排水口B212上連接有第一排污管B213,第一排污管B213上設(shè)置有第一導(dǎo)通閥B214,第一排污管B213的末端連接有密閉的過渡水箱B215,所述過渡水箱B215的底部連接有與之連通的第二排污管B216,所述第二排污管B216上設(shè)置有第二導(dǎo)通閥B217,所述外筒體B201上方設(shè)置有過渡筒體B218,所述過渡筒體B218的下端與外筒體B201的上端密封連接且在過渡筒體B218的下端設(shè)置有第一控制閥B219,過渡筒體B218的上端設(shè)置有第二控制閥B220;所述切片裝置包括密閉的殼體C301,所述殼體C301內(nèi)設(shè)置有水平壓板C302、伸縮氣缸C303、多個條形刀片C304組成的刀陣C305、多塊擋料板C306,所述伸縮氣缸C303固定在殼體C301的頂部,伸縮氣缸C303的推拉桿C307朝下,所述水平壓板C302固定在推拉桿C307的末端,多個條形刀片C304互相平行設(shè)置且位于水平壓板C302正下方,多個條形刀片C304的刀刃均處于同一水平面且朝向水平壓板C302,多塊擋料板C306設(shè)置在刀陣C305的四周,所述刀陣C305的橫截面大小與水平壓板C302的橫截面大小相同,所述殼體C301上連接有導(dǎo)料管C308,所述導(dǎo)料管C308的一端與出料口B208密封連接,另一端穿過殼體C301延伸至擋料板C306的上邊緣,所述水平壓板C302上固定有擋板C309,當(dāng)水平壓板C302向下移動至水平壓板C302的下表面與條形刀片C304的刀刃相接觸時,所述擋板C309位于導(dǎo)料管C308的出料口處且將其堵住,當(dāng)水平壓板C302向上移動至最高點時,所述擋板C...
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