度或陶瓷(性質(zhì)上是耐火材料)的溫度之間的間隔大得多。冷區(qū)域可能包覆過程中產(chǎn)生開裂、枝晶或剝離型的缺陷。新的金屬屏26的厚度被添加到冷區(qū)域中銅的厚度，從而提高了用于封閉室2的裝置6的熱管理。
[0025]有利地，蓋26由銅制成，優(yōu)選的是有孔以便允許環(huán)氧樹脂的滲透，且具體地由銅網(wǎng)例如黃銅制成，其防止在將帽6安裝在蓋26中的過程中出現(xiàn)夾層結(jié)構(gòu)，該夾層結(jié)構(gòu)可能嚴(yán)重危及承受在存在的高電場中的局部放電。雖然接觸有必要在蓋26和帽6之間來確保熱連續(xù)性，但使用網(wǎng)還有可能限制調(diào)整的問題:蓋26因此優(yōu)選地形成與帽6互補(bǔ)的杯子形狀，其可采用幾個(gè)接觸點(diǎn)被插入到它中，例如通過在插入時(shí)壓縮而獲得。特別地，能夠任選地在蓋26和帽6之間設(shè)置少許的間隔，例如低于0.5毫米。
[0026]優(yōu)選地，蓋26還覆蓋接合區(qū)域8，側(cè)壁30由端部34以這樣的方式延伸，也就是蓋26的長度超過帽6的長度7。端部34的內(nèi)徑可能大于其中容納有蓋6的側(cè)壁30的內(nèi)徑，以考慮由陶瓷管4的厚度所形成的偏移，從而形成緣。此外，由于端緣34安裝在陶瓷壁4和/或?qū)щ娾F焊8的水平，即在其中場應(yīng)力為最高的區(qū)域，所以其的厚度可以大于帽6位于其中的蓋26的部分的厚度。例如，由于一般厚度為0.5毫米的量級，電介質(zhì)蓋26可以在釬焊8之外18毫米量級的長度上包括厚度高達(dá)2毫米的球形端部34。
[0027]由于該事實(shí)，緣34具有的功能不同于蓋26的側(cè)壁30和底壁28的其余部分，其與厚度通常低于4毫米的銅部件6相關(guān)聯(lián)，以增加其的熱慣性:在這里其更具體的是用作擴(kuò)散器的情況。緣34可以因此離殼體2更遠(yuǎn)，在陶瓷4與銅34之間存在空間。根據(jù)示出的實(shí)施例，可以根據(jù)需要將蓋26的緣34與陶瓷4管分開，用于將環(huán)氧樹脂插在蓋34的網(wǎng)與陶瓷4之間；然后可能有利的是，將接頭36安裝在釬焊8的水平，特別是，在真空斷續(xù)器I的三相點(diǎn)的邊界處覆蓋突出點(diǎn)。
[0028]為了避免機(jī)械脆弱的尖端效應(yīng)和區(qū)域，如果內(nèi)井可以包括尖銳的角，則擴(kuò)散器26的外表面是平滑的，具有鈍的圓形角；蓋26有利地是軸對稱的，且其外形形狀被確定為機(jī)械和電介質(zhì)應(yīng)力的函數(shù)。
[0029]由于這種解決方案用于安裝網(wǎng)狀擴(kuò)散蓋26，獲得了以下結(jié)果:
[0030]一在真空斷續(xù)器三相點(diǎn)的電場以與標(biāo)準(zhǔn)擴(kuò)散器(其對應(yīng)于蓋26的緣34)類似的方式被管理；
[0031]一由低厚度銅的帽6和環(huán)氧樹脂22之間的熱分離所引起的枝晶問題得到解決；
[0032]一承受熱循環(huán)且因此在包覆模制極I的時(shí)間上的承受得到改進(jìn)；
[0033]一環(huán)氧樹脂在蓋26/帽6組件的水平的粘附得到優(yōu)化；
[0034]一蓋26和帽6創(chuàng)建法拉第籠，因?yàn)榫?4和側(cè)壁30處于與帽6相同的電介質(zhì)勢，從而進(jìn)一步增加了在環(huán)氧樹脂中存在殘留缺陷的情況下的可靠性，法拉第籠限制蓋26和帽6之間的局部放電。
[0035]因此，另外，在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，可以不對在由蓋26和帽6之間所形成的法拉第籠所保護(hù)的區(qū)域中的真空斷續(xù)器帽的母線噴砂，這使得能夠在安裝內(nèi)部元件之前執(zhí)行對絕緣部分4噴砂。例如，可以使用掩模，但由于此，這種可能性降低了對噴砂的粗糙度限制，特別是在該位點(diǎn)檢查，包括當(dāng)對真空室2的整個(gè)殼體進(jìn)行噴砂時(shí)。
[0036]因此，斷續(xù)器的制造可以包括以下步驟:
[0037]—對裝備有其兩個(gè)帽6p62的真空斷續(xù)器I進(jìn)行噴砂；
[0038]—組裝其中的形狀遵照帽6^6^^形狀的兩個(gè)蓋260262,由室2上的金屬網(wǎng)制成，有利的是具有在擴(kuò)散端部34內(nèi)的由合成材料制成的接頭外殼36，以覆蓋在真空斷續(xù)器I的三相點(diǎn)的邊界處的突出點(diǎn)，并且避免觸發(fā)任何破損；
[0039]一在超聲浴中進(jìn)行清洗來消除污垢的任何痕跡，干燥；
[0040]一將組件預(yù)加熱到的溫度高于模具的溫度達(dá)足夠長的時(shí)間段，該組件具有的溫度接近模具的溫度，以便優(yōu)化包覆成型的質(zhì)量一一例如，對于被加熱到150°C的模具來說，組件被預(yù)加熱到170 °C超過一個(gè)小時(shí)；
[0041]一采用環(huán)氧樹脂22包覆成型真空斷續(xù)器I殼體2，例如通過APG(自動壓力凝膠)，控制樹脂的去除并且改進(jìn)環(huán)氧樹脂的均勻性；
[0042]—對極和金屬24進(jìn)行噴砂。
[0043]因此，有可能制造具有真空斷路器的緊湊型開關(guān)盤，其中的極是屏蔽固體絕緣技術(shù)的結(jié)果。盡管存在電介質(zhì)應(yīng)力(它們?nèi)缓蠓浅８?，給定的在低厚度(對于17.5kV的屏蔽極來說一般低于20毫米)的固體絕緣上施加電壓)，承受局部放電得到確保，并且至少符合相關(guān)要求。
[0044]雖然已經(jīng)參照真空斷續(xù)器(其中兩個(gè)金屬帽S1JjA向延伸以延伸陶瓷的管狀空間)對本發(fā)明進(jìn)行了說明，但并不局限于此:本發(fā)明還可以涉及其它元件。特別是，陶瓷管4可以僅由具有側(cè)壁7的帽6封閉，管4的另一端由適當(dāng)?shù)难b置封閉，在這種情況下，在該端存在的蓋26可能是多余的。當(dāng)然，本發(fā)明還可以應(yīng)用于縱向殼體，其不含有任何可相對彼此移動的觸點(diǎn)并且例如用作保險(xiǎn)絲。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種開關(guān)裝置(I)，包括沿縱向軸線(AA)延伸的氣密室(2)，其中容納有沿著所述軸線(AA)相對彼此移動的兩個(gè)觸點(diǎn)(10)，所述觸點(diǎn)(10)被固定到沿著所述軸線(AA)延伸到所述氣密室⑵之外的電極(14)，其中: 所述室(2)的殼體包括在其端部開放的管狀部件(4)、通過第一接合區(qū)域(8)被固定到所述管狀部件⑷的第一端部的第一導(dǎo)電帽私)、以及用于封閉所述管狀部件⑷的第二端部的裝置； 所述第一帽^1)包括第一接觸電極(14)穿過的、大致垂直于所述縱向軸線(AA)的底部，其通過側(cè)壁(7J在其周邊上延伸直到所述接合區(qū)域⑶； 所述第一帽^1)無間隙地容納在第一導(dǎo)電蓋(26)內(nèi)，所述第一導(dǎo)電蓋包括所述第一帽^1)的底部倚靠著的底壁(28)、以及平行于所述第一帽^1)的側(cè)壁G1)且在相同長度上延伸的周邊側(cè)壁(30)； 所述室(2)被覆蓋有由熱固性樹脂(22)制成的絕緣涂層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的開關(guān)裝置，其中，所述第一蓋(26)包括延伸所述側(cè)壁(30)的端部(34)，并且所述接合區(qū)域(8)和所述管狀部件(4)的一端位于其中。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的開關(guān)裝置，其中，所述端部(34)的厚度大于所述第一蓋(26)的底壁(28)以及側(cè)壁(30)的厚度。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的開關(guān)裝置，包括所述第一蓋(26)的端部(34)與所述接合區(qū)域⑶之間的接頭(36)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一蓋(26)的外表面沒有尖銳的角。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述第一蓋(26)由金屬網(wǎng)特別是銅制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述管狀部件(4)是絕緣陶瓷，所述第一蓋^1)由金屬制成并且釬焊在所述管狀部件(4)的端部上，所述接合區(qū)域(8)限定線于所述管狀部件(4)的壁上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的裝置，其中，所述用于封閉所述管狀部件(4)的第二端部的裝置包括第二帽(62)，其包括第二接觸電極(14)穿過的、大致垂直于所述縱向軸線(AA)的底部，該底部通過側(cè)壁(72)在其周邊上延伸直至所述接合區(qū)域(8)，所述第二帽(62)無間隙地容納在與所述第一蓋相類似的第二導(dǎo)電蓋(26)內(nèi)，并且特別是包括所述第二帽(62)的底部倚靠著的底壁(28)、以及平行于所述第二帽(62)的側(cè)壁(72)且在相同長度上延伸的周邊側(cè)壁(30)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的裝置，還包括圍繞所述絕緣涂層(22)以用作靜電屏蔽的導(dǎo)電包層(24)，所述絕緣涂層(22)優(yōu)選地由環(huán)氧化物樹脂制成。
10.—種真空斷續(xù)器，包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的裝置(I)，其中，所述室(2)處在低于大氣壓的壓力之下，所述觸點(diǎn)的其中之一(11)是固定的且被固定到所述第一帽私)，另一觸點(diǎn)(12)是可動的。
【專利摘要】為了改進(jìn)真空斷續(xù)器(1)的環(huán)氧樹脂包覆成型的質(zhì)量，陶瓷管(4)的帽(61、62)的薄壁，其包括沿著斷續(xù)器(1)的軸線(AA)延伸的側(cè)壁(71、72)和底壁，與圍繞它們的蓋(261、262)相關(guān)聯(lián)。用于封閉所述陶瓷管(4)的金屬裝置的熱慣性因此得到增加。
【IPC分類】H01H33-662
【公開號】CN104835678
【申請?zhí)枴緾N201510024858
【發(fā)明人】M.哈桑扎德, J.加拉威利
【申請人】施耐德電器工業(yè)公司
【公開日】2015年8月12日
【申請日】2015年1月19日
【公告號】EP2905796A1