度依次增加的二氧化硅介質(zhì)層，B介質(zhì)層、D介質(zhì)層、F介質(zhì)層及H介質(zhì)層分別為厚度依次增加的二氧化鈦介質(zhì)層。
[0033]本實施例中，光子晶體制冷層3的總厚度為0.58 μ m，二氧化硅介質(zhì)層的折射率為
1.45，二氧化鈦為銳鈦礦型二氧化鈦，該銳鈦礦型二氧化鈦的折射率為2.65。
[0034]第一復合層中A介質(zhì)層的厚度為51nm，B介質(zhì)層的厚度為28nm ;第二復合層中C介質(zhì)層的厚度為75nm，D介質(zhì)層的厚度為41nm ;第三復合層中E介質(zhì)層的厚度為103nm，F(xiàn)介質(zhì)層的厚度為56nm ;第四復合層中G介質(zhì)層的厚度為146nm，H介質(zhì)層的厚度為80nm ;抗刮耐磨層I的厚度為1.6 μ m ;上基材層2與下基材層4的厚度相等，并且上基材層2的厚度為25 μπι。
[0035]利用黑體輻射的原理:表面溫度越高的物體，其輻射的電磁波的頻率就越高，波長也就越短，太陽的表面溫度比地球上物體的溫度高很多，因此，太陽光輻射的電磁波的波長比地球上建筑物內(nèi)部物體輻射的電磁波的波長要短得多。
[0036]如圖3所示，本實施例制冷貼膜對于波長在0.4um至Ium之間的電磁波的透射率基本上控制在0.1以下，而對波長更長的紅外線的透射率則在0.7以上震蕩。因此，本實施例制冷貼膜結構實現(xiàn)了選擇性截止陽光的輻射能量，并能讓地球上物體自發(fā)輻射的遠紅外線較為容易地透射出去，從而起到給建筑物室內(nèi)降溫的作用。
[0037]在實際使用過程中，本實施例制冷貼膜用于建筑物玻璃時，一方面太陽光中可見光和大部分的近紅外光在通過制冷貼膜的抗刮耐磨層I及上基材層2后，抵達光子晶體制冷層3，一部分可見光被反射，另一部分經(jīng)折射進入光子晶體制冷層3，而進入光子晶體制冷層3的這一部分可見光及大部分的近紅外光，又會在二氧化硅介質(zhì)層與二氧化鈦介質(zhì)層的層層反射作用下，返回至外界環(huán)境中，整個過程中，大約有70%以上可見光及近紅外光在光子晶體制冷層3的作用下，被反射回至外界環(huán)境中；另一方面，由于建筑物內(nèi)部物體輻射的電磁波的波長比太陽光輻射的電磁波的波長要長得多，與本實施例結構中的光子晶體禁帶區(qū)間錯開，使得內(nèi)部物體的熱輻射能夠向外輻射，達到散熱目的。
[0038]實施例2:
[0039]本實施例中，光子晶體制冷層3的總厚度為0.588 μ m，二氧化硅介質(zhì)層的折射率為1.45，二氧化鈦為銳鈦礦型二氧化鈦，該銳鈦礦型二氧化鈦的折射率為2.65。
[0040]第一復合層中A介質(zhì)層的厚度為52nm，B介質(zhì)層的厚度為29nm ;第二復合層中C介質(zhì)層的厚度為76nm，D介質(zhì)層的厚度為42nm ;第三復合層中E介質(zhì)層的厚度為104nm，F(xiàn)介質(zhì)層的厚度為57nm ;第四復合層中G介質(zhì)層的厚度為147nm，H介質(zhì)層的厚度為81nm ;抗刮耐磨層I的厚度為4.2 μ m ;上基材層2與下基材層4的厚度相等，并且上基材層2的厚度為28 μπι。其余同實施例1。
[0041]實施例3:
[0042]本實施例中，光子晶體制冷層3的總厚度為0.584 μ m，二氧化硅介質(zhì)層的折射率為1.45，二氧化鈦為銳鈦礦型二氧化鈦，該銳鈦礦型二氧化鈦的折射率為2.65。
[0043]第一復合層中A介質(zhì)層的厚度為51.5nm，B介質(zhì)層的厚度為28.5nm ;第二復合層中C介質(zhì)層的厚度為75.5nm，D介質(zhì)層的厚度為41.5nm ;第三復合層中E介質(zhì)層的厚度為103.5nm，F(xiàn)介質(zhì)層的厚度為56.5nm ;第四復合層中G介質(zhì)層的厚度為146.5nm，H介質(zhì)層的厚度為80.5nm ;抗刮耐磨層I的厚度為3 μ m ;上基材層2與下基材層4的厚度相等，并且上基材層2的厚度為26 μπι。其余同實施例1。
【主權項】
1.一種基于光子晶體禁帶原理的玻璃窗制冷貼膜，該制冷貼膜自上而下依次包括抗刮耐磨層、上基材層、光子晶體制冷層及下基材層，所述的抗刮耐磨層為聚氨酯抗刮耐磨層，所述的上基材層與下基材層均為聚對苯二甲酸乙二醇酯基材層，其特征在于，所述的光子晶體制冷層由第一復合層、第二復合層、第三復合層及第四復合層自上而下依次堆疊而成，所述的第一復合層由I層A介質(zhì)層與I層B介質(zhì)層相互疊加組合成AB型復合結構，所述的第二復合層由I層C介質(zhì)層與I層D介質(zhì)層相互疊加組合成CD型復合結構，所述的第三復合層由I層E介質(zhì)層與I層F介質(zhì)層相互疊加組合成EF型復合結構，所述的第四復合層由I層G介質(zhì)層與I層H介質(zhì)層相互疊加組合成GH型復合結構，所述的A介質(zhì)層、C介質(zhì)層、E介質(zhì)層及G介質(zhì)層分別為厚度依次增加的二氧化硅介質(zhì)層，所述的B介質(zhì)層、D介質(zhì)層、F介質(zhì)層及H介質(zhì)層分別為厚度依次增加的二氧化鈦介質(zhì)層。2.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體禁帶原理的玻璃窗制冷貼膜，其特征在于，所述的光子晶體制冷層的總厚度為0.58-0.588 μ m。3.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的二氧化硅介質(zhì)層的折射率為1.45。4.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的二氧化鈦為銳鈦礦型二氧化鈦，該銳鈦礦型二氧化鈦的折射率為2.65。5.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的第一復合層中A介質(zhì)層的厚度為51-52nm，B介質(zhì)層的厚度為28_29nm。6.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的第二復合層中C介質(zhì)層的厚度為75-76nm，D介質(zhì)層的厚度為41_42nm。7.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的第三復合層中E介質(zhì)層的厚度為103-104nm，F(xiàn)介質(zhì)層的厚度為56_57nm。8.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的第四復合層中G介質(zhì)層的厚度為146-147nm，H介質(zhì)層的厚度為80_87nm。9.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的抗刮耐磨層的厚度為1.6-4.2 μπι。10.根據(jù)權利要求1所述的一種基于光子晶體的建筑物用環(huán)保制冷貼膜，其特征在于，所述的上基材層與下基材層的厚度相等，并且所述的上基材層的厚度為25-28 μ m。
【專利摘要】本實用新型涉及一種基于光子晶體禁帶原理的玻璃窗制冷貼膜，該制冷貼膜自上而下依次包括抗刮耐磨層、上基材層、光子晶體制冷層及下基材層，光子晶體制冷層的結構式為(AB)(CD)(EF)(GH)，由第一復合層、第二復合層、第三復合層及第四復合層自上而下依次堆疊而成，并且第一復合層、第二復合層、第三復合層及第四復合層均分別由1層二氧化硅介質(zhì)層與1層二氧化鈦介質(zhì)層相互疊加組合而成。與現(xiàn)有技術相比，本實用新型質(zhì)輕而薄，能反射掉太陽光中大部分可見光及近紅外光，同時對建筑物內(nèi)部向外的熱輻射幾乎沒有影響，實現(xiàn)了外界能量的部分阻隔，又幾乎不影響內(nèi)部熱輻射能量的釋放，制冷效果較好，有利于降低能耗，綠色環(huán)保。
【IPC分類】B32B9/04, B32B27/36, B32B27/08, B32B27/34
【公開號】CN204749422
【申請?zhí)枴緾N201520079582
【發(fā)明人】李志遠, 談論, 閆治國
【申請人】同濟大學
【公開日】2015年11月11日
【申請日】2015年2月4日