雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及一種雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，光伏組件用油加熱、油電混合加熱層壓機(jī)升溫、傳熱速度普遍較慢，而目前傳統(tǒng)的電加熱層壓機(jī)，雖然升溫速度快，但機(jī)臺(tái)內(nèi)腔四周及組件四角散熱程度大于中心區(qū)域，整體溫度差異較大。組件進(jìn)入腔體后，存在回溫時(shí)間長、不同位置交聯(lián)率差異大等問題，為了解決這些問題，需要選擇不同的熱源，細(xì)分上下腔室的每個(gè)加熱區(qū)域來代替?zhèn)鹘y(tǒng)的加熱方式。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，它能夠保證組件封裝過程中組件上下表面溫度以及交聯(lián)率的均勻性，同時(shí)提升組件層壓產(chǎn)能。
[0004]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明的技術(shù)方案是:一種雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，它包括:
[0005]上層加熱構(gòu)件，所述上層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)上層模塊單元，所述上層模塊單元具有多個(gè)紅外光輻射熱源；
[0006]下層加熱構(gòu)件，所述下層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)下層模塊單元，所述下層模塊單元具有多個(gè)點(diǎn)陣式電加熱模塊，所述下層加熱構(gòu)件和上層加熱構(gòu)件之間形成組件壓腔。
[0007]進(jìn)一步為了在層壓時(shí)更好地使組件上表面溫度均勻，所述上層模塊單元設(shè)置有多個(gè)，并且多個(gè)上層模塊單元呈陣列狀排列結(jié)構(gòu)。
[0008]進(jìn)一步為了在層壓時(shí)更好地使組件下表面溫度均勻，所述下層模塊單元設(shè)置有多個(gè)，并且多個(gè)下層模塊單元呈陣列狀排列結(jié)構(gòu)。
[0009]進(jìn)一步提供了一種具體的上層加熱構(gòu)件的結(jié)構(gòu)，所述上層加熱構(gòu)件還包括上蓋、熱源防護(hù)網(wǎng)和傳熱膠板，所述上蓋、上層模塊單元、熱源防護(hù)網(wǎng)和傳熱膠板由上而下依次設(shè)置。
[0010]進(jìn)一步為了能夠?qū)ι蠈幽K單元的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)，每個(gè)上層模塊單元對應(yīng)配有一上層溫控調(diào)節(jié)裝置。
[0011]進(jìn)一步為了能夠?qū)ο聦幽K單元的溫度進(jìn)行調(diào)節(jié)，每個(gè)下層模塊單元對應(yīng)配有一下層溫控調(diào)節(jié)裝置。
[0012]采用了上述技術(shù)方案后，層壓機(jī)的上層采用紅外光輻射熱源進(jìn)行輻射傳熱，層壓機(jī)的下腔室采用點(diǎn)陣式電加熱模塊進(jìn)行穿到加熱，當(dāng)組件進(jìn)入腔體后，EVA能均勻快速交聯(lián)，減少了因玻璃翹曲及背板面受熱傳導(dǎo)慢而導(dǎo)致的熱傳導(dǎo)速率不均勻帶來的交聯(lián)率差異的問題，從而提升了層壓產(chǎn)能20?30%，減少了人力，降低了 EVA膠聯(lián)的不均勻性，增加了組件長期可靠性以及客戶滿意度，而且層壓機(jī)內(nèi)放置的組件四周、四個(gè)角均能快速加熱，本層壓機(jī)無污染，無噪音，免維護(hù)，使用壽命在20年以上。
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明的上層加熱構(gòu)件的爆炸圖；
[0014]圖2為本發(fā)明的下層模塊單元的連接原理圖；
[0015]圖3為本發(fā)明的上層加熱構(gòu)件的布置結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖4為本發(fā)明的下層加熱構(gòu)件的布置結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]為了使本發(fā)明的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)的說明。
[0018]如圖1?4所不，一種雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，它包括:
[0019]上層加熱構(gòu)件，所述上層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)上層模塊單元1，所述上層模塊單元1具有多個(gè)紅外光輻射熱源;紅外光輻射熱源可以獨(dú)立或者聯(lián)動(dòng)模式工作；
[0020]下層加熱構(gòu)件，所述下層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)下層模塊單元，所述下層模塊單元具有多個(gè)點(diǎn)陣式電加熱模塊2，所述下層加熱構(gòu)件和上層加熱構(gòu)件之間形成組件壓腔。
[0021]紅外光輻射加熱可以保證層壓件的上表面的溫度均勻，熱源通過膠板傳遞到組件的上表面，使得組件的上表面溫度更均勻，同時(shí)彌補(bǔ)EVA熔融所需的熱量；
[0022]如圖3所示，所述上層模塊單元1設(shè)置有多個(gè)，并且多個(gè)上層模塊單元1呈陣列狀排列結(jié)構(gòu)。
[0023]如圖4所示，所述下層模塊單元設(shè)置有多個(gè)，并且多個(gè)下層模塊單元呈陣列狀排列結(jié)構(gòu)。
[0024]如圖1所示，所述上層加熱構(gòu)件還包括上蓋2、熱源防護(hù)網(wǎng)3和傳熱膠板4，所述上蓋
2、上層模塊單元1、熱源防護(hù)網(wǎng)3和傳熱膠板4由上而下依次設(shè)置。
[0025]每個(gè)上層模塊單元1對應(yīng)配有一上層溫控調(diào)節(jié)裝置。
[0026]每個(gè)下層模塊單元對應(yīng)配有一下層溫控調(diào)節(jié)裝置，下層溫控調(diào)節(jié)裝置可以補(bǔ)償各下層模塊單元之間的溫差，有效保證腔體的溫度均衡性。
[0027]本發(fā)明的工作原理如下:
[0028]層壓機(jī)的上層采用紅外光輻射熱源進(jìn)行輻射傳熱，層壓機(jī)的下腔室采用點(diǎn)陣式電加熱模塊2進(jìn)行穿到加熱，當(dāng)組件進(jìn)入腔體后，EVA能均勻快速交聯(lián)，減少了因玻璃翹曲及背板面受熱傳導(dǎo)慢而導(dǎo)致的熱傳導(dǎo)速率不均勻帶來的交聯(lián)率差異的問題，從而提升了層壓產(chǎn)能20?30%，減少了人力，降低了 EVA膠聯(lián)的不均勻性，增加了組件長期可靠性以及客戶滿意度，而且層壓機(jī)內(nèi)放置的組件四周、四個(gè)角均能快速加熱，本層壓機(jī)無污染，無噪音，免維護(hù)，使用壽命在20年以上。
[0029]以上所述的具體實(shí)施例，對本發(fā)明解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本發(fā)明，凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，其特征在于，它包括: 上層加熱構(gòu)件，所述上層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)上層模塊單元(1)，所述上層模塊單元(1)具有多個(gè)紅外光輻射熱源； 下層加熱構(gòu)件，所述下層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)下層模塊單元，所述下層模塊單元具有多個(gè)點(diǎn)陣式電加熱模塊(2)，所述下層加熱構(gòu)件和上層加熱構(gòu)件之間形成組件壓腔。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，其特征在于:所述上層模塊單元(1)設(shè)置有多個(gè)，并且多個(gè)上層模塊單元(1)呈陣列狀排列結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，其特征在于:所述下層模塊單元設(shè)置有多個(gè)，并且多個(gè)下層模塊單元呈陣列狀排列結(jié)構(gòu)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，其特征在于:所述上層加熱構(gòu)件還包括上蓋(2)、熱源防護(hù)網(wǎng)(3)和傳熱膠板(4)，所述上蓋(2)、上層模塊單元(1)、熱源防護(hù)網(wǎng)(3)和傳熱膠板(4)由上而下依次設(shè)置。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，其特征在于:每個(gè)上層模塊單元(1)對應(yīng)配有一上層溫控調(diào)節(jié)裝置。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，其特征在于:每個(gè)下層模塊單元對應(yīng)配有一下層溫控調(diào)節(jié)裝置。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種雙層點(diǎn)陣式加熱層壓機(jī)，它包括：上層加熱構(gòu)件，所述上層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)上層模塊單元，所述上層模塊單元具有多個(gè)紅外光輻射熱源；下層加熱構(gòu)件，所述下層加熱構(gòu)件具有至少一個(gè)下層模塊單元，所述下層模塊單元具有多個(gè)點(diǎn)陣式電加熱模塊，所述下層加熱構(gòu)件和上層加熱構(gòu)件之間形成組件壓腔。本發(fā)明能夠保證組件封裝過程中組件上下表面溫度以及交聯(lián)率的均勻性，同時(shí)提升組件層壓產(chǎn)能。
【IPC分類】B32B37/06, B32B37/10
【公開號(hào)】CN105479908
【申請?zhí)枴緾N201610016768
【發(fā)明人】徐連榮, 傅家勤, 華敏洪, 王樂, 朱寶平, 許貴軍
【申請人】常州天合光能有限公司
【公開日】2016年4月13日
【申請日】2016年1月11日