專利名稱:輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置的制作方法
輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本實(shí)用新型涉及一種內(nèi)箱換位裝置，尤其是一種輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位直O(jiān)背景技術(shù)[0002]現(xiàn)代化大型輻照裝置多采用標(biāo)準(zhǔn)輻照箱或吊具裝載輻照產(chǎn)品。產(chǎn)品直接裝載到 輻照箱或吊具內(nèi)進(jìn)行輻照，為增加輻照裝置的裝載能力和提高射線利用率，一般將輻照 箱或吊具的容積設(shè)計(jì)很大。而在輻照過程中，產(chǎn)品在標(biāo)準(zhǔn)輻照箱或吊具內(nèi)的相對位置是 固定的，在射線與被照射產(chǎn)品作用時(shí)，能量逐步消耗，產(chǎn)品表面的劑量最大，而產(chǎn)品中 心位置的劑量最小，這樣就使輻照劑量分布不均勻。而為達(dá)到一定的輻照劑量又要考慮 到劑量分布的不均勻性，目前多采取增加輻照時(shí)間的方法使產(chǎn)品的最低吸收劑量達(dá)到要 求。[0003]然而增加輻照時(shí)間會使得最高劑量位置的吸收劑量超過標(biāo)準(zhǔn)很多，更增加了不 均勻度，影響產(chǎn)品的輻照質(zhì)量，使得目前的輻照裝置不能輻照對吸收劑量不均勻度有較 高要求的產(chǎn)品；同時(shí)造成劑量浪費(fèi)，影響了輻照裝置的效率，延長了產(chǎn)品的輻照時(shí)間， 大大增加輻照成本。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0004]本實(shí)用新型的目的是為解決輻照裝置輻照高密度產(chǎn)品時(shí)不均勻度過高并且造成 劑量浪費(fèi)，以及不能對吸收劑量不均勻度要求較高的產(chǎn)品進(jìn)行輻照問題，提供了一種輻 照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置。[0005]實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置包括標(biāo)照箱、內(nèi)箱、 箱內(nèi)支架、箱外支架、輸送裝置和軌道行移裝置，所述輻照箱位于所述輸送裝置上，所 述內(nèi)箱為兩個(gè)以上，依次排列位于所述輻照箱底面的所述箱內(nèi)支架上，所述箱外支架位 于所述軌道行移裝置上，可在所述輻照箱底面上沿所述內(nèi)箱排列方向移動，所述內(nèi)箱可 在所述箱內(nèi)支架和箱外支架上垂直于所述內(nèi)箱排列方向滑動。[0006]所述箱內(nèi)支架和箱外支架上都按照所述內(nèi)箱的數(shù)量，在每個(gè)所述內(nèi)箱兩底邊的 對應(yīng)位置設(shè)有兩條輥道，所述內(nèi)箱的兩底邊設(shè)有與所述輥道相配合的導(dǎo)向槽。[0007]所述軌道行移裝置包括支架、輥輪和軌道，所述支架下方設(shè)有所述輥輪，所述 軌道在所述輥輪下方，水平鋪設(shè)。[0008]所述軌道兩端設(shè)有防止所述支架滑出所述軌道的行移定位裝置。[0009]本實(shí)用新型即可實(shí)現(xiàn)在產(chǎn)品輻照過程中使受照產(chǎn)品在輻照箱或吊具內(nèi)的相對位 置發(fā)生改變，將最低劑量點(diǎn)和最高劑量點(diǎn)的位置互換，從而達(dá)到降低受照產(chǎn)品吸收劑量 的不均勻度、縮短輻照時(shí)間、提高射線利用率、降低輻照運(yùn)行成本，擴(kuò)大輻照加工技術(shù) 服務(wù)的適用范圍之目的。


[0010]圖1為本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置示意圖；[0011]圖2為本實(shí)用新型輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置的內(nèi)箱示意圖；[0012]圖3為本實(shí)用新型輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置的箱內(nèi)支架和箱外支架示 意圖；[0013]圖4為本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置的作業(yè)方法示意圖。
具體實(shí)施方式
[0014]本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置[0015]實(shí)施例一[0016]圖1所示為本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置，包括輻照箱1、內(nèi) 箱A、內(nèi)箱B、箱內(nèi)支架2、箱外支架3、輸送裝置4及軌道行移裝置5，所述輻照箱1位 于所述輸送裝置4上，所述內(nèi)箱A和內(nèi)箱B依次排列位于所述輻照箱1底面的所述箱內(nèi) 支架2上，所述箱外支架3位于所述軌道行移裝置5上，并可在所述輻照箱1底面上沿所 述內(nèi)箱A，B排列方向移動，所述內(nèi)箱A，B可在所述箱內(nèi)支架2和箱外支架3上垂直所 述內(nèi)箱A，B排列方向滑動。[0017]如圖2、3所示，所述箱內(nèi)支架2和箱外支架3上都在所述內(nèi)箱A和內(nèi)箱B兩底 邊的對應(yīng)位置設(shè)有兩條輥道14、15，所述內(nèi)箱A和內(nèi)箱B包括箱體6和兩底邊上與所述 輥道14、15相配合的導(dǎo)向槽7。所述輥道14、15包括底座8和多個(gè)輥輪9。[0018]所述軌道行移裝置5包括支架11、輥輪12和軌道13，所述支架11下方設(shè)有所 述輥輪12，所述軌道13在所述輥輪12下方，水平鋪設(shè)。所述軌道13兩端設(shè)有行移定位 裝置10，以免支架滑出軌道。[0019]實(shí)施例二[0020]本實(shí)施例與上述輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置不同之處在于內(nèi)箱數(shù)量為三 個(gè)，相應(yīng)的內(nèi)箱支架和外箱支架上輥道的數(shù)量也有三組。[0021]本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置的作業(yè)方法[0022]如圖4所示，操作過程如下[0023](1)將兩個(gè)內(nèi)箱依次排列放置在輻照箱內(nèi)進(jìn)行輻照；[0024](2)當(dāng)輻照箱1運(yùn)行至換位位置時(shí)，箱內(nèi)支架2與箱外支架3對齊(見換位操作 示意圖1)；[0025](3)將箱體A、箱體B由輻照箱1內(nèi)拉出至箱外支架3上(見換位操作示意圖 2)；[0026](4)移動軌道行移裝置5，使箱外支架3的右側(cè)輥道與箱內(nèi)支架2的左側(cè)輥道對 齊(見換位操作示意圖3)，[0027]將箱體B沿輥道推入輻照箱1 (見換位操作示意圖4)，[0028]再次移動軌道行移裝置5，使箱外支架3的左側(cè)輥道與箱內(nèi)支架2的右側(cè)輥道對 齊(見換位操作示意圖5)，[0029]將箱體A沿輥道推入輻照箱1 (見換位操作示意圖6)，將箱外支架3恢復(fù)到初始 位置；[0030](5)將重新排列內(nèi)箱的輻照箱1輸送至輻照區(qū)進(jìn)行輻照。[0031](6)本次換位操作完成，等待下一輻照箱進(jìn)行連續(xù)換位操作。[0032]通過上述操作輻照箱1內(nèi)的箱體A、箱體B完成了位置的交換，原來靠近輻照箱 中心的一側(cè)換到了外側(cè)。[0033]通過以密度為4g/cm3、要求最低輻照吸收劑量為7KGy的產(chǎn)品為例進(jìn)行實(shí)驗(yàn)[0034]在使用普通裝載模式進(jìn)行輻照的情形下，單箱裝載質(zhì)量為250Kg，輻照工位 時(shí)間為30分，測量最低、最高點(diǎn)輻照吸收劑量分別為7KGy和18KGy，不均勻度約為 2.57。[0035]在使用本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置的情形如下，相同工況 下裝載質(zhì)量為250Kg，輻照工位時(shí)間為20分，測量最低、最高點(diǎn)輻照吸收劑量分別為 7KGy禾PllKGy，不均勻度約為1.57。[0036]從上述數(shù)據(jù)就可看到在使用本實(shí)用新型的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置， 產(chǎn)品的裝載質(zhì)量雖然相同，但達(dá)到相同最低輻照吸收劑量的工位時(shí)間減少了 1/3，同時(shí)不 均勻度降低了 1，工位時(shí)間和不均勻度均有大幅改善。以此計(jì)算在大規(guī)模輻照加工生產(chǎn)過 程中，本裝置可將輻照裝置利用效率和射線利用率都能提高30%以上。[0037]并且本實(shí)用新型的裝置結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，維護(hù)保養(yǎng)簡便易行。本裝置完成 一次換位操作僅需1.5分鐘左右的時(shí)間，能滿足連續(xù)作業(yè)的要求，適合大型輻照裝置使 用。
權(quán)利要求
1.一種輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置，包括輸送裝置、位于所述輸送裝置上輻 照箱，其特征在于還包括內(nèi)箱、箱內(nèi)支架、箱外支架和軌道行移裝置，所述內(nèi)箱為兩 個(gè)以上，依次排列位于所述輻照箱底面的所述箱內(nèi)支架上，所述箱外支架位于所述軌道 行移裝置上，可在所述輻照箱底面上沿所述內(nèi)箱排列方向移動，所述內(nèi)箱可在所述箱內(nèi) 支架和箱外支架上垂直于所述內(nèi)箱排列方向滑動。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置，其特征在于所述箱 內(nèi)支架和箱外支架上都按照所述內(nèi)箱的數(shù)量，在每個(gè)所述內(nèi)箱兩底邊的對應(yīng)位置設(shè)有兩 條輥道，所述內(nèi)箱的兩底邊設(shè)有與所述輥道相配合的導(dǎo)向槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1或2任一所述的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置，其特征在于 所述軌道行移裝置包括支架、輥輪和軌道，所述支架下方設(shè)有所述輥輪，所述軌道在所 述輥輪下方，水平鋪設(shè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置，其特征在于所述軌 道兩端設(shè)有防止所述支架滑出所述軌道的行移定位裝置。
專利摘要
本實(shí)用新型的目的是為解決輻照裝置輻照高密度產(chǎn)品時(shí)不均勻度過高并且造成劑量浪費(fèi)，以及不能對吸收劑量不均勻度要求較高的產(chǎn)品進(jìn)行輻照的問題，提供了一種輻照裝置的輻照容器內(nèi)箱換位裝置，包括輸送裝置、位于所述輸送裝置上輻照箱，其特征在于還包括內(nèi)箱、箱內(nèi)支架、箱外支架和軌道行移裝置，所述內(nèi)箱為兩個(gè)以上，依次排列位于所述輻照箱底面的所述箱內(nèi)支架上，所述箱外支架位于所述軌道行移裝置上，可在所述輻照箱底面上沿所述內(nèi)箱排列方向移動，所述內(nèi)箱可在所述箱內(nèi)支架和箱外支架上垂直于所述內(nèi)箱排列方向滑動。
文檔編號G21K5/10GKCN201812502SQ201020519040
公開日2011年4月27日 申請日期2010年9月6日
發(fā)明者宗慧奇, 旭松 申請人:北京鴻儀四方輻射技術(shù)有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan