專利名稱:調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱的制作方法
調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱技術(shù)領(lǐng)域：
[0001]本實用新型涉及一種輻照箱，尤其是一種調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱。
技術(shù)背景[0002]目前輻照作業(yè)中，為了提高射線的利用率，通常在輻照裝置的設(shè)備中，都將輻 照箱的尺寸設(shè)計得很大。這樣做雖然提高了射線利用率，但與此同時帶來了吸收劑量不 均勻度增大的問題，尤其在輻照高密度產(chǎn)品時，伽馬射線穿透物質(zhì)的深度，主要取決于 物質(zhì)的堆積密度，所以在輻照高堆積密度的產(chǎn)品中，射線的穿透距離受到了限制，吸收 劑量不均勻度就會增大。另外，由于高密度產(chǎn)品受到設(shè)備的最大承重范圍的限制，產(chǎn)品 不能裝滿整個輻照箱，使輻照箱內(nèi)部出現(xiàn)空置的無貨空間，部分射線沒有接觸到產(chǎn)品， 而是直接穿過了輻照箱，造成了射線的浪費，同時也會對輻照場內(nèi)其他的產(chǎn)品產(chǎn)生影 響。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型的目的是提供了一種能夠降低輻照產(chǎn)品不均勻度和提高射線利用率 的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱。[0004]本實用新型的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱包括箱體、位于箱體內(nèi)部的密度調(diào)節(jié)套體， 所述密度調(diào)節(jié)套體位于所述箱體內(nèi)部至少一個內(nèi)表面上。[0005]所述密度調(diào)節(jié)套體位于所述箱體的箱底。[0006]所述密度調(diào)節(jié)套體位于輻照射線入射方向上所述箱體的兩側(cè)壁。[0007]所述密度調(diào)節(jié)套體位于箱體的箱底和輻照射線入射方向上箱體的兩側(cè)壁。[0008]所述密度調(diào)節(jié)套體占滿整個所述箱體的內(nèi)表面。[0009]位于所述輻照箱箱底的密度調(diào)節(jié)套體的高度為IOcm 20cm。[0010]位于所述輻照箱兩個側(cè)壁的密度調(diào)節(jié)套體的厚度為5cm 10cm。


[0011]圖1為輻照箱輻照時射線吸收分布圖；[0012]圖2為本實用新型調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱的實施例1示意圖；[0013]圖3為本實用新型調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱的實施例2示意圖；[0014]圖4為本實用新型調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱的實施例3示意圖。
具體實施方式
[0015]實施例一[0016]如圖2所示，本實用新型的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱包括箱體1、位于箱體1內(nèi)部的 密度調(diào)節(jié)套體2，所述密度調(diào)節(jié)套體2位于所述箱體1的箱底，并占滿整個箱體1的箱 底。密度調(diào)節(jié)套體1的高度在IOcm 20cm之間，材料為擠塑聚苯乙烯泡沫塑料。[0017]如圖1所示，通過監(jiān)測和計算，輻照箱底層是低劑量率區(qū)，這主要是由于排源 方式和箱底的大量鋼鐵結(jié)構(gòu)對劑量的吸收產(chǎn)生了影響。而輻照箱的箱底是輻照產(chǎn)品堆積 密度最大的地方，在輻照箱箱底加密度調(diào)節(jié)套體，將輻照產(chǎn)品墊避開了輻照箱的低劑量 吸收區(qū)，從而降低了整個輻照箱內(nèi)吸收劑量的不均勻度。[0018]實施例二[0019]如圖3所示，本實用新型的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱包括箱體1、位于箱體1內(nèi)部的 密度調(diào)節(jié)套體3，所述密度調(diào)節(jié)套體3位于輻照射線入射方向上箱體1的兩側(cè)壁，并占滿 整個箱體1的兩側(cè)壁。密度調(diào)節(jié)套體3的厚度在5cm IOcm之間，材料為擠塑聚苯乙 烯泡沫塑料。[0020]在輻照箱的側(cè)壁加密度調(diào)節(jié)套體，減小了輻照箱在射線入射方向上的厚度，從 而降低了對射線的阻擋作用，使得射線的穿透效果更好。兩側(cè)密度調(diào)節(jié)套體的材料采用 聚苯乙烯泡沫塑料不會對射線有阻擋作用。[0021]實施例三[0022]如圖4所示，本實用新型的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱包括箱體1、位于箱體1內(nèi)部的 密度調(diào)節(jié)套體4，所述密度調(diào)節(jié)套體4位于所述箱體1的箱底和輻照射線入射方向上箱體 1的兩側(cè)壁，并占滿整個箱體1的箱底和兩側(cè)壁。密度調(diào)節(jié)套體4的材料為擠塑聚苯乙烯 泡沫塑料。[0023]密度調(diào)節(jié)套體4的具體尺寸可根據(jù)現(xiàn)有的加工狀況和加工要求而定。本技術(shù)特 征也同樣適用上述兩個實施例。[0024]本實施例同時具備了上述兩個實施例的優(yōu)點，使得箱內(nèi)劑量不均勻度顯著降 低。[0025]下面針對上述三個實施例和常規(guī)輻照箱進行輻照實驗，采用長104cm、寬 61cm、高150cm的輻照箱和箱體，位于箱底的密度調(diào)節(jié)套體高15cm，位于兩側(cè)壁的密度 調(diào)節(jié)套體厚7cm。Dmax表示產(chǎn)品最大的吸收劑量，Dmte表示產(chǎn)品最低吸收劑量，單位 為kGy。U表示吸收劑量的不均勻度，即為最大吸收劑量與最低吸收劑量的比值。結(jié)果 如表1所示。[0026]表 1
權(quán)利要求
1.一種調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，包括箱體，其特征在于還包括位于所述箱體內(nèi)至少 一個內(nèi)表面上的密度調(diào)節(jié)套體。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，其特征在于所述密度調(diào)節(jié)套體位 于所述箱體的箱底。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，其特征在于所述密度調(diào)節(jié)套體位 于輻照射線入射方向上所述箱體的兩側(cè)壁。
4.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，其特征在于所述密度調(diào)節(jié)套體位 于箱體的箱底和輻照射線入射方向上箱體的兩側(cè)壁。
5.根據(jù)權(quán)利要求
1 4任一所述的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，其特征在于所述密度調(diào)節(jié) 套體占滿整個所述箱體的內(nèi)表面。
6.根據(jù)權(quán)利要求
2或4任一所述的調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，其特征在于位于所述輻照 箱箱底的密度調(diào)節(jié)套體的高度為IOcm 20cm。
7.根據(jù)權(quán)利要求
3或4任一所述的調(diào)節(jié)裝載輻照箱，其特征在于位于所述輻照箱兩 個側(cè)壁的密度調(diào)節(jié)套體的厚度為5cm 10cm。
專利摘要
本實用新型提供了一種調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱，包括箱體、位于箱體內(nèi)部的密度調(diào)節(jié)套體，所述密度調(diào)節(jié)套體位于所述箱體內(nèi)部至少一個內(nèi)表面上。該調(diào)節(jié)裝載密度輻照箱能夠降低輻照產(chǎn)品不均勻度，并提高射線利用率。
文檔編號G21K5/00GKCN201812503SQ201020519057
公開日2011年4月27日 申請日期2010年9月6日
發(fā)明者馮濤, 李建軍, 燕瑾 申請人:北京鴻儀四方輻射技術(shù)有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan