本發(fā)明涉及薄膜技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜以及制備方法。
背景技術(shù)：
低霧度bopp薄膜是特種bopp薄膜的一種，薄膜超透明，可用來制袋，紙塑復(fù)合、印刷及做粘膠帶基材，其特點(diǎn)是薄膜的霧度很小(霧度小于0.3％)。超透明薄膜制成的包裝袋，透明度非常高，表面光滑，富有光澤，使其內(nèi)部包裝的高檔產(chǎn)品與外界幾乎沒有任何的阻隔感。經(jīng)過印刷后的超透膜產(chǎn)品印刷部分和非印刷部分之間色彩對(duì)比強(qiáng)烈，具有極強(qiáng)的層次感。超透明粘膠帶所具有的高透明性使其廣泛用于裝飾裝潢，高檔產(chǎn)品包裝封條和標(biāo)簽上。
普通的bopp薄膜霧度一般在1.5％左右，霧度主要受到樹脂的特性，添加劑的含量，以及薄膜加工過程中結(jié)晶的大小影響。目前市場(chǎng)上的低霧度薄膜主要是在薄膜中添加透明成核劑來降低薄膜霧度，但是透明成核劑價(jià)格非常昂貴，而且加入透明成核劑在擠出機(jī)長(zhǎng)時(shí)間加溫后易產(chǎn)生碳化現(xiàn)象，影響產(chǎn)品的穩(wěn)定性；且現(xiàn)有的低霧度薄膜防偽標(biāo)志設(shè)置不合理，容易仿冒，防偽性差。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種結(jié)構(gòu)設(shè)置合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、低霧度、使用壽命長(zhǎng)且防偽性好的低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜以及制備方法。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了如下技術(shù)方案：一種低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜，包括基膜層，所述基膜層的上表面上固定設(shè)置有消光層，所述消光層的上表面上固定設(shè)置有防刺穿層，所述防刺穿層的上表面上固定設(shè)置有第一防霧層，所述基膜層的下表面上固定設(shè)置有第二防霧層，所述消光層由消光劑噴涂而成，消光劑為聚丙烯、滑石粉、偶聯(lián)劑以及聚乙烯組成，所述第一防霧層和第二防霧層的厚度均為0.01mm—0.12mm；
所述的低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜的制備方法，該方法包括以下工藝步驟：
(1)制備基膜層：以二元酸和二元醇為主要原料，采用直接酯化法通過酯化反應(yīng)和縮聚反應(yīng)制備低霧度雙向拉伸聚酯薄膜用聚酯；其中酯化反應(yīng)時(shí)加入抗粘結(jié)劑和催化劑，縮聚反應(yīng)時(shí)加入穩(wěn)定劑，所述的抗粘結(jié)劑為滑石、碳酸鈣、硫酸鋇或高嶺土；
(2)在基膜層的上表面上噴涂聚丙烯、滑石粉、偶聯(lián)劑以及聚乙烯組成的消光劑，并涂覆有膠水后粘接構(gòu)成消光層；
(3)在消光層的上表面上粘接有防刺穿層；
(4)在防刺穿層的上表面上粘接第一防霧層；
(5)在基膜層的下表面上粘接第二防霧層。
通過采用上述技術(shù)方案，制取薄膜時(shí)無須再添加其他抗粘結(jié)劑，其霧度值比常規(guī)同類產(chǎn)品低30％以上，抗粘結(jié)性與常規(guī)同類產(chǎn)品相當(dāng)；結(jié)構(gòu)設(shè)置合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、低霧度和使用壽命長(zhǎng)。
本發(fā)明進(jìn)一步設(shè)置為：所述催化劑為鍺、銻或鈦化合物，其加入量為聚酯質(zhì)量的0.05％。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述抗粘結(jié)劑加入前先在二元醇中分散成質(zhì)量濃度為50％的懸浮液。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述抗粘結(jié)劑分散時(shí)還加入分散劑；且分散劑為多聚磷酸鉀，其加入量為抗粘結(jié)劑質(zhì)量的0.6％。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述抗粘結(jié)劑的平均粒徑為4.5～10.0μm。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述穩(wěn)定劑為磷酸三苯酯或磷酸三乙酯，其加入量以磷計(jì)為聚酯質(zhì)量的30ppm。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述防刺穿層由含玻璃纖維的尼龍材料制作而成，且防刺穿層的厚度為0.005—0.12mm。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述第一防霧層和第二防霧層均為防霧薄膜層，且第一防霧層和第二防霧層的厚度均采用0.01mm。
本發(fā)明還進(jìn)一步設(shè)置為：所述第一防霧層的上表面上設(shè)置有置物凹槽，所述置物凹槽內(nèi)設(shè)置有金屬油墨層，所述金屬油墨層的上表面上激光雕刻有微縮的防偽信息。通過本設(shè)置，金屬油墨層具有金屬光澤，防偽信息采用微縮技術(shù)制作而成，仿冒難度大，防偽性好。
另外，本發(fā)明還提供一種低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜的制備方法，該方法包括以下工藝步驟：
(1)制備基膜層：以二元酸和二元醇為主要原料，采用直接酯化法通過酯化反應(yīng)和縮聚反應(yīng)制備低霧度雙向拉伸聚酯薄膜用聚酯；其中酯化反應(yīng)時(shí)加入抗粘結(jié)劑和催化劑，縮聚反應(yīng)時(shí)加入穩(wěn)定劑，所述的抗粘結(jié)劑為滑石、碳酸鈣、硫酸鋇或高嶺土；
(2)在基膜層的上表面上噴涂聚丙烯、滑石粉、偶聯(lián)劑以及聚乙烯組成的消光劑，并涂覆有膠水后粘接構(gòu)成消光層；
(3)在消光層的上表面上粘接有防刺穿層；
(4)在防刺穿層的上表面上粘接第一防霧層；
(5)在基膜層的下表面上粘接第二防霧層；
(6)在第一防霧層的上表面上設(shè)置置物凹槽，并在置物凹槽內(nèi)設(shè)置金屬油墨層，金屬油墨層的上表面上激光雕刻有微縮的防偽信息。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是：與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明結(jié)構(gòu)設(shè)置更加合理，制取薄膜時(shí)無須再添加其他抗粘結(jié)劑，其霧度值比常規(guī)同類產(chǎn)品低30％以上，抗粘結(jié)性與常規(guī)同類產(chǎn)品相當(dāng)；結(jié)構(gòu)設(shè)置合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、低霧度、使用壽命長(zhǎng)、防偽性好且耐刺穿性好。
下面結(jié)合說明書附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
附圖說明
圖1為本發(fā)明實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為圖1中i部的放大示意圖。
具體實(shí)施方式
參見圖1和圖2，本發(fā)明公開的一種低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜，包括基膜層1，所述基膜層1的上表面上固定設(shè)置有消光層2，所述消光層2的上表面上固定設(shè)置有防刺穿層3，所述防刺穿層3的上表面上固定設(shè)置有第一防霧層4，所述基膜層1的下表面上固定設(shè)置有第二防霧層5，所述消光層2由消光劑噴涂而成，消光劑為聚丙烯、滑石粉、偶聯(lián)劑以及聚乙烯組成，所述第一防霧層4和第二防霧層5的厚度均為0.01mm—0.12mm；
所述的低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜的制備方法，該方法包括以下工藝步驟：
(1)制備基膜層1：以二元酸和二元醇為主要原料，采用直接酯化法通過酯化反應(yīng)和縮聚反應(yīng)制備低霧度雙向拉伸聚酯薄膜用聚酯；其中酯化反應(yīng)時(shí)加入抗粘結(jié)劑和催化劑，縮聚反應(yīng)時(shí)加入穩(wěn)定劑，所述的抗粘結(jié)劑為滑石、碳酸鈣、硫酸鋇或高嶺土；
(2)在基膜層1的上表面上噴涂聚丙烯、滑石粉、偶聯(lián)劑以及聚乙烯組成的消光劑，并涂覆有膠水后粘接構(gòu)成消光層2；
(3)在消光層2的上表面上粘接有防刺穿層3；
(4)在防刺穿層3的上表面上粘接第一防霧層4；
(5)在基膜層1的下表面上粘接第二防霧層5。
作為優(yōu)選的，所述催化劑為鍺、銻或鈦化合物，其加入量為聚酯質(zhì)量的0.05％。
所述抗粘結(jié)劑加入前先在二元醇中分散成質(zhì)量濃度為50％的懸浮液。
所述抗粘結(jié)劑分散時(shí)還加入分散劑；且分散劑為多聚磷酸鉀，其加入量為抗粘結(jié)劑質(zhì)量的0.6％。
所述抗粘結(jié)劑的平均粒徑為4.5～10.0μm。
所述穩(wěn)定劑為磷酸三苯酯或磷酸三乙酯，其加入量以磷計(jì)為聚酯質(zhì)量的30ppm。
所述防刺穿層3由含玻璃纖維的尼龍材料制作而成，且防刺穿層3的厚度為0.005—0.12mm。
所述第一防霧層4和第二防霧層5均為防霧薄膜層，且第一防霧層4和第二防霧層5的厚度均采用0.01mm。防霧薄膜為現(xiàn)有產(chǎn)品，通過選擇不同厚度的防霧薄膜實(shí)現(xiàn)消光霧度分布可控。
所述第一防霧層4的上表面上設(shè)置有置物凹槽42，所述置物凹槽41內(nèi)設(shè)置有金屬油墨層6，所述金屬油墨層6的上表面上激光雕刻有微縮的防偽信息61。作為優(yōu)選的，微縮的防偽信息61為微縮防偽二維碼、微縮防偽驗(yàn)證碼、微縮防偽圖案或其組合。
另外，本發(fā)明還提供一種低光澤度消光霧度分布可控bopp薄膜的制備方法，該方法包括以下工藝步驟：
(1)制備基膜層：以二元酸和二元醇為主要原料，采用直接酯化法通過酯化反應(yīng)和縮聚反應(yīng)制備低霧度雙向拉伸聚酯薄膜用聚酯；其中酯化反應(yīng)時(shí)加入抗粘結(jié)劑和催化劑，縮聚反應(yīng)時(shí)加入穩(wěn)定劑，所述的抗粘結(jié)劑為滑石、碳酸鈣、硫酸鋇或高嶺土；
(2)在基膜層的上表面上噴涂聚丙烯、滑石粉、偶聯(lián)劑以及聚乙烯組成的消光劑，并涂覆有膠水后粘接構(gòu)成消光層；
(3)在消光層的上表面上粘接有防刺穿層；
(4)在防刺穿層的上表面上粘接第一防霧層；
(5)在基膜層的下表面上粘接第二防霧層；
(6)在第一防霧層的上表面上設(shè)置置物凹槽，并在置物凹槽內(nèi)設(shè)置金屬油墨層，金屬油墨層的上表面上激光雕刻有微縮的防偽信息。
本發(fā)明制取薄膜時(shí)無須再添加其他抗粘結(jié)劑，其霧度值比常規(guī)同類產(chǎn)品低30％以上，抗粘結(jié)性與常規(guī)同類產(chǎn)品相當(dāng)；結(jié)構(gòu)設(shè)置合理，結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、低霧度、使用壽命長(zhǎng)、防偽性好且耐刺穿性好。
上述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明的具體描述，只用于對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步說明，不能理解為對(duì)本發(fā)明保護(hù)范圍的限定，本領(lǐng)域的技術(shù)工程師根據(jù)上述發(fā)明的內(nèi)容對(duì)本發(fā)明作出一些非本質(zhì)的改進(jìn)和調(diào)整均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。