本實(shí)用新型涉及薄膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光學(xué)離型膜。

背景技術(shù)：

離型膜是指表面具有分離性的薄膜，離型膜與特定的材料在有限的條件下接觸后不具有粘性，或輕微的粘性。

離型膜，又稱剝離膜、隔離膜、分離膜、阻膠膜、離形膜、薄膜、塑料薄膜、掩孔膜、硅油膜、硅油紙、防粘膜、打滑膜、天那紙、離型紙。通常情況下為了增加塑料薄膜的離型力，會(huì)將塑料薄膜做等離子處理，或涂氟處理，或涂硅離型劑于薄膜材質(zhì)的表層上，讓它對(duì)于各種不同的有機(jī)壓感膠可以表現(xiàn)出極輕且穩(wěn)定的離型力。

由于離型膜具有隔離、填充、保護(hù)、易于剝離等優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛的應(yīng)用于各種電子、通信、機(jī)械等領(lǐng)域中。

隨著手機(jī)，平板電腦等電子產(chǎn)品的普及，對(duì)透光性好離型膜的需求越來越大，同時(shí)貼合在電子產(chǎn)品上的離型膜不能影響使用手感和外觀，否則導(dǎo)致體驗(yàn)不佳。

此外，離型膜在剝離和貼合過程中積累大量靜電荷，大量靜電荷的積累會(huì)在離型膜的使用過程中對(duì)電子產(chǎn)品產(chǎn)生致命性的破壞風(fēng)險(xiǎn)，大量靜電荷的產(chǎn)生也會(huì)吸附塵埃粒子，造成電子產(chǎn)品生產(chǎn)過程中的不良，而且離型膜與電子產(chǎn)品貼合容易產(chǎn)生氣泡影響美觀。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種光學(xué)離型膜。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：一種光學(xué)離型膜，包括防靜電層，基材層和離型膜層，所述防靜電層設(shè)置有復(fù)數(shù)個(gè)第一凹槽，所述防靜電層外側(cè)設(shè)置有基材層，所述基材層于第一凹槽對(duì)應(yīng)位置設(shè)置有第二凹槽，所述第一凹槽和第二凹槽圍成的空間填充有膠黏劑層，所述基材層外側(cè)設(shè)置有離型膜層，所述基材層和離型膜層間設(shè)置有中間層。

優(yōu)選的是，所述基材層為PET層。

優(yōu)選的是，所述膠黏劑層采用的膠黏劑為硅膠膠黏劑。

優(yōu)選的是，所述離型膜層為硅油層。

優(yōu)選的是，所述中間層為納米SiO₂層。

優(yōu)選的是，所述納米SiO₂層中的SiO₂為球狀納米顆粒，所述SiO₂的直徑為100-200nm。

優(yōu)選的是，所述光學(xué)離型膜的總厚度為50-55μm。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的有益效果：本實(shí)用新型光學(xué)離型膜設(shè)置有第一凹槽和第二凹槽，膠黏劑層設(shè)置于第一凹槽和第二凹槽圍成的空間內(nèi)，兩個(gè)凹槽的設(shè)計(jì)使得防靜電層和基材層間的連接更加穩(wěn)固，降低膠黏劑層的厚度，同時(shí)兩個(gè)凹槽的設(shè)計(jì)節(jié)省了空間，降低了整個(gè)光學(xué)離型膜的厚度，提高了光學(xué)離型膜的透光性；本實(shí)用新型光學(xué)離型膜設(shè)置有防靜電層，使得光學(xué)離型膜抗靜電，不會(huì)產(chǎn)生電荷積累，避免了對(duì)電子產(chǎn)品帶來損害，同時(shí)減少灰塵的產(chǎn)生；本實(shí)用新型光學(xué)離型膜在基材層和離型膜層間設(shè)置中間層，中間層為納米SiO₂層，納米SiO₂比表面積大，吸附力強(qiáng)，與離型膜層的相互作用力大，在光學(xué)離型膜剝離時(shí)，易剝離，避免留有殘膠。

附圖說明

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式來進(jìn)一步詳細(xì)說明本實(shí)用新型：

圖1是本實(shí)用新型光學(xué)離型膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中：防靜電層1，第一凹槽1-1，基材層2，第二凹槽2-1，離型膜層3，膠黏劑層4，中間層5。

具體實(shí)施方式

如圖1，一種光學(xué)離型膜，包括防靜電層1，基材層2和離型膜層3，所述防靜電層1設(shè)置有3個(gè)第一凹槽1-1，所述防靜電層1外側(cè)設(shè)置有基材層2，所述基材層2于第一凹槽1-1對(duì)應(yīng)位置設(shè)置有第二凹槽2-1，所述第一凹槽1-1和第二凹槽2-1圍成的空間填充有膠黏劑層4，所述基材層2外側(cè)設(shè)置有離型膜層3，所述基材層2和離型膜層3間設(shè)置有中間層5。

所述防靜電層1的設(shè)計(jì)使得光學(xué)離型膜抗靜電，不會(huì)產(chǎn)生電荷積累，避免了對(duì)電子產(chǎn)品帶來損害，同時(shí)減少灰塵的產(chǎn)生。

所述基材層2為PET層。

防靜電層1與基材層2在對(duì)應(yīng)位置分別設(shè)置有第一凹槽1-1和第二凹槽2-1，第一凹槽1-1和第二凹槽2-1圍成的空間用于容納膠黏劑層4，節(jié)省了膠黏劑層4占用的空間，降低了整個(gè)光學(xué)離型膜的厚度。

所述膠黏劑層4采用的膠黏劑為硅膠膠黏劑。

所述離型膜層3為硅油層。

所述中間層5為納米SiO₂層，所述納米SiO₂層中的SiO₂為球狀納米顆粒，所述SiO₂的直徑為100-200nm，此納米SiO₂層具有較大的比表面積，對(duì)離型膜層3的吸附力強(qiáng)，在光學(xué)離型膜剝離時(shí)，離型膜層3易于剝離，并且避免留有殘膠。

所述光學(xué)離型膜的總厚度為50-55μm，光學(xué)離型膜的透光性好，并且該總厚度的光學(xué)離型膜不會(huì)影響手感和外觀，保證客戶對(duì)電子產(chǎn)品的體驗(yàn)效果。

上述的具體實(shí)施方式只是示例性的，是為了更好地使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解本專利，不能理解為是對(duì)本專利包括范圍的限制；只要是根據(jù)本專利所揭示精神的所作的任何等同變更或修飾，均落入本專利包括的范圍。