本發(fā)明涉及一種在制造陶瓷生片的工序中使用的剝離膜。

背景技術(shù)：

以往，在制造疊層陶瓷電容器或多層陶瓷基板等疊層陶瓷產(chǎn)品時(shí)如下進(jìn)行，即成型成陶瓷生片，并疊層多張所得到的陶瓷生片來進(jìn)行燒成。

陶瓷生片通過將含有鈦酸鋇或氧化鈦等陶瓷材料的陶瓷漿料涂布于剝離膜上而成型為均勻的厚度。作為剝離膜，通常使用的是用聚硅氧烷等硅酮類化合物對膜基材進(jìn)行剝離處理而形成剝離劑層的剝離膜。

近年來，伴隨著電子設(shè)備的小型化及高性能化，正在推進(jìn)疊層陶瓷電容器或多層陶瓷基板的小型化及多層化，并推進(jìn)陶瓷生片的薄膜化。若陶瓷生片薄膜化，其干燥后的厚度例如成為3μm以下，則在涂布陶瓷漿料并使其干燥時(shí)，因剝離膜中的剝離劑層的表面狀態(tài)而在陶瓷生片上容易產(chǎn)生針孔(pin hole)或厚度不均等缺陷。另外，當(dāng)從剝離膜剝離所成型的陶瓷生片時(shí)，因陶瓷生片的強(qiáng)度降低而容易產(chǎn)生斷裂等不良現(xiàn)象。

因此，對該剝離膜要求如下，即能夠?qū)⒊尚陀谠搫冸x膜上的薄膜的陶瓷生片從該剝離膜剝離而不會斷裂等的剝離性。

然而，在如上所述的陶瓷生片中使用的剝離膜通常以卷繞成卷狀的狀態(tài)被保管、輸送，在涂布陶瓷漿料時(shí)被開卷。若開卷剝離膜，則容易帶靜電，因此由靜電引起的麻煩構(gòu)成問題。為了解決該問題，在專利文獻(xiàn)1中提出，使用將基材的與設(shè)置有剝離劑層的面相反的面(背面)的算術(shù)平均粗糙度設(shè)為較粗糙的剝離膜。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1:日本專利公開2003-203822號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題

然而，在使用專利文獻(xiàn)1中記載的剝離膜的情況下，將成型有陶瓷生片的剝離膜卷繞并保管時(shí)，導(dǎo)致剝離膜背面的較粗糙的表面形狀轉(zhuǎn)印到陶瓷生片，產(chǎn)生陶瓷生片部分變薄等缺陷，當(dāng)疊層陶瓷生片而制作電容器時(shí)，有可能會產(chǎn)生由短路引起的不良現(xiàn)象。

另一方面，若將剝離膜背面的算術(shù)表面粗糙度設(shè)為較小，則表面狀態(tài)變得平坦，卷繞而重疊的剝離膜彼此的打滑性變差，因此產(chǎn)生如上所述的阻塞，導(dǎo)致產(chǎn)生卷繞不良等不良現(xiàn)象。

而且，陶瓷生片連同剝離膜被沖壓成規(guī)定的大小，并從剝離膜剝離而疊層。此時(shí)，若在陶瓷生片的與剝離劑層接觸過的面產(chǎn)生賦予剝離的成分(例如硅酮類化合物)的轉(zhuǎn)印，則使陶瓷生片彼此的粘合力降低，其結(jié)果，產(chǎn)生使成品率降低的問題。因此，要求一種對陶瓷生片的賦予剝離的成分的轉(zhuǎn)移較少的剝離膜。

本發(fā)明是鑒于這種實(shí)際情況而完成的，其目的在于提供一種陶瓷生片制造工序用剝離膜，其為從陶瓷生片的剝離性優(yōu)異，且賦予剝離的成分不易轉(zhuǎn)移到陶瓷生片，另外，能夠防止和抑制在陶瓷生片上產(chǎn)生缺陷，而且，不易產(chǎn)生阻塞。

解決技術(shù)問題的技術(shù)手段

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，首先，本發(fā)明提供一種陶瓷生片制造工序用剝離膜，其具備：基材，具有第1面及第2面；及剝離劑層，設(shè)置于所述基材的第1面，其特征在于，所述剝離劑層由含有活性能量射線固化性成分(A)及光聚合引發(fā)劑(B)的剝離劑組合物形成；所述活性能量射線固化性成分(A)通過使(甲基)丙烯酸酯(a1)、多元異氰酸酯化合物(a2)及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)，以所述二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的量相對于所述(甲基)丙烯酸酯(a1)、所述多元異氰酸酯化合物(a2)及所述二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的合計(jì)量以質(zhì)量比計(jì)為0.01～0.10的方式反應(yīng)而成，其中，所述(甲基)丙烯酸酯(a1)在一個(gè)分子中平均具有至少三個(gè)(甲基)丙烯?；液辛u基，所述二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)在一個(gè)分子中具有至少一個(gè)羥基，質(zhì)均分子量為500～8000，且為直鏈狀；所述剝離劑層的厚度為0.3～2μm；所述剝離劑層的與所述基材相反側(cè)的面的算術(shù)平均粗糙度(Ra1)為8nm以下，且最大突起高度(Rp1)為50nm以下；所述基材的第2面的算術(shù)平均粗糙度(Ra2)為5～40nm，且最大突起高度(Rp2)為60～500nm(發(fā)明1)。

根據(jù)上述發(fā)明(發(fā)明1)所涉及的陶瓷生片制造工序用剝離膜，剝離劑層由上述剝離劑組合物構(gòu)成，由此從陶瓷生片的剝離性優(yōu)異，且賦予剝離的成分不易轉(zhuǎn)移到陶瓷生片。另外，通過如上所述來規(guī)定剝離劑層的厚度和剝離劑層及基材的表面狀態(tài)，能夠防止和抑制在陶瓷生片上產(chǎn)生缺陷，而且不易產(chǎn)生阻塞。

在上述發(fā)明(發(fā)明1)中，優(yōu)選所述光聚合引發(fā)劑(B)為α-羥基酮類化合物或α-氨基烷基苯基酮類化合物(發(fā)明2)。

在上述發(fā)明(發(fā)明1、2)中，在所述剝離劑層的與所述基材相反側(cè)的面上形成聚乙烯醇縮丁醛樹脂層之后，當(dāng)從所述剝離劑層剝離出所述聚乙烯醇縮丁醛樹脂層時(shí)，對所述聚乙烯醇縮丁醛樹脂層中的與所述剝離劑層接觸過的面，利用光電子能譜分析測定的硅原子比例優(yōu)選小于1.0原子％(發(fā)明3)。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明所涉及的陶瓷生片制造工序用剝離膜，從陶瓷生片的剝離性優(yōu)異，且賦予剝離的成分不易轉(zhuǎn)移到陶瓷生片，另外，能夠防止和抑制在陶瓷生片上產(chǎn)生缺陷，而且，不易產(chǎn)生阻塞。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的一種實(shí)施方式所涉及的陶瓷生片制造工序用剝離膜的剖視圖。

具體實(shí)施方式

以下，對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。

[陶瓷生片制造工序用剝離膜]

如圖1所示，本實(shí)施方式所涉及的陶瓷生片制造工序用剝離膜1(以下，有時(shí)僅稱為“剝離膜1?！?構(gòu)成為具備：基材11和疊層于基材11的第1面111(圖1中為上表面)上的剝離劑層12。基材11在與基材11的第1面111相反側(cè)的面(圖1中為下表面)具備第2面112。

1.基材

本實(shí)施方式所涉及的剝離膜1的基材11只要能夠疊層剝離劑層12，則無特別限定。作為這種基材11，可以舉出例如由聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯、聚丙烯或聚甲基戊烯等聚烯烴、聚碳酸酯、聚乙酸乙烯酯等塑料形成的膜，可以是單層，也可以是相同種類或不同種類的2層以上的多層。其中，優(yōu)選聚酯膜，尤其優(yōu)選聚對苯二甲酸乙二酯膜，進(jìn)一步優(yōu)選雙向拉伸聚對苯二甲酸乙二酯膜。聚對苯二甲酸乙二酯膜在進(jìn)行加工時(shí)、使用時(shí)等不易產(chǎn)生塵埃等，因此例如能夠有效地防止因塵埃等引起的陶瓷漿料涂布不良等。另外，通過對聚對苯二甲酸乙二酯膜進(jìn)行抗靜電處理，能夠提高防止涂布不良等的效果。

另外，在該基材11中，以提高與剝離劑層12的粘附性為目的，根據(jù)需要，能夠?qū)Φ?面111或第1面111及第2面112兩個(gè)面實(shí)施利用氧化法或凹凸化法等進(jìn)行的表面處理或底漆處理。作為上述氧化法，可以舉出例如電暈放電處理、等離子體放電處理、鉻氧化處理(濕式)、火焰處理、熱風(fēng)處理、臭氧處理、紫外線照射處理等，另外，作為凹凸化法，可以舉出例如噴砂法、熱噴涂處理法等。這些表面處理法，按照基材膜的種類適當(dāng)?shù)剡x擇，但從效果及操作性方面考慮，通常優(yōu)選使用電暈放電處理法。

基材11的厚度通常為10～300μm即可，優(yōu)選為15～200μm，尤其優(yōu)選為20～125μm。

基材11的第1面111上的算術(shù)平均粗糙度(Ra0)優(yōu)選為2～50nm，尤其優(yōu)選為5～30nm。另外，基材11的第1面111上的最大突起高度(Rp0)優(yōu)選為10～700nm，尤其優(yōu)選為30～500nm。通過將基材11的第1面111的算術(shù)平均粗糙度(Ra0)及最大突起高度(Rp0)設(shè)定在上述范圍內(nèi)，容易將剝離劑層12的表面121(與基材11相反側(cè)的面)的算術(shù)平均粗糙度(Ra1)及最大突起高度(Rp1)控制在后述范圍內(nèi)。

基材11的第2面112的算術(shù)平均粗糙度(Ra2)為5～40nm，優(yōu)選為10～30nm，尤其優(yōu)選為15～25nm。另外，基材11的第2面112上的最大突起高度(Rp2)為60～500nm，優(yōu)選為100～400nm。通過將基材11的第2面112上的算術(shù)平均粗糙度(Ra2)及最大突起高度(Rp2)設(shè)定在上述范圍內(nèi)，能夠防止和抑制由基材11的第2面112引起、在陶瓷生片產(chǎn)生缺陷，并能夠抑制阻塞的產(chǎn)生。

即，若基材11的第2面112的算術(shù)平均粗糙度(Ra2)小于5nm，則該第2面112變得過于平滑，在卷繞剝離膜1時(shí)，基材11的第2面112和高度平滑的剝離劑層12粘附，而容易產(chǎn)生阻塞。另一方面，若基材11的第2面112的算術(shù)平均粗糙度(Ra2)超過40nm，則難以將基材11的第2面112的最大突起高度(Rp2)控制在上述優(yōu)選的較低的范圍內(nèi)。

若基材11的第2面112上的最大突起高度(Rp2)超過500nm，則在卷繞成型有陶瓷生片的剝離膜1時(shí)，基材11的第2面112的突起形狀轉(zhuǎn)印到與該面接觸的陶瓷生片的表面，產(chǎn)生陶瓷生片部分變薄等缺陷，當(dāng)疊層該陶瓷生片而制作電容器時(shí)，有可能產(chǎn)生由短路引起的不良現(xiàn)象。另一方面，若基材11的第2面112的最大突起高度(Rp2)小于60nm，則基材11的第2面112變得平坦，因此在形成剝離劑層12的工序等中，在基材11接觸卷筒的面上容易卷入空氣。其結(jié)果，有時(shí)會產(chǎn)生正在輸送的基材11扭彎，或者在卷繞成卷狀時(shí)產(chǎn)生卷繞偏離。

另外，在基材11的與第1面111相反的面上，可以設(shè)置與后述剝離劑層12相同的層，或者與剝離劑層12不同的層，該情況下，基材11的第2面112是指在這些層的面中與基材11側(cè)相反側(cè)的面。

2.剝離劑層

本實(shí)施方式所涉及的剝離膜1中的剝離劑層12，由含有活性能量射線固化性成分(A)及光聚合引發(fā)劑(B)的剝離劑組合物(以下，有時(shí)稱作“剝離劑組合物R?！?形成。剝離劑層12通過使該剝離劑組合物R固化而形成。

活性能量射線固化性成分(A)通過使在一個(gè)分子中平均具有至少三個(gè)(甲基)丙烯?；暮u基的(甲基)丙烯酸酯(a1)、多元異氰酸酯化合物(a2)、在一個(gè)分子中具有至少一個(gè)羥基且質(zhì)均分子量為500～8000的直鏈狀的二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)，以二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的量相對于(甲基)丙烯酸酯(a1)、多元異氰酸酯化合物(a2)及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的合計(jì)量以質(zhì)量比計(jì)為0.01～0.10的方式反應(yīng)而成。另外，在本說明書中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯這兩者。其它類似術(shù)語也相同。

若使上述(甲基)丙烯酸酯(a1)、多元異氰酸酯化合物(a2)及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)反應(yīng)，則(甲基)丙烯酸酯(a1)的羥基及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的羥基與多元異氰酸酯化合物(a2)的異氰酸酯基進(jìn)行反應(yīng)，(甲基)丙烯酸酯(a1)彼此、或者(甲基)丙烯酸酯(a1)與二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)通過多元異氰酸酯化合物(a2)而化學(xué)結(jié)合。

若對包含該活性能量射線固化性成分(A)的剝離劑組合物R照射活性能量射線，則(甲基)丙烯酸酯(a1)通過自由基聚合而形成聚合物。作為賦予剝離的成分的二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)通過共價(jià)鍵而導(dǎo)入到該聚合物中，因此可抑制從剝離劑組合物R的固化物即剝離劑層12脫落。從而，可抑制賦予剝離的成分轉(zhuǎn)移到形成于剝離劑層12上的陶瓷生片，并能夠成品率良好地形成可信度高的陶瓷生片。另外，由于如上所述存在作為賦予剝離的成分的二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)，因此所得到的剝離劑層12發(fā)揮良好的剝離性。

(甲基)丙烯酸酯(a1)由具有下述通式(1)或(2)所示的結(jié)構(gòu)的單一或兩種以上的化合物形成。

[化學(xué)式1]

[化學(xué)式2]

在上述通式(1)及(2)中，X¹～X¹⁰分別獨(dú)立地表示(甲基)丙烯?；蛄u基，X¹～X⁶中的至少三個(gè)以上表示(甲基)丙烯?；琗⁷～X¹⁰中至少三個(gè)以上表示(甲基)丙烯?；?。

(甲基)丙烯酸酯(a1)通過在一個(gè)分子中平均具有至少三個(gè)(甲基)丙烯酰基，由此發(fā)揮充分的固化性，當(dāng)照射活性能量射線時(shí)，可防止產(chǎn)生固化不良。從這種觀點(diǎn)考慮，(甲基)丙烯酸酯(a1)一個(gè)分子中的(甲基)丙烯?；膫€(gè)數(shù)優(yōu)選為五個(gè)以上。

作為(甲基)丙烯酸酯(a1)，優(yōu)選使用不含甲基丙烯?；⒐倌軋F(tuán)僅由丙烯?；傲u基構(gòu)成的含羥基的丙烯酸酯。這種含羥基的丙烯酸酯發(fā)揮更良好的固化性。其中，優(yōu)選為選自具有上述通式(1)或(2)所示結(jié)構(gòu)的二季戊四醇三丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯及季戊四醇四丙烯酸酯中的一種或兩種以上的混合物，尤其優(yōu)選所含有的丙烯酰基平均在一個(gè)分子中為三個(gè)以上，且其濃度被調(diào)整為每1kg為8當(dāng)量以上。

多元異氰酸酯化合物(a2)為在一個(gè)分子中具有至少兩個(gè)異氰酸酯基的化合物，可以舉出例如甲苯二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、苯二亞甲基二異氰酸酯等芳香族多元異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等脂肪族多元異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、氫化二苯甲烷二異氰酸酯等脂環(huán)族多元異氰酸酯等、及它們的縮二脲體、異氰脲酸酯體，另外，與乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羥甲基丙烷、蓖麻油等低分子含活性氫化合物的反應(yīng)物即加成物等。其中，尤其優(yōu)選能夠降低剝離力、提高剝離性的六亞甲基二異氰酸酯及其異氰脲酸酯體。上述多元異氰酸酯化合物(a2)可以單獨(dú)使用1種，或者組合兩種以上進(jìn)行使用。

二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)通過多元異氰酸酯化合物(a2)與(甲基)丙烯酸酯(a1)反應(yīng)，因此需要在一個(gè)分子中具有至少一個(gè)羥基。另外，為了顯現(xiàn)良好的剝離性，要求二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)為直鏈狀且質(zhì)均分子量為500～8000。通過使質(zhì)均分子量在該范圍內(nèi)，可發(fā)揮穩(wěn)定的剝離性，另外，涂布性也良好。質(zhì)均分子量優(yōu)選為500～6000，尤其優(yōu)選為500～5000。另外，本說明書中的質(zhì)均分子量為通過凝膠滲透色譜(GPC)法測定的換算成標(biāo)準(zhǔn)聚苯乙烯的值。

作為二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)，可以舉出具有下述通式(3)、(4)或(5)所示的結(jié)構(gòu)的二甲基有機(jī)聚硅氧烷。其中，優(yōu)選具有通式(3)所示的結(jié)構(gòu)，由此，尤其能夠降低剝離力，提高剝離性。另外，在組合具有通式(5)所示的結(jié)構(gòu)的二甲基有機(jī)聚硅氧烷、和作為多元異氰酸酯化合物(a2)的六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體的情況下，也能夠提高剝離性，因此優(yōu)選。

[化學(xué)式3]

[化學(xué)式4]

[化學(xué)式5]

在上述通式(3)、(4)及(5)中，R¹、R³及R⁶分別獨(dú)立地表示烷基或亞烷基醚基，R²、R⁴、R⁵及R⁷分別獨(dú)立地表示亞烷基或亞烷基醚基。n表示正整數(shù)。

作為二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)，也可以使用市場上銷售的產(chǎn)品。作為市場上銷售的產(chǎn)品，可以舉出例如Chisso Corporation制造的SILAPL ANE FM-4411、FM-4421、FM-4425、FMDA11、FMDA21、FM0411、FM0421、FM0425或Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造的X22-160AS、KF-6001、KF-6002、KF-6003、X-22-170BX、X-22-170DX、X22-176DX、X-22-176F等，其中，優(yōu)選SILAPLANE FMDA11、FMDA21及FM0411。

活性能量射線固化性成分(A)為以二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的量相對于(甲基)丙烯酸酯(a1)、多元異氰酸酯化合物(a2)及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的合計(jì)量以質(zhì)量比計(jì)為0.01～0.10的方式使它們反應(yīng)后的物質(zhì)。若該質(zhì)量比小于0.01，則難以得到穩(wěn)定的剝離性。另一方面，若質(zhì)量比超過0.10，則在旋出卷繞成卷狀的剝離膜時(shí)剝離膜的靜電量增大。因此，雜質(zhì)等容易附著于剝離膜的表面，當(dāng)涂布漿料時(shí)，有可能在涂布面上產(chǎn)生針孔等。另外，有可能涂布性變差，在涂布面上產(chǎn)生涂布條紋等。即，若質(zhì)量比在上述范圍內(nèi)，則能夠穩(wěn)定地顯現(xiàn)優(yōu)異的剝離性，得到涂布性良好的剝離劑組合物R。從這種觀點(diǎn)考慮，上述質(zhì)量比優(yōu)選為0.01～0.07，尤其優(yōu)選為0.01～0.05。

在此，優(yōu)選調(diào)整為從多元異氰酸酯化合物(a2)所具有的總異氰酸酯基量減去二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)所具有的總羥基量后的值，小于(甲基)丙烯酸酯(a1)所具有的總羥基量。并且，在制造活性能量射線固化性成分(A)時(shí)，優(yōu)選首先使多元異氰酸酯化合物(a2)與二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)反應(yīng)，然后使(甲基)丙烯酸酯(a1)與其進(jìn)行反應(yīng)。如此，能夠減少在二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)中、不與(甲基)丙烯酸酯(a1)反應(yīng)而殘留的量，從而，能夠減少作為賦予剝離的成分的二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)轉(zhuǎn)移到陶瓷生片的量。

作為剝離劑組合物R所含有的光聚合引發(fā)劑(B)，可以舉出例如包含α-羥基酮類化合物、α-氨基烷基苯基酮類化合物、噻噸酮等的芳香族酮類，?；⒀趸镱惖?。其中，從促進(jìn)聚合反應(yīng)且提高固化性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選α-羥基酮類化合物及α-氨基烷基苯基酮類化合物。上述光聚合引發(fā)劑(B)可以單獨(dú)使用1種，或者也可以組合兩種以上進(jìn)行使用。

作為α-羥基酮類化合物，可以舉出例如2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙?；?-芐基]-苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮、2-羥基-4’-羥基乙氧基-2-甲基苯丙酮、1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮、低聚{2-羥基-2-甲基-1-[4-(1-甲基乙烯基)苯基]丙酮}等。

作為α-氨基烷基苯基酮類化合物，可以舉出例如2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮、2-芐基-2-二甲基氨基-1-(4-嗎啉代苯基)-1-丁酮、2-二甲基氨基-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-嗎啉基)苯基]-1-丁酮等。

相對于100質(zhì)量份的活性能量射線固化性成分(A)，剝離劑組合物R中的光聚合引發(fā)劑(B)的含量優(yōu)選為2～15質(zhì)量份，尤其優(yōu)選為4～12質(zhì)量份。

本實(shí)施方式所涉及的剝離劑組合物R，除了含有上述成分以外，根據(jù)需要也可以含有硅石、抗靜電劑、引發(fā)助劑、染料、顏料、其它添加劑。

本實(shí)施方式所涉及的剝離膜1中的剝離劑層12的厚度為0.3～2μm，優(yōu)選為0.3～1.5μm，尤其優(yōu)選為0.3～1.2μm。若剝離劑層12的厚度小于0.3μm，則無法完全填埋存在于基材11的第1面111上的突起彼此之間的凹部，剝離劑層12的表面112的平滑性變得不充分，在陶瓷生片上容易產(chǎn)生針孔或厚度不均。另一方面，若剝離劑層12的厚度超過2μm，則通過剝離劑層12的固化收縮而在剝離膜1容易產(chǎn)生卷邊。另外，在將剝離膜1卷繞成卷狀時(shí)，容易與基材11的第2面112產(chǎn)生阻塞。

剝離劑層12的表面121的算術(shù)平均粗糙度(Ra1)為8nm以下，優(yōu)選為6nm以下，尤其優(yōu)選為4nm以下。另外，剝離劑層12的表面121的最大突起高度(Rp1)為50nm以下，優(yōu)選為40nm以下，尤其優(yōu)選為30nm以下。

通過將剝離劑層12的表面121的算術(shù)平均粗糙度(Ra1)及最大突起高度(Rp1)設(shè)為如上所述范圍，能夠?qū)冸x劑層12的表面121制成充分的高度平滑的表面，例如在將厚度為1μm以下的薄膜陶瓷生片成型于剝離劑層12的表面121時(shí)，在薄膜陶瓷生片上也不易產(chǎn)生針孔或厚度不均等缺陷，顯示出良好的漿料涂布性。另外，通過將剝離劑層12的表面121的算術(shù)平均粗糙度(Ra1)及最大突起高度(Rp1)設(shè)為如上所述范圍，從陶瓷生片的剝離性也變得優(yōu)異，例如在從剝離劑層12剝離厚度為1μm以下的薄膜陶瓷生片時(shí)，陶瓷生片也不易斷裂。

通過使剝離劑組合物R固化而成的剝離劑層12，在疊層于上述基材11的第1面111時(shí)，能夠?qū)冸x劑層12的表面121的算術(shù)平均粗糙度(Ra1)及最大突起高度(Rp1)設(shè)為上述范圍。根據(jù)剝離劑組合物R，主要通過活性能量射線固化性成分的固化物，來有效地填埋存在于基材11的第1面111上的突起彼此之間的凹部，從而能夠使所得到的剝離劑層12的表面121高度平滑化。

另外，根據(jù)通過使剝離劑組合物R固化而成的剝離劑層12，如上所述，可以抑制賦予剝離的成分轉(zhuǎn)移到形成于剝離劑層12上的陶瓷生片。

具體而言，在剝離劑層12的表面121形成聚乙烯醇縮丁醛樹脂層之后，在從剝離劑層12剝離該聚乙烯醇縮丁醛樹脂層時(shí)，聚乙烯醇縮丁醛樹脂層中的與剝離劑層12接觸過的面的硅酮轉(zhuǎn)移量降低。作為硅酮轉(zhuǎn)移量，可以通過根據(jù)X射線光電子能譜分析法(XPS)測定的硅原子比例來評價(jià)其性能。在本實(shí)施方式中，通過測定該面而得到的硅原子比例優(yōu)選小于1.0原子％，尤其優(yōu)選小于0.5原子％，進(jìn)一步優(yōu)選為0.3原子％以下。另外，基于硅原子(Si)、碳原子(C)及氧原子(O)的量(XPS計(jì)數(shù))，通過下述式而算出硅原子比例。

硅原子比例(原子％)＝[(Si元素量)/(C元素量)+(O元素量)+(Si元素量)]×100

另外，聚乙烯醇縮丁醛樹脂層其本身大多為無法通過XPS檢測硅的程度，因此能夠?qū)⒃摴柙颖壤米髯鳛閯冸x劑層12的賦予剝離的成分的硅酮類化合物的轉(zhuǎn)移量的評價(jià)基準(zhǔn)。

通過使聚乙烯醇縮丁醛樹脂層中的與剝離劑層12接觸過的面的硅原子比例在上述范圍內(nèi)，由此在剝離劑層12上形成陶瓷生片時(shí)，能夠抑制包含于剝離劑層12中的硅酮向陶瓷生片的轉(zhuǎn)移。

3.陶瓷生片制造工序用剝離膜的制造方法

在基材11的第1面111上涂布剝離劑組合物R及根據(jù)需要而涂布含有有機(jī)溶劑的用于形成剝離劑層的材料之后，根據(jù)需要進(jìn)行干燥，并通過照射活性能量射線使其固化，形成剝離劑層12，從而能夠制造本實(shí)施方式所涉及的剝離膜1。作為用于形成剝離劑層的材料的涂布方法，能夠使用例如凹版涂布法、棒涂布法(バーコート法)、噴涂布法、旋涂布法、刮刀涂布法、輥涂布法及模具涂布法等。

作為上述有機(jī)溶劑，只要是用于形成剝離劑層的材料的各成分的溶解性良好、且不具有反應(yīng)性的有機(jī)溶劑，則可以使用現(xiàn)有公知的有機(jī)溶劑。可以使用例如己烷、庚烷、環(huán)己烷等脂肪族烴，甲苯、二甲苯等芳香族烴，二氯甲烷、氯乙烯等鹵代烴，甲醇、乙醇、丙醇(異丙醇)、丁醇、1-甲氧基-2-丙醇等醇，丙酮、甲乙酮、2-戊酮、異佛爾酮、環(huán)己酮等酮，乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯，乙基溶纖劑等溶纖劑類溶劑，以及它們的混合溶劑等。有機(jī)溶劑的使用量，通常優(yōu)選調(diào)整為固體成分濃度成為1～60質(zhì)量％的范圍。

作為活性能量射線，通?？梢允褂米贤饩€、電子射線等，尤其優(yōu)選紫外線。活性能量射線的照射量，根據(jù)能量射線的種類而不同，但例如在為紫外線的情況下，以光量計(jì)優(yōu)選為50～1000mJ/cm²，尤其優(yōu)選為100～500mJ/cm²。另外，在為電子射線的情況下，優(yōu)選0.1～50kGy左右。

通過上述活性能量射線的照射，剝離劑組合物R中的活性能量射線固化性成分(A)聚合而固化，形成剝離劑層12。

在使用以上說明的剝離膜1時(shí)，利用狹縫模具涂布方式或刮片(doctor blade)方式等，在剝離劑層12的表面121涂布陶瓷漿料，并使其干燥，從而成型成陶瓷生片。此時(shí)，根據(jù)本實(shí)施方式所涉及的剝離膜1，在剝離劑層上成型有漿料涂布性優(yōu)異、強(qiáng)度較低的薄膜的陶瓷生片的情況下，也能夠形成平滑性較高的陶瓷生片，能夠抑制針孔或厚度不均的產(chǎn)生。另外，所形成的陶瓷生片容易從剝離膜1剝離，且賦予剝離的成分(硅酮類化合物)不易轉(zhuǎn)移到陶瓷生片。

而且，即使將形成有陶瓷生片的剝離膜1以卷繞成卷狀的狀態(tài)進(jìn)行保管，或者以卷對卷進(jìn)行輸送，也能夠抑制產(chǎn)生由基材11的第2面112的表面狀態(tài)引起的陶瓷生片部分變薄等缺陷。而且，根據(jù)上述剝離膜1，由于不易產(chǎn)生阻塞，因此能夠抑制卷繞不良、或開卷時(shí)靜電量增大引起的雜質(zhì)附著等不良現(xiàn)象。從而，根據(jù)本實(shí)施例所涉及的剝離膜1，能夠以良好的生產(chǎn)率、優(yōu)異的成品率制造可信度高的陶瓷生片。

以上說明的實(shí)施方式是為了便于理解本發(fā)明而記載的，并不是為了限定本發(fā)明而記載。從而，在上述實(shí)施方式中公開的各個(gè)要件，意旨還包括屬于本發(fā)明的技術(shù)范圍的所有設(shè)計(jì)變更和等同物。

例如，在基材11中的與剝離劑層12相反側(cè)的面、或基材11與剝離劑層12之間，也可以設(shè)置有抗靜電層等其它層。

實(shí)施例

以下，通過實(shí)施例等進(jìn)一步對本發(fā)明進(jìn)行具體說明，但本發(fā)明的范圍并不限定于這些實(shí)施例等。

[制造例1]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份(換算成固體成分；以下相同)、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FMDA11”，數(shù)均分子量為1000；具有通式(3)所示的結(jié)構(gòu)，通式(3)中的R¹為-OH，R²為-(CH₂)₃OCH₂CH₂-，R³為-CH₂CH₃。相同產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)以下相同。)300質(zhì)量份、及甲乙酮400質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400，”含有二季戊四醇五丙烯酸酯50質(zhì)量％；通式(1)所示的結(jié)構(gòu))286質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分12質(zhì)量份、及甲乙酮286質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性成分(A1)。

[制造例2]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA11”，數(shù)均分子量為1000)300質(zhì)量份、及甲乙酮400質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400；”通式(1)所示的結(jié)構(gòu))258質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分40質(zhì)量份、及甲乙酮258質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，并通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A2)。

[制造例3]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA21”，數(shù)均分子量為5000；具有通式(3)所示的結(jié)構(gòu)，通式(3)中的R¹為-OH，R²為-(CH₂)₃OCH₂CH₂-，R³為-CH₂CH₃。)1488質(zhì)量份、及甲乙酮1588質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400；”通式(1)所示的結(jié)構(gòu))289質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分10質(zhì)量份、及甲乙酮289質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A3)。

[制造例4]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA11”，數(shù)均分子量為1000)300質(zhì)量份、及甲乙酮400質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入季戊四醇四丙烯酸酯與季戊四醇三丙烯酸酯的混合物(Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd.制造，產(chǎn)品名稱“A-TMM-3L，”含有季戊四醇三丙烯酸酯55質(zhì)量％)286質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分12質(zhì)量份、及甲乙酮286質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，并通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A4)。

[制造例5]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯的異氰脲酸酯體100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM0411”，數(shù)均分子量為1000；具有通式(5)所示的結(jié)構(gòu)，通式(5)中的R⁶為-OH，R⁷為-C₃H₆OC₂H₄-。)175質(zhì)量份、及甲乙酮275質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400；”通式(1)所示的結(jié)構(gòu))167質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分8質(zhì)量份、及甲乙酮167質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A5)。

[制造例6]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA11”，數(shù)均分子量為1000)300質(zhì)量份、及甲乙酮400質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400；”通式(1)所示的結(jié)構(gòu))300質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分3質(zhì)量份、及甲乙酮300質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A6)。

[制造例7]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA11”，數(shù)均分子量為1000)300質(zhì)量份、及甲乙酮400質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400；”通式(1)所示的結(jié)構(gòu))250質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分43質(zhì)量份、及甲乙酮250質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A7)。

[制造例8]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA26”，數(shù)均分子量為15000；具有通式(3)所示的結(jié)構(gòu)，通式(3)中的R¹為-OH，R²為-(CH₂)₃OCH₂CH₂-，R³為-CH₂CH₃。)4460質(zhì)量份、及甲乙酮4560質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入作為(甲基)丙烯酸酯(a1)的二季戊四醇六丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的混合物(TOAGOSEI CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“M-400；”通式(1)所示的結(jié)構(gòu))289質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分9質(zhì)量份、及甲乙酮289質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A8)。

[制造例9]

在具備攪拌機(jī)、回流冷卻器、滴液漏斗及溫度計(jì)的反應(yīng)器中，加入作為多元異氰酸酯(a2)的六亞甲基二異氰酸酯100質(zhì)量份、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)(Chisso Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SILAPLANE FM DA11”，數(shù)均分子量為1000)300質(zhì)量份、及甲乙酮400質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，得到反應(yīng)物。

在具有與上述相同的設(shè)備的另一反應(yīng)器中，加入2-羥乙基丙烯酸酯286質(zhì)量份、上述所得到的反應(yīng)物的固體成分12質(zhì)量份、及甲乙酮286質(zhì)量份，升溫至85℃并保溫7小時(shí)而使其進(jìn)行反應(yīng)，通過IR測定而確認(rèn)異氰酸酯基消失，得到活性能量射線固化性剝離劑化合物(A9)。

關(guān)于在上述制造例1～9中得到的活性能量射線固化性剝離劑化合物A1～A9，將(甲基)丙烯酸酯(a1)中的(甲基)丙烯?；臄?shù)量、二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的分子量、以及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的量相對于(甲基)丙烯酸酯(a1)、多元異氰酸酯化合物(a2)及二甲基有機(jī)聚硅氧烷(a3)的合計(jì)量的質(zhì)量比(a3)/[(a1)+(a2)+(a3)])表示于表1。

[實(shí)施例1]

將活性能量射線固化性成分(A1)100質(zhì)量份、及作為α-羥基酮類的光聚合引發(fā)劑(B1)的2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙?；?-芐基]-苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(BASF公司制造，產(chǎn)品名稱“IRGACURE127”)5質(zhì)量份，用異丙醇及甲乙酮的混合溶劑(質(zhì)量比為3:1)稀釋為固體成分濃度為20質(zhì)量％，得到用于形成剝離劑層的材料。

將所得到的用于形成剝離劑層的材料，在作為基材的雙向拉伸聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(厚度為31μm，第1面的算術(shù)平均粗糙度Ra0：16nm，第1面的最大突起高度Rp0：196nm，第2面的算術(shù)平均粗糙度Ra2：16nm，第2面的最大突起高度Rp2：196nm)的第1面上，以固化后的厚度成為1μm的方式，通過棒涂布機(jī)進(jìn)行涂布，并在80℃下干燥1分鐘。然后，照射紫外線(累計(jì)光量：250mJ/cm²)，使用于形成剝離劑層的材料固化而形成剝離劑層，將其作為剝離膜。另外，剝離劑層的厚度為通過后述的測定方法測定的結(jié)果(以下實(shí)施例等也相同)。

[實(shí)施例2]

配合活性能量射線固化性成分(A2)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例3]

配合活性能量射線固化性成分(A3)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例4]

配合活性能量射線固化性成分(A4)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例5]

配合活性能量射線固化性成分(A5)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例6]

將剝離劑層的厚度變更為0.5μm，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例7]

將剝離劑層的厚度變更為1.9μm，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例8]

配合作為α-氨基烷基苯基酮類光聚合引發(fā)劑(B2)的2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮(BASF公司制造，產(chǎn)品名稱“IRGAC URE907”)來代替光聚合引發(fā)劑(B1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例9]

使用雙向拉伸PET膜(厚度為38μm，第1面的算術(shù)平均粗糙度Ra0：15nm，第1面的最大突起高度Rp0：98nm，第2面的算術(shù)平均粗糙度Ra2：15nm，第2面的最大突起高度Rp2：98nm)來代替實(shí)施例1中的基材，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[實(shí)施例10]

使用雙向拉伸PET膜(厚度為38μm，第1面的算術(shù)平均粗糙度Ra0：35nm，第1面的最大突起高度Rp0：471nm，第2面的算術(shù)平均粗糙度Ra2：35nm，第2面的最大突起高度Rp2：471nm)來代替實(shí)施例1中的基材，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例1]

配合活性能量射線固化性成分(A6)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例2]

配合活性能量射線固化性成分(A7)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例3]

配合活性能量射線固化性成分(A8)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例4]

配合活性能量射線固化性成分(A9)來代替活性能量射線固化性成分(A1)，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例5]

將作為活性能量射線固化性成分的二季戊四醇六丙烯酸酯99質(zhì)量份、含有甲基丙烯?；墓柰獦渲M合物(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造，產(chǎn)品名稱“X-62-164A”)1質(zhì)量份、及作為α-羥基酮類光聚合引發(fā)劑(B1)的2-羥基-1-{4-[4-(2-羥基-2-甲基-丙?；?-芐基]-苯基}-2-甲基-丙烷-1-酮(BASF公司制造，產(chǎn)品名稱“IRGACURE127”)5質(zhì)量份，用異丙醇及甲乙酮的混合溶劑(質(zhì)量比為3:1)來稀釋成固體成分濃度為20質(zhì)量％，得到用于形成剝離劑層的材料。使用該用于形成剝離劑層的材料，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例6]

將剝離劑層的厚度變更為0.2μm，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例7]

使用雙向拉伸PET膜(厚度為38μm，第1面的算術(shù)平均粗糙度Ra0：42nm，第1面的最大突起高度Rp0：619nm，第2面的算術(shù)平均粗糙度Ra2：42nm，第2面的最大突起高度Rp2：619nm)來代替實(shí)施例1中的基材，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[比較例8]

使用雙向拉伸PET膜(厚度為38μm，第1面的算術(shù)平均粗糙度Ra0：15nm，第1面的最大突起高度Rp0：105nm，第2面的算術(shù)平均粗糙度Ra2：3nm，第2面的最大突起高度Rp2：15nm)來代替實(shí)施例1中的基材，除此以外，以與實(shí)施例1相同的方式制作出剝離膜。

[試驗(yàn)例1](剝離劑層的厚度測定)

使用反射式膜厚計(jì)(Filmetrics Japan,Inc.制造，產(chǎn)品名稱“F20”)來測定出在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜的剝離劑層的厚度(μm)。具體而言，將在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜剪斷成100mm×100mm之后，以所測定側(cè)的面的相反面成為吸引臺側(cè)的方式在膜厚計(jì)上設(shè)置剝離膜，對剝離劑層表面的10處測定膜厚，將其平均值作為剝離劑層的厚度。將結(jié)果表示于表2。

[試驗(yàn)例2](剝離劑層的表面粗糙度測定)

在玻璃板上粘貼雙面膠帶，以所測定側(cè)的面的相反面成為玻璃板側(cè)的方式，經(jīng)由上述雙面膠帶，將在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜固定于玻璃板。使用表面粗糙度測量儀(Mitutoyo Corporation制造，產(chǎn)品名稱“SV-3000S4，”觸針式)，根據(jù)JIS B0601-1994，對該剝離膜的剝離劑層的表面(所露出的表面；以下相同)中的算術(shù)平均粗糙度(Ra1；nm)及最大突起高度(Rp1；nm)進(jìn)行測定。將結(jié)果表示于表2。

[試驗(yàn)例3](硅酮轉(zhuǎn)移性評價(jià))

用甲苯及乙醇的混合溶劑(質(zhì)量比為50:50)，將聚乙烯醇縮丁醛樹脂(SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“S-LEC B·K BL-S，”粉末狀)溶解成固體成分濃度為20質(zhì)量％，得到聚乙烯醇縮丁醛樹脂溶液。將所得到的聚乙烯醇樹脂溶液，以干燥后的厚度成為4μm的方式，通過棒涂布機(jī)涂布于在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜的剝離劑層表面，使其干燥，形成聚乙烯醇樹脂層。

從剝離膜剝離上述聚乙烯醇樹脂層，對該聚乙烯醇樹脂層中的與剝離劑層表面接觸過的面，利用X射線光電子能譜分析法(XPS)測定硅原子(Si)、碳原子(C)及氧原子(O)的量(XPS計(jì)數(shù))，并基于硅原子(Si)、碳原子(C)及氧原子(O)的量(XPS計(jì)數(shù))，通過下述式算出硅原子比例(原子％)。

硅原子比(原子％)＝[(Si元素量)/(C元素量)+(O元素量)+(Si元素量)]×100

而且，通過以下判斷基準(zhǔn)對硅酮轉(zhuǎn)移性進(jìn)行評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……硅原子比例小于0.3原子％

B……硅原子比例為0.3原子％以上且小于1.0原子％

C……硅原子比例為1.0原子％以上

[試驗(yàn)例4](剝離劑層的涂布面評價(jià))

關(guān)于在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜，目視觀察剝離劑層的涂布面(表面)的狀態(tài)，通過以下判斷基準(zhǔn)對剝離劑層的涂布面進(jìn)行評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……不存在由涂布條紋引起的表面異常

B……稍微存在由涂布條紋引起的表面異常，但使用上不構(gòu)成問題

C……在整個(gè)涂布面產(chǎn)生有涂布條紋，或者產(chǎn)生有嚴(yán)重的表面異常

[試驗(yàn)例5](剝離劑層的固化性評價(jià))

關(guān)于在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜，通過含有甲乙酮的廢布(OZU Corporation制造，產(chǎn)品名稱“BEMCOT AP-2”)對剝離劑層的表面以1kg/cm²的負(fù)載往返研磨10次。然后，目視觀察剝離劑層的表面，通過以下判斷基準(zhǔn)對剝離劑層的固化性進(jìn)行評價(jià)。另外，在本試驗(yàn)(試驗(yàn)例5)中，關(guān)于評價(jià)為“C”的試驗(yàn)，由于無法獲得對于進(jìn)行其它試驗(yàn)滿意的試樣，因此未進(jìn)行其它試驗(yàn)。將結(jié)果表示于表3中。

A……不存在剝離劑層的溶解/脫落

B……可見剝離劑層部分溶解

C……剝離劑層完全溶解，從基材脫落

[試驗(yàn)例6](漿料涂布性評價(jià))

在氧化鋯珠的存在下，用球磨機(jī)使甲苯及乙醇的混合液(質(zhì)量比為6:4)135質(zhì)量份混合并分散在鈦酸鋇粉末(BaTiO₃；SAKAI CHEMICAL INDUSTRY CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“BT-03”)100質(zhì)量份、作為粘合劑的聚乙烯醇縮丁醛樹脂(SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“S-LEC B·K BM-2”)8質(zhì)量份及作為可塑劑的鄰苯二甲酸二辛酯(KANTO CHEMICAL CO.,INC.制造，鄰苯二甲酸二辛酯純度1級)4質(zhì)量份中，除去珠，制備出陶瓷漿料。

對于在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜的剝離劑層表面，用模涂機(jī)以干燥后的膜厚成為1μm的方式將上述陶瓷漿料涂布成寬度250mm、長度10m，然后，用干燥機(jī)在80℃下干燥1分鐘。對成型有陶瓷生片的剝離膜，從剝離膜側(cè)照射熒光燈，目視檢查所成型的所有陶瓷生片面，通過以下判斷基準(zhǔn)對漿料涂布性進(jìn)行評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……在陶瓷生片上不存在針孔

B……在陶瓷生片上產(chǎn)生一～五個(gè)針孔

C……在陶瓷生片上產(chǎn)生六個(gè)以上針孔

[試驗(yàn)例7](陶瓷生片剝離性評價(jià))

通過與試驗(yàn)例6相同的順序，以不沖壓剝離膜的方式，將成型于剝離膜的剝離劑層表面上的陶瓷生片沖壓成200mm×200mm。接著，利用生片層壓機(jī)的片材剝離部件，使所沖壓的生片吸附于真空吸引臺，從剝離膜剝離。通過以下判斷基準(zhǔn)對此時(shí)的從陶瓷生片的剝離性進(jìn)行評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……陶瓷生片能夠順利地剝離，而不會斷裂，在剝離劑層上未殘留陶瓷生片

B……陶瓷生片雖剝離順利度稍差，但能夠剝離，而不會斷裂，在剝離劑層上未殘留陶瓷生片

C……陶瓷生片斷裂，或者無法進(jìn)行剝離

[試驗(yàn)例8](基于剝離劑層表面的陶瓷生片的缺陷評價(jià))

用甲苯及乙醇的混合溶劑(質(zhì)量比為60:40)，將聚乙烯醇縮丁醛樹脂(SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“S-LEC B·K BL-S，”粉末狀)溶解成固體成分濃度為20質(zhì)量％，得到聚乙烯醇縮丁醛樹脂溶液。將所得到的聚乙烯醇縮丁醛樹脂溶液，以干燥后的厚度成為3μm的方式涂布于在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜的剝離劑層上，在80℃下干燥1分鐘，成型成聚乙烯醇縮丁醛樹脂層。然后，在該聚乙烯醇縮丁醛樹脂層的表面粘貼聚酯粘著膠帶。

接著，從聚乙烯醇縮丁醛樹脂層剝離剝離膜，將聚乙烯醇縮丁醛樹脂層轉(zhuǎn)印到聚酯粘著膠帶。然后，計(jì)數(shù)該聚乙烯醇縮丁醛樹脂層的與剝離劑層表面接觸過的面上的凹陷的數(shù)量。具體而言，使用光干渉式表面形狀觀察裝置(Vecco Instruments,Inc.制造，產(chǎn)品名稱“WYKO-1100”)，以PSI模式按50倍率進(jìn)行觀察，根據(jù)所得到的91.2μm×119.8μm范圍的表面形狀圖像，計(jì)數(shù)深度為150nm以上的凹陷的數(shù)量。

基于上述凹陷的數(shù)量，通過以下判斷基準(zhǔn)，進(jìn)行基于剝離劑層表面的陶瓷生片的缺陷評價(jià)。另外，在所述陶瓷生片剝離性評價(jià)的試驗(yàn)(試驗(yàn)例7)中，關(guān)于評價(jià)為“C”的試驗(yàn)，由于無法獲得對于進(jìn)行本試驗(yàn)滿意的試樣，因此未進(jìn)行本試驗(yàn)。將結(jié)果表示于表3中。

A……凹陷個(gè)數(shù)為0個(gè)

B……凹陷個(gè)數(shù)為一～五個(gè)

C……凹陷個(gè)數(shù)為六個(gè)以上

另外，用存在上述評價(jià)C的凹陷的陶瓷生片來制造電容器的情況下，所得到的電容器容易因耐電壓降低而產(chǎn)生短路。

[試驗(yàn)例9](基材的第2面的陶瓷生片的缺陷評價(jià))

用甲苯及乙醇的混合溶劑(質(zhì)量比為60:40)，將聚乙烯醇縮丁醛樹脂(SEKISUI CHEMICAL CO.,LTD.制造，產(chǎn)品名稱“S-LEC B·K BL-S，”粉末狀)溶解成固體成分濃度為20質(zhì)量％，得到聚乙烯醇縮丁醛樹脂溶液。將所得到的聚乙烯醇縮丁醛樹脂溶液，以干燥后的厚度成為3μm的方式涂布于厚度為50μm的PET膜上，在80℃下干燥1分鐘，成型成聚乙烯醇縮丁醛樹脂層。

將在實(shí)施例及比較例中所得到的剝離膜，以該剝離膜中的基材的第2面與上述聚乙烯醇縮丁醛樹脂層接觸的方式，粘貼于該聚乙烯醇縮丁醛樹脂層。將該疊層體剪斷成100mm×100mm之后，用負(fù)載5kg/cm²進(jìn)行沖壓，使剝離膜中的基材的第2面的突起形狀轉(zhuǎn)印到聚乙烯醇縮丁醛樹脂層。

接著，從聚乙烯醇縮丁醛樹脂層剝離剝離膜，測定聚乙烯醇縮丁醛樹脂膜的與剝離膜的基材的第2面接觸過的面上的凹陷的深度，并且計(jì)數(shù)凹陷的數(shù)量。具體而言，使用光干渉式表面形狀觀察裝置(Vecco Inst ruments,Inc.制造，WYKO-1100)，用PSI模式以50倍率進(jìn)行觀察，根據(jù)所得到的91.2μm×119.8μm范圍的表面形狀圖像，測定凹陷的深度，并且計(jì)數(shù)凹陷的數(shù)量。

根據(jù)上述凹陷的深度及數(shù)量，通過以下判斷基準(zhǔn)，進(jìn)行基材的第2面的陶瓷生片的缺陷評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……深度為300nm以上的凹陷的數(shù)量為0個(gè)

B……深度為500nm以上的凹陷的數(shù)量為0個(gè)，深度為300nm以上且小于500nm的凹陷的數(shù)量為一個(gè)以上

C……深度為500nm以上的凹陷的數(shù)量為一個(gè)以上

另外，用存在上述評價(jià)C的凹陷的陶瓷生片來制造電容器的情況下，所得到的電容器容易因耐電壓降低而產(chǎn)生短路。

[試驗(yàn)例10](操作性評價(jià))

對將在實(shí)施例及比較例中得到的剝離膜設(shè)為卷狀時(shí)的操作性進(jìn)行評價(jià)。具體而言，對所接觸的剝離膜彼此的打滑性、設(shè)為卷狀時(shí)抽氣性的優(yōu)異性、及產(chǎn)生剝離膜的卷繞偏離的難易度，通過以下判斷基準(zhǔn)進(jìn)行評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……所接觸的剝離膜彼此的打滑性良好，且將剝離膜設(shè)為卷狀時(shí)的抽氣性良好，能夠防止剝離膜的卷繞偏離

B……所接觸的剝離膜彼此的打滑性稍差，且將剝離膜卷繞成卷狀時(shí)的抽氣性稍差，稍微產(chǎn)生卷繞偏離，但無影響

C……所接觸的剝離膜彼此的打滑性差，且將剝離膜卷繞成卷狀時(shí)的抽氣性差，明顯產(chǎn)生卷繞偏離

[試驗(yàn)例11](阻塞性評價(jià))

將在實(shí)施例及比較例中所得到的剝離膜卷繞成寬度為400mm、長度為5000m的卷狀。在40℃、濕度為50％以下的環(huán)境下保管該剝離膜卷30天，目視觀察剝離膜卷現(xiàn)有狀態(tài)下的外觀，通過以下判斷基準(zhǔn)對阻塞性進(jìn)行評價(jià)。將結(jié)果表示于表3中。

A……從卷繞成卷狀時(shí)起無變化(無阻塞)

B……在寬度方向上的一半以下的區(qū)域，發(fā)現(xiàn)由膜彼此的粘附引起的顏色的變化(稍微存在阻塞，但可以使用)

C……在寬度方向上的過半的區(qū)域，發(fā)現(xiàn)由膜彼此的粘附引起的顏色的變化(存在阻塞)

[表1]

[表2]

※1活性能量射線固化性成分及含有甲基丙烯?；墓柰獦渲M合物的混合物

[表3]

由表3明確可知，實(shí)施例的剝離膜從陶瓷生片的剝離性優(yōu)異，并且硅酮類化合物(賦予剝離的成分)不易轉(zhuǎn)移到陶瓷生片。另外，根據(jù)實(shí)施例的剝離膜，在陶瓷生片上不易產(chǎn)生缺陷，而且，不易產(chǎn)生阻塞，操作性也良好。

附圖標(biāo)記說明

1-陶瓷生片制造工序用剝離膜，11-基材，111-第1面，112-第2面，12-剝離劑層，121-表面。