技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種用于無(wú)接觸地光學(xué)確定彈頭(134)通過(guò)目標(biāo)面(102)的穿透位置的測(cè)量框架(106)。此外本發(fā)明還涉及一種配屬的測(cè)量和分析方法。此外本發(fā)明涉及一種顯示系統(tǒng)，該顯示系統(tǒng)使用至少一個(gè)這樣的測(cè)量框架(106)。測(cè)量框架包括：至少一個(gè)第一輻射源(120)，用于發(fā)射第一發(fā)散輻射場(chǎng)；至少一個(gè)第二輻射源，用于發(fā)射第二發(fā)散輻射場(chǎng)，其中，第一和第二輻射場(chǎng)在垂直于穿透方向的平面中交叉成角；以及至少一個(gè)第一光學(xué)接收器裝置(126)和至少一個(gè)第二光學(xué)接收器裝置(126')，該至少一個(gè)第一光學(xué)接收器裝置和至少一個(gè)第二光學(xué)接收器裝置分別配設(shè)于所述至少一個(gè)第一輻射源和第二輻射源。光學(xué)接收器裝置中的每個(gè)具有光學(xué)接收器元件陣列，光學(xué)接收器元件是這樣可被分析，使得確定由于待探測(cè)彈頭的空間擴(kuò)展遮光位置。

技術(shù)研發(fā)人員：保羅·邁爾;斯特凡·特格爾許特爾;烏多·維特
受保護(hù)的技術(shù)使用者：邁通電子有限公司
文檔號(hào)碼：201480031702
技術(shù)研發(fā)日：2014.06.03
技術(shù)公布日：2017.05.31