技術(shù)特征：
1.一種用于無接觸地光學確定彈頭通過目標面的穿透位置的測量框架，其中，測量框架包括：至少一個第一輻射源，用于發(fā)射第一發(fā)散輻射場；至少一個第二輻射源，用于發(fā)射第二發(fā)散輻射場，其中，第一和第二輻射場在垂直于穿透方向的平面中交叉成角；至少一個第一光學接收器裝置和至少一個第二光學接收器裝置，該至少一個第一光學接收器裝置和至少一個第二光學接收器裝置分別配設于所述至少一個第一輻射源和第二輻射源；其中，光學接收器裝置中的每個具有光學接收器元件陣列，光學接收器元件可操作為測量接收到的輻射強度，使得確定由于待探測彈頭的空間擴展遮光位置，以及其中，所述測量框架包括至少一個發(fā)射器板，所述至少一個發(fā)射器板包括帶有在輻射方向上變大的板孔直徑的相繼的板孔，以成形由輻射源發(fā)射的輻射場。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量框架，其中，光學接收器元件被布置在至少兩行中，且一行接收器元件相對于相鄰行的接收器元件錯位地被布置。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量框架，其中，接收器元件中的每個包括光電二極管。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量框架，其中，輻射源具有發(fā)射紅外線輻射的LED、或激光二極管。5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量框架，此外包括至少一個接收器板，用于隱沒不期望的輻射。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測量框架，其中，接收器板包括在輻射方向相繼的板孔，該相繼的板孔帶有不同開口形狀。7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測量框架，其中，接收器板具有板孔陣列，板孔中的每個配設有一個光學接收器元件。8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量框架，其中，第一和第二輻射源與第一和第二接收器單元分別被布置成，使得被發(fā)射的輻射場的中軸線基本上成直角地交叉。9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量框架，其中，測量框架基本上矩形地限定目標面，且具有四個基本上相同構(gòu)建的測量邊，所述測量邊沿著矩形邊界的邊緣被布置。10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的測量框架，其中，測量邊中的每個包括至少一個輻射源和至少一個接收器裝置。11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的測量框架，其中，接收器板具有板孔陣列，板孔中的每個配設有一個光學接收器元件。12.一種用于在使用根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的測量框架的情況下無接觸地光學確定彈頭通過目標面的穿透位置的方法，其中，該方法包括下述步驟：從第一和第二輻射源發(fā)射至少一個第一和至少一個第二發(fā)散的輻射場，其中，第一和第二輻射場在垂直于穿透方向的平面中交叉成角；通過測量在光接收器元件陣列的單個光學接收器元件處的輻射強度在至少一個第一和至少一個第二接收器裝置處確定遮光位置，所述接收器裝置分別配設有所述至少一個第一和第二輻射源；在使用確定的遮光位置的邊界和配屬的輻射源的位置的情況下，計算至少三條切線；基于所計算的切線而計算和給出穿透位置和/或口徑。13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，此外包括校準步驟，在該校準步驟中，所述至少一個輻射源被關(guān)斷和接通以產(chǎn)生校準值，且使用配屬的接收器單元的照亮與非照亮狀態(tài)之間的輻射強度差值，從而確定校準因子。14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，比較差值與閾值，從而當?shù)陀陂撝禃r產(chǎn)生警告。15.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的方法，其中，計算四條切線，且在冗余信息的幫助下對測量的值進行可信性檢查。16.一種用于顯示彈頭通過目標面的穿透位置的顯示系統(tǒng)，具有至少一個根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的測量框架、至少一個分析裝置以及至少一個顯示裝置。