一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)及膠體晶體的制備方法
【專利摘要】本發(fā)明一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)及膠體晶體的制備方法，屬于膠體晶體制備方法領(lǐng)域。該系統(tǒng)包括：微球注射系統(tǒng)、紅外波長熱源、金屬框架、樣品凹槽、金屬平臺、螺紋軸、金屬移動模塊、聚四氟乙烯板和驅(qū)動電動機，驅(qū)動電動機設(shè)置在金屬框架的左端，螺紋軸與驅(qū)動電動機連接，金屬移動模塊套在螺紋軸上，金屬移動模塊與金屬平臺連接，樣品凹槽設(shè)置在金屬平臺上，聚四氟乙烯板固定在金屬框架的上端并與樣品凹槽相接觸，所述的驅(qū)動電動機旋轉(zhuǎn)驅(qū)動螺紋軸帶動金屬移動模塊向右側(cè)移動。本發(fā)明還提供一種膠體晶體的制備方法，改方法能夠在較短的時間范圍內(nèi)組裝出單一粒徑及多粒徑復合的膠體晶體模板，且得到的膠體晶體厚度可控、大面積有序。
【專利說明】一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)及膠體晶體的制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于膠體晶體制備方法領(lǐng)域，具體涉及一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)及膠 體晶體的制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 二十一世紀在光子領(lǐng)域中操控光子已成為核心的研究內(nèi)容，膠體晶體因其特殊的 周期結(jié)構(gòu)，可以作為模板制備反蛋白石結(jié)構(gòu)光子晶體，為光功能材料的結(jié)構(gòu)設(shè)計和性能優(yōu) 化提供了優(yōu)異手段。
[0003] 現(xiàn)有的制備膠體晶體常用的方法是垂直沉積法，此方法于1996年由Nagayama K 最先提出，該法是在基片上進行自組裝，即簡單地將基片垂直浸入含有單分散微球的膠體 溶液中，在基片和溶液表面形成彎液面，當溶劑蒸發(fā)時，彎液面下降，微球在毛細力作用下， 在基片表面自組裝為周期排列結(jié)構(gòu)，形成膠體晶體（DIMITROV A S，NAGAYAMA K. Continuous Convective, Assembling of Fine Particles into Two-DimensionalArrays on Solid Surfaces[J]. Langmuir, 1996, 12(5) :1303-1311.)。垂直沉積法的優(yōu)點是：1.制備態(tài)的膠 體晶體有序度較高；2.通過膠體溶液的濃度，可控制膠體晶體層數(shù)；進而調(diào)控層數(shù)。
[0004] 盡管利用此方法自組裝生長的膠體晶體品質(zhì)較好，但也存在以下問題：1.自組裝 生長周期較長；需要3-4天時間；2.生長面積受限，盛裝膠體溶液的器皿直徑?jīng)Q定了生長基 片的寬度；3.自組裝生長條件苛刻，生長過程對溫度和濕度等環(huán)境敏感；4.多粒徑復合膠 體晶體難于制備。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是為了解決現(xiàn)有的膠體晶體的制備方法周期長、生長面積受限、多 粒徑復合膠體晶體難制備及生長條件苛刻的問題，而提供一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)及 膠體晶體的制備方法。
[0006] 本發(fā)明首先提供一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括：微球注射系統(tǒng)、紅外 波長熱源、金屬框架、樣品凹槽、金屬平臺、螺紋軸、金屬移動模塊、聚四氟乙烯板和驅(qū)動電 動機，驅(qū)動電動機設(shè)置在金屬框架的左端，螺紋軸的一端與驅(qū)動電動機連接，另一端與金屬 框架連接，金屬移動模塊套在螺紋軸上，金屬移動模塊與金屬平臺連接，樣品凹槽設(shè)置在金 屬平臺上，聚四氟乙烯板固定在金屬框架的上端并與樣品凹槽相接觸，所述的驅(qū)動電動機 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動螺紋軸帶動金屬移動模塊向右側(cè)移動。
[0007] 本發(fā)明所述的系統(tǒng)還包括四顆水平螺絲，所述的四顆水平螺絲設(shè)置在金屬平臺 上，通過調(diào)節(jié)四顆水平螺絲調(diào)節(jié)樣品凹槽和聚四氟乙烯板之間的距離。
[0008] 本發(fā)明所述的微球注射系統(tǒng)用于向樣品凹槽內(nèi)注射微球溶液。
[0009] 本發(fā)明所述的紅外波長熱源為紅外線蒸發(fā)器。
[0010] 本發(fā)明所述的紅外波長熱源設(shè)置在距離樣品凹槽10-15cm處。
[0011] 本發(fā)明所述的紅外波長熱源用于照射聚四氟乙烯板與樣品凹槽之間形成的凹液 面。
[0012] 本發(fā)明還提供一種膠體晶體的制備方法，該方法包括：
[0013] 步驟一：制備及清洗樣品凹槽，將樣品凹槽固定在金屬平臺上，使樣品凹槽右側(cè)和 聚四氟乙烯板右側(cè)對齊；
[0014] 步驟二：開啟紅外波長熱源，使其能夠照射聚四氟乙烯板與樣品凹槽之間形成的 凹液面；
[0015] 步驟三：通過微球注射系統(tǒng)向樣品凹槽內(nèi)注射微球溶液，所述的注射速率為 5_20ul/min ;
[0016] 步驟四：開啟驅(qū)動電動機，驅(qū)動電動機驅(qū)動螺紋軸帶動金屬移動模塊向右側(cè)移動， 同時向樣品凹槽內(nèi)注射微球溶液，當樣品凹槽左端滑離聚四氟乙烯板時，關(guān)閉紅外線蒸發(fā) 器、微球注射系統(tǒng)和驅(qū)動電動機，膠體晶體制備完成；所述的注射速率為l〇-25ul/min，金 屬移動模塊的移動速度為l-5mm/min。
[0017] 本發(fā)明所述的微球溶液是聚苯乙烯、Si02或PMMA微球溶液。
[0018] 本發(fā)明所述的聚苯乙烯微球的粒徑為535. 4nm。
[0019] 本發(fā)明所述的步驟四中注射速率為20ul/min，金屬移動模塊的移動速度為2mm/ min〇
[0020] 本發(fā)明的工作原理
[0021] 本發(fā)明提供一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)及膠體晶體的制備方法，該方法通過將 單分散的微球乳液注入到樣品凹槽中，微球乳液在疏水的聚四氟乙烯板和經(jīng)過親水處理的 基片之間形成彎液面，通過熱光源輻照彎液面，同時移動固定樣品凹槽的金屬平臺；當微球 乳液中水分的蒸發(fā)速度和樣品凹槽平移速度達到動態(tài)平衡時，彎液面中的微球乳液在表面 張力和毛細力共同作用下進行自組裝過程，形成規(guī)則排列的膠體晶體膜。
[0022] 本發(fā)明的有益效果
[0023] 本發(fā)明首先提供一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，該系統(tǒng)能夠快速有效的制備不同 尺寸的膠體晶體，且制備得到的膠體晶體表面平整，有序度高。
[0024] 本發(fā)明還提供一種膠體晶體的制備方法，和現(xiàn)有技術(shù)相對比，本發(fā)明的方法能夠 在較短的時間范圍內(nèi)（15-30mins)組裝出單一粒徑及多粒徑復合的膠體晶體模板，且得到 的膠體晶體厚度可控、面積可控、大面積有序，對外界環(huán)境要求低。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 圖1為本發(fā)明用于制備膠體晶體的系統(tǒng)的整體示意圖；
[0026] 圖2為本發(fā)明用于制備膠體晶體的系統(tǒng)的局部放大圖；
[0027] 圖3為本發(fā)明實施例1制備的膠體晶體的外觀圖；
[0028] 圖4為本發(fā)明實施例1制備的膠體晶體的表面Sffl圖；
[0029] 圖5為本發(fā)明實施例1制備的膠體晶體的截面SEM圖；
[0030] 圖6為本發(fā)明實施例2制備的膠體晶體的截面Sffl圖；
[0031] 圖7為對比例1制備的膠體晶體的截面SEM圖；
[0032] 圖8為對比例2制備的膠體晶體的截面SEM圖。
[0033] 圖中，1、微球注射系統(tǒng)，2、紅外波長熱源，3、彎液面，4、金屬框架，5、有序膠體晶體 膜，6、樣品凹槽，7、金屬平臺，8、水平螺絲，9、螺紋軸，10、金屬移動模塊，11、聚四氟乙烯板， 12、驅(qū)動電動機。

【具體實施方式】
[0034] 本發(fā)明首先提供一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，如圖1所示，該系統(tǒng)包括：微球注 射系統(tǒng)1、紅外波長熱源2、金屬框架4、樣品凹槽6、金屬平臺7、螺紋軸9、金屬移動模塊10、 聚四氟乙烯板11和驅(qū)動電動機12,所述的驅(qū)動電動機12設(shè)置在金屬框架4的左端，螺紋軸 8的一端與驅(qū)動電動機12連接，另一端與金屬框架4連接，金屬移動模塊10套在螺紋軸9 上，金屬移動模塊10的上端通過螺絲固定在金屬平臺7上，金屬平臺7用于固定樣品凹槽 6,樣品凹槽6設(shè)置在金屬平臺7上，聚四氟乙烯板11固定在金屬框架4的上端并與樣品凹 槽6相接觸，所述的驅(qū)動電動機12旋轉(zhuǎn)驅(qū)動螺紋軸9帶動金屬移動模塊10向右側(cè)移動，由 于金屬移動模塊10與金屬平臺7固定連接，當金屬移動模塊10向右側(cè)移動時，帶動金屬平 臺7上的樣品凹槽6也向右側(cè)移動。
[0035] 圖2為本發(fā)明用于制備膠體晶體的系統(tǒng)的局部放大圖，本發(fā)明所述的系統(tǒng)還包括 四顆水平螺絲8,所述的四顆水平螺絲8設(shè)置在金屬平臺7上，樣品凹槽6固定于金屬平臺 7后，通過四顆水平螺絲8達到使樣品凹槽6水平的目的，并且通過調(diào)節(jié)四顆水平螺絲8調(diào) 節(jié)樣品凹槽6的槽口和聚四氟乙烯板11之間相接觸，使聚四氟乙烯板11與樣品凹槽6之 間形成的彎液面3。
[0036] 所述的微球注射系統(tǒng)1用于向樣品凹槽6內(nèi)注射微球溶液。所述的紅外波長熱源 1用于照射聚四氟乙烯板11與樣品凹槽6之間形成的彎液面3 ;所述的紅外波長熱源優(yōu)選 設(shè)置在距離樣品凹槽l〇-15cm處，這樣就能使紅外波長熱源蒸發(fā)限制在樣品凹槽中的微球 粒子液體層，以防止液體表面的聚集，同時，這個距離可以有效調(diào)節(jié)蒸發(fā)速度，以適合薄膜 的生長，紅外波長熱源優(yōu)選為紅外線蒸發(fā)器。
[0037] 本發(fā)明所述的金屬框架4優(yōu)選采用鋁合金材料，由于本發(fā)明中采用紅外波長熱 源，因此需用散熱性能良好的材料。所述的金屬移動模塊10沒有特殊限制，優(yōu)選是采用型 號為LSP01-1A的注射泵改造而成。
[0038] 本發(fā)明還提供一種膠體晶體的制備方法，該方法包括：
[0039] 步驟一：制備及清洗樣品凹槽6,將樣品凹槽6固定在金屬平臺7上，使樣品凹槽6 右側(cè)和聚四氟乙烯板11右側(cè)對齊；
[0040] 步驟二：開啟紅外波長熱源2,待紅外波長熱源2達到穩(wěn)定狀態(tài)，將紅外波長熱源 2優(yōu)選移至距離樣品凹槽10-15cm處，使其能夠照射聚四氟乙烯板11與樣品凹槽6之間形 成的彎液面3 ;紅外波長熱源優(yōu)選為紅外線蒸發(fā)器；
[0041] 步驟三：通過微球注射系統(tǒng)1向樣品凹槽6內(nèi)注射微球溶液，使微球溶液填充樣品 凹槽6與聚四氟乙烯板11右側(cè)的空隙；所述的注射速率為5-20ul/min ;所述的微球溶液注 射量優(yōu)選為20ul，濃度優(yōu)選為10% (W/V);所述的微球溶液優(yōu)選聚苯乙烯、Si02*PMMA微 球溶液，更優(yōu)選為聚苯乙烯微球溶液，所述的聚苯乙烯微球的粒徑優(yōu)選為535. 4nm。
[0042] 步驟四：開啟驅(qū)動電動機12,驅(qū)動電動機12驅(qū)動螺紋軸9帶動金屬移動模塊10 向右側(cè)移動，同時向樣品凹槽6內(nèi)注射溶液，所述的微球溶液的濃度為5% (W/V)，樣品凹槽 6與聚四氟乙烯板11之間形成彎液面3 ;當樣品凹槽6左端滑離聚四氟乙烯板11時，關(guān)閉 紅外線蒸發(fā)器2、微球注射系統(tǒng)1和驅(qū)動電動機12,膠體晶體制備完成；所述的注射速率為 10-25ul/min，金屬移動模塊10的移動速度為l-5mm/min。優(yōu)選的是，所述的步驟四中注射 速率為20ul/min，金屬移動模塊的移動速度為2mm/min。
[0043] 本發(fā)明要嚴格控制注射速率和移動速度的范圍，如果注射速率及移動速率超出上 述參數(shù)范圍，彎液面處的膠體乳液的蒸發(fā)速率與注射乳液量不能達到平衡，大粒子沉淀過 快，導致膠體膜很難形成有序結(jié)構(gòu)。
[0044] 本發(fā)明步驟一所述的制備和清洗樣品凹槽6的方法優(yōu)選如下：
[0045] 1、切割幾何尺寸為40*30mm的ΙΤ0玻璃若干塊作為基板，并確保其導電性；
[0046] 2、將基板用丙酮浸泡24小時后，放入盛裝乙醇的燒杯中，將燒杯置于超聲振蕩清 洗機內(nèi)，清洗30mins ;然后放入裝有去離子水的燒杯中，將其置于超聲振蕩清洗機中；重復 上述過程3次；
[0047] 3、選取2中較為干凈的基板，置于等離子刻蝕機內(nèi)，開啟等離子刻蝕機真空泵，待 等離子刻蝕機內(nèi)達到真空狀態(tài)，向刻蝕機內(nèi)通入純凈空氣，調(diào)節(jié)刻蝕機電壓，待氣體輝光后 lOmins，關(guān)閉刻蝕機取出基板；
[0048] 4、取0· 1mm厚的單面具有粘性的聚四氟乙烯薄膜，切割成長40mm，寬30mm向內(nèi)延 展1mm的回字圖形，將此薄膜粘到3得到的基板上，樣品凹槽制備完成。
[0049] 下面結(jié)合具體實施例對本發(fā)明做進一步詳細的說明，實施例中使用的聚苯乙烯微 球為武漢華科微科科技有限責任公司生產(chǎn)的聚苯乙烯微球；使用的聚苯乙烯微球注射系統(tǒng) 為LSP01-1A的注射泵，采用上海玻利鴿工貿(mào)有限公司生產(chǎn)的lOOOul微量進樣器作為注射 組件。
[0050] 實施例1
[0051] 步驟一：制備及清洗樣品凹槽6,將樣品凹槽6固定在金屬平臺7上，使樣品凹槽6 右側(cè)和聚四氟乙烯板11右側(cè)對齊；
[0052] 步驟二：開啟紅外線蒸發(fā)器2,待紅外線蒸發(fā)器2達到穩(wěn)定狀態(tài)，將紅外蒸發(fā)器移 至距離樣品凹槽l〇-15cm處，使其能夠照射聚四氟乙烯板11與樣品凹槽6之間形成的彎液 面3 ;
[0053] 步驟三：以注射速率為5ul/min向樣品凹槽6內(nèi)注射20ul濃度為10%的聚苯乙 烯微球溶液，使聚苯乙烯微球溶液填充樣品凹槽6與聚四氟乙烯板11右側(cè)的空隙；
[0054] 步驟四：開啟驅(qū)動電動機12,驅(qū)動電動機12驅(qū)動螺紋軸9帶動金屬移動模塊10向 右側(cè)移動，同時向樣品凹槽6內(nèi)注射聚苯乙烯溶液，所述的聚苯乙烯微球溶液的濃度為5% (W/V)，樣品凹槽6與聚四氟乙烯板11之間形成彎液面3 ;當樣品凹槽6左端滑離聚四氟乙 烯板11時，關(guān)閉紅外線蒸發(fā)器2、微球注射系統(tǒng)1和驅(qū)動電動機12,膠體晶體制備完成；所 述的注射速率為20ul/min，金屬移動模塊10的移動速度為2mm/min。實施例1得到的膠體 晶體的粒徑為535nm。
[0055] 圖3為本發(fā)明實施例1制備的膠體晶體的外觀圖，從圖中可以看出，本發(fā)明采用快 速生長法制備的膠體晶體整體形貌，可見有序度結(jié)構(gòu)出現(xiàn)。
[0056] 圖4為本發(fā)明實施例1制備的膠體晶體的表面Sffl圖，從圖中可以看出，本發(fā)明的 聚苯乙烯微球排列規(guī)則整齊，有序度高。
[0057] 圖5為本發(fā)明實施例1制備的膠體晶體的截面SEM圖，從圖中可以看出，本發(fā)明的 聚苯乙烯微球排列規(guī)則整齊，有序度高；且成單層球排列。
[0058] 實施例2
[0059] 與實施例1所不同的是，注射速率設(shè)置為15ul/min，其余步驟和條件同實施例1。
[0060] 實驗結(jié)果表明，當注射速率在15ul/min時，本發(fā)明形成有序膠體晶體樣品完整度 較好，樣品表面出現(xiàn)裂痕較少，與實施例1膠體晶體樣品差別較小，圖6為本發(fā)明實施例2 制備的膠體晶體的表面SEM圖，從圖中可以看出，本發(fā)明的聚苯乙烯微球排列規(guī)則整齊，有 序度1?。
[0061] 實施例3
[0062] 與實施例1所不同的是，注射速率設(shè)置為10ul/min，金屬移動模塊10的移動速度 為5mm/min，其余步驟和條件同實施例1。
[0063] 實驗結(jié)果表明，當注射速率設(shè)置為10ul/min，金屬移動模塊10的移動速度為5_/ min，本發(fā)明形成有序膠體晶體樣品完整度較好，樣品表面出現(xiàn)裂痕較少，聚苯乙烯微球排 列規(guī)則整齊，有序度高。
[0064] 實施例4
[0065] 與實施例1所不同的是，注射速率設(shè)置為25ul/min，金屬移動模塊10的移動速度 為lmm/min，其余步驟和條件同實施例1。
[0066] 實驗結(jié)果表明，當注射速率設(shè)置為25ul/min，金屬移動模塊10的移動速度為1_/ min，本發(fā)明形成有序膠體晶體樣品完整度較好，樣品表面出現(xiàn)裂痕較少，聚苯乙烯微球排 列規(guī)則整齊，有序度高。
[0067] 對比例1
[0068] 與實施例1所不同的是，金屬移動模塊10的移動速度為7mm/min，其余步驟和條件 同實施例1。
[0069] 實驗結(jié)果表明，移動速率在7mm/min,形成有序膠體晶體樣品對比于實施例1，樣 品有序度較差，且膠體晶體樣品表面明顯裂痕。圖7為對比例1制備的膠體晶體的表面SEM 圖，從圖中可以看出，當移動速度較快時，聚苯乙烯微球排列無序。
[0070] 對比例2
[0071] 與實施例1所不同的是，注射速率設(shè)置為30ul/min，其余步驟和條件同實施例1。
[0072] 實驗結(jié)果表明，注射速率設(shè)置為30ul/min,形成有序膠體晶體樣品對比于實施例 1，樣品有序度較差，且膠體晶體樣品表面明顯裂痕。圖8為對比例2制備的膠體晶體的表 面SEM圖，從圖中可以看出，當注射速率較快時，聚苯乙烯微球排列只有部分有序。
[0073] 以上實施例的說明只是用于幫助理解本發(fā)明的方法及其核心思想。應(yīng)當指出，對 于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以對本發(fā)明進行 若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍內(nèi)。
[0074] 對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。 對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的 一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明 將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一 致的最寬的范圍。
【權(quán)利要求】
1. 一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，其特征在于，該系統(tǒng)包括：微球注射系統(tǒng)（1)、紅外 波長熱源（2)、金屬框架（4)、樣品凹槽（6)、金屬平臺（7)、螺紋軸（9)、金屬移動模塊（10)、 聚四氟乙烯板（11)和驅(qū)動電動機（12)，驅(qū)動電動機（12)設(shè)置在金屬框架（4)的左端，螺 紋軸（9)的一端與驅(qū)動電動機（12)連接，另一端與金屬框架（4)連接，金屬移動模塊（10) 套在螺紋軸（9)上，金屬移動模塊（10)與金屬平臺（7)連接，樣品凹槽（6)設(shè)置在金屬平 臺（7)上，聚四氟乙烯板（11)固定在金屬框架（4)的上端并與樣品凹槽（6)相接觸，所述 的驅(qū)動電動機（12)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動螺紋軸（9)帶動金屬移動模塊（10)向右側(cè)移動。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，其特征在于，所述的系統(tǒng)還 包括四顆水平螺絲（8)，所述的四顆水平螺絲（8)設(shè)置在金屬平臺（7)上，通過調(diào)節(jié)四顆水 平螺絲⑶調(diào)節(jié)樣品凹槽（6)和聚四氟乙烯板（11)之間的距離。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，其特征在于，所述的微球注 射系統(tǒng)（1)用于向樣品凹槽（6)內(nèi)注射微球溶液。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，其特征在于，所述的紅外波 長熱源（2)為紅外線蒸發(fā)器。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，其特征在于，所述的紅外波 長熱源（2)設(shè)置在距離樣品凹槽（6)10-15cm處。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1、4、或5任何一項所述的一種用于制備膠體晶體的系統(tǒng)，其特征在 于，所述的紅外波長熱源（2)用于照射聚四氟乙烯板（11)與樣品凹槽（6)之間形成的凹液 面。
7. -種膠體晶體的制備方法，其特征在于，該方法包括： 步驟一：制備及清洗樣品凹槽￠)，將樣品凹槽￠)固定在金屬平臺（7)上，使樣品凹 槽（6)右側(cè)和聚四氟乙烯板（11)右側(cè)對齊； 步驟二：開啟紅外波長熱源（2)，使其能夠照射聚四氟乙烯板（11)與樣品凹槽（6)之 間形成的凹液面； 步驟三：通過微球注射系統(tǒng)（1)向樣品凹槽￠)內(nèi)注射微球溶液，所述的注射速率為 5_20ul/min ; 步驟四：開啟驅(qū)動電動機（12)，驅(qū)動電動機（12)驅(qū)動螺紋軸（9)帶動金屬移動模塊 (10)向右側(cè)移動，同時向樣品凹槽（6)內(nèi)注射微球溶液，當樣品凹槽（6)左端滑離聚四氟乙 烯板（11)時，關(guān)閉紅外波長熱源（2)、微球注射系統(tǒng)（1)和驅(qū)動電動機（12)，膠體晶體制備 完成；所述的注射速率為l〇_25ul/min，金屬移動模塊的移動速度為l-5mm/min。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種膠體晶體的制備方法，其特征在于，本發(fā)明所述的微球 溶液是聚苯乙烯、Si02或PMMA微球溶液。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種膠體晶體的制備方法，其特征在于，所述的聚苯乙烯微 球的粒徑為535. 4nm。
10. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種膠體晶體的制備方法，其特征在于，所述的步驟四中注 射速率為20ul/min，金屬移動模塊的移動速度為2mm/min。
【文檔編號】C30B5/00GK104088008SQ201410310067
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年6月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月30日
【發(fā)明者】孟祥東, 魯銘, 李海波, 于兆亮, 華杰, 曲曉慧, 李維巖 申請人:吉林師范大學