摩擦驅動x射線源的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明揭示一種高能輻射產生器，其在低壓環(huán)境中利用滑動摩擦產生例如X射線等高能輻射。所述滑動摩擦可在存在電子標靶時通過使一個材料抵著第二材料掃掠而產生，例如，使轉子的表面抵著隔膜旋轉，所述電子標靶可為所述第一材料或所述第二材料中的一者或為不同材料。
【專利說明】摩擦驅動X射線源

【背景技術】
[0001]本發(fā)明一股來說涉及高能輻射的產生，且更特定來說，涉及利用摩擦接觸產生高能福射。
[0002]以多種方式使用高能輻射。例如，X射線可用于醫(yī)學或其它成像應用、包含材料分析的結晶學相關應用或其它應用中。
[0003]一股通過材料內的電子制動(韌致輻射)或內殼電子發(fā)射來產生X射線。就歷史觀點來說，除通過自然現(xiàn)象以外，一股通過使用高電壓電力供應器加速電子進入例如金屬等材料中而產生X射線，其中小比例的電子引起X射線。然而，尤其當考慮實際上導致X射線發(fā)射的小百分比的此類電子時，加速電子以產生大量有用X射線一股需要耗費大量電力。
[0004]還可通過在受控環(huán)境中改變材料之間的機械接觸(例如，通過剝離壓敏膠帶)或在抽空腔室中改變一些材料的機械接觸來產生X射線。然而，利用此類方法提供足夠強度的X射線來可供商業(yè)使用并且在實驗室環(huán)境之外這樣做可能是困難的。


【發(fā)明內容】

[0005]本發(fā)明的方面提供借助于在提供低壓環(huán)境的外殼中接近電子標靶的兩個表面之間的滑動摩擦接觸產生高能輻射，其中所述兩個表面為不相似材料以便提供摩擦起電，其中所述表面中的一者的至少一部分上的所述滑動摩擦接觸至多隨時間斷斷續(xù)續(xù)以便允許放電。在一些實施例中，所述表面中的一者為電絕緣體且另一表面為金屬材料。在一些實施例中，所述金屬材料為所述電子標祀。在一些實施例中，另一金屬表面為所述電子標革巴。在一些實施例中，所述另一金屬表面與所述兩個表面中的一者相距預定義距離。在一些實施例中，所述滑動摩擦接觸重復地斷斷續(xù)續(xù)或介于移動表面與靜止表面之間。
[0006]本發(fā)明的一個方面提供一種可用于產生高能輻射的裝置，所述裝置包括:外殼，其包含用于至少部分地抽空大氣壓的所述外殼的至少一個端口，所述外殼的至少一部分對高能輻射實質上透通；所述外殼內的第一物體；及所述外殼內的第二材料，所述第二材料與地絕緣；所述第一物體的至少部分或所述第二材料的至少部分可相對于彼此移動以便在所述第一材料與所述第二材料之間產生滑動摩擦接觸。
[0007]本發(fā)明的另一方面提供一種高能輻射產生裝置，其包括:外殼，其通常可密封以便提供受控流體壓力環(huán)境；安裝在所述外殼內的隔膜；及轉子，其旋轉地安裝在所述外殼內使得所述轉子的至少一部分可抵著所述隔膜的至少一部分滑動；其中所述隔膜的所述部分及所述轉子的所述部分中的至少一者包含與地絕緣的材料，且所述隔膜的所述部分及所述轉子的所述部分的另一者包含導電材料。
[0008]本發(fā)明的另一方面提供一種產生高能輻射的方法，其包括:使第一材料抵著第二材料的表面的區(qū)域擦刷，所述第一材料與所述第二材料是不同的材料，所述第二材料與地絕緣；在低壓環(huán)境中，從所述第二材料的所述表面的所述區(qū)域接近包括金屬表面的電子標靶處移除所述第一材料。
[0009]在審閱本發(fā)明之后更完整地理解本發(fā)明的這些及其它方面。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1說明根據(jù)本發(fā)明的方面的高能輻射產生器。
[0011]圖2進一步說明根據(jù)本發(fā)明的方面的高能輻射產生器。
[0012]圖3說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器的部分。
[0013]圖4為展示通過例如圖1的裝置等裝置產生的能量的能譜的曲線圖。
[0014]圖5為展示相對于例如圖1的裝置等裝置的不同葉片產生的能量的分量的曲線圖。
[0015]圖6說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器的部分。
[0016]圖7說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器的部分。
[0017]圖8說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器的部分。
[0018]圖9說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器的部分。
[0019]圖10說明圖9的裝置的部分的側視圖。
[0020]圖11說明用于圖9的裝置中的另一轉子。
[0021]圖12說明供圖9的裝置使用的又一轉子。
[0022]圖13說明根據(jù)本發(fā)明的方面的陣列裝置。
[0023]圖14說明根據(jù)本發(fā)明的方面的具有外部驅動機構的高能輻射產生器。
[0024]圖15說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器的部分。

【具體實施方式】
[0025]本發(fā)明的實施例提供一種可用于產生高能輻射的裝置。在一些實施例中，所述裝置為包含材料及物體的高能輻射產生器。當存在電子標靶時，所述物體經配置以抵著所述材料的表面掃掠或擦刷，從而在所述材料與所述物體之間產生滑動摩擦接觸，其中所述材料的表面的至少一部分上方的滑動摩擦接觸隨時間不連續(xù)。所述電子標靶在許多實施例中為金屬或金屬合金，且所述電子標靶可為所述物體的部分，例如在所述物體的表面上。所述材料及所述物體處于受控流體壓力環(huán)境中，一股在低壓環(huán)境中。所述受控流體壓力在許多實施例中小于一個大氣壓，在一些實施例中為100毫托或約100毫托，在一些實施例中小于100毫托，在一些實施例中小于50毫托，在一些實施例中小于1毫托，且在一些實施例中小于0.001暈托。
[0026]圖1說明根據(jù)本發(fā)明的方面的高能輻射產生器。在圖1的實施例中，轉子111在外殼123的低壓環(huán)境中旋轉。如圖1中所說明，轉子包含第一葉片113及第二葉片115。第一葉片及第二葉片的表面包含呈(例如)元素或合金形式的至少一個金屬，其中在各種實施例中，每一葉片的至少一個金屬為不同金屬或呈不同金屬合金。第一葉片及第二葉片在連接到轉子的主軸119的對置側上。(例如)借助于主軸耦合到的電機121的旋轉實現(xiàn)的主軸的旋轉引起轉子的旋轉。
[0027]在一些實施例中一股與地電隔離且由電絕緣體形成的隔膜117接近轉子，其中隔膜相對于轉子定位使得在轉子旋轉期間，葉片抵著隔膜擦刷。當葉片抵著隔膜擦刷時，葉片與隔膜呈滑動摩擦接觸。因此，隨著主軸旋轉，每一葉片接近隔膜，抵著隔膜的一部分擦刷，從而在葉片與隔膜的所述部分之間產生滑動摩擦接觸，且后退遠離隔膜。在提供于外殼內的低壓大氣壓中，滑動摩擦接觸或(可能更準確地)一區(qū)域上方的滑動摩擦接觸、后續(xù)接著所述區(qū)域上方缺少所述接觸導致發(fā)射高能輻射(例如，X射線)。
[0028]隔膜及轉子均位于具有至少部分抽空的大氣壓的外殼123中。在許多實施例中，外殼包含允許從外殼逸出相當多或大量高能輻射(例如，X射線)的至少一部分。在一些實施例中，允許逸出高能輻射的外殼的所述部分為對X射線實質上透通的外殼的一部分，例如外殼中的窗口，且在許多實施例中，所述窗口可接近隔膜及/或實質上平行于隔膜定位。在一些實施例中，所述窗口經結構化以使高能輻射的射束準直。在許多實施例中，外殼將包含允許(例如)借助于將氣體從外殼抽空來控制外殼中的氣體的存在的至少一個端口。此夕卜，在許多實施例中，尤其考慮由轉子與隔膜之間的研磨接觸產生的潛在釋氣，外殼還將含有輔助維持外殼內的低壓環(huán)境的吸氣材料。而且，在圖1中所說明的實施例中，外殼具有長方體形狀，但是在各種實施例中，外殼可具有不同形狀。此外，如圖1中所說明，電機在外殼內。在替代性實施例中，電機在外殼外部，其中(例如)主軸穿過外殼的壁。
[0029]在一些實施例中，與隔膜呈滑動摩擦接觸的葉片的部分具有為一個金屬或金屬合金的表面。在與隔膜呈滑動摩擦接觸的部分附近且預期當葉片不與隔膜接觸時在隔膜附近的葉片的其它部分具有為另一金屬或金屬合金的表面。
[0030]在一些實施例中，利用軸串隔膜。例如，在一些實施例中，隔膜耦合到可為線軸的支柱，其中隔膜具有多余長度，從而允許(例如)在歸因于與轉子滑動摩擦接觸而產生的隔膜的部分的磨損的情況下退繞隔膜的未使用部分。
[0031]圖2說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器。所述另一高能輻射產生器類似于圖1的裝置，且因此包含圖1的裝置的轉子111 (通過電機121引起其旋轉)，其中轉子的葉片抵著隔膜的隔膜213擦刷。如在圖1的源中，轉子、隔膜及電機處于具有至少部分抽空的大氣壓的外殼211內。然而，外殼211具有圓柱形形狀。使用圓柱形外殼可能為有益的，這是因為(例如)圓柱形形狀為隔膜可在其之間伸展的支柱215^21513提供接觸點，同時仍在隔膜后面提供空隙以供隔膜伸展及/或擴展(歸因于與轉子的葉片接觸)。
[0032]圖3說明類似于圖1的實施例的另一實施例的部分。在圖3的實施例中，電機121引起具有如關于圖1論述的對置葉片113、115的轉子111的旋轉。在操作中，轉子的旋轉導致葉片抵著安裝在托架315中的接觸表面311擦刷。因此，接觸表面311可代替圖1的裝置的隔膜。
[0033]圖4為展示通過例如圖1的裝置等裝置的操作產生的高能輻射411的能譜的曲線圖，其中葉片中的一者具有包含鉛的表面且葉片中的另一者具有包含鉭的表面。圖5展示類似曲線圖，具有歸因于含鉛葉片與接觸表面的相互作用產生的高能輻射發(fā)射511及歸因于含鉭葉片與接觸表面的相互作用產生的高能輻射發(fā)射513的分離指示，其中發(fā)射的分離是基于發(fā)射時間計算。
[0034]圖6說明類似于圖1的實施例的另一實施例的部分。所說明的部分包含一股將在具有驅動轉子旋轉的驅動系統(tǒng)的外殼(例如，圖1的外殼)中的轉子及接觸表面。在圖6的實施例中，轉子611包含通過分離件(例如，鄰近于葉片617的分離件619)分離的多個葉片，例如包含葉片617的四個葉片。轉子經定位使得轉子的旋轉導致葉片抵著接觸表面615擦刷。如圖6中所說明，接觸表面為托架613的部分或安裝在托架613中。在一些實施例中，分離件為無材料的間隙。在一些實施例中，用不同于葉片的材料或不同于葉片的表面上的材料的材料的材料填充分離件。例如，葉片的表面上的材料可包含金屬或金屬合金，且接觸表面的材料可為電絕緣材料。
[0035]圖7說明類似于圖1的實施例的另一實施例的部分，其中所說明的部分與圖6中的情形相同。在圖7的實施例中，轉子結構710由相對于彼此堆疊的多個轉子形成。第一轉子711包含兩個對置葉片。第二轉子713包含三個葉片，其中所述三個葉片中的每一者具有分開120度的中心軸線。轉子結構經定位使得葉片抵著接觸表面715擦刷。轉子的葉片包含金屬，且接觸表面包含電絕緣體，或反過來也一樣。
[0036]圖8說明類似于圖1的實施例的另一實施例的部分，其中所說明的部分與圖6中的情形相同。在圖8的實施例中，轉子811具有通過無材料的間隙分離的四個葉片，例如葉片813。轉子經定位使得葉片擦刷接觸表面815。如同其它實施例，葉片或接觸表面為金屬或電絕緣材料，而葉片或接觸表面中的另一者是相反的。
[0037]圖8說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一實施例的部分。圖8中所說明的部分在大部分實施例中在提供受控流體壓力環(huán)境的外殼內，所述受控流體壓力環(huán)境在大部分實施例中為低于大氣壓力的環(huán)境。
[0038]在圖8中，隔膜913與轉子911的面919的一部分接觸。轉子通過主軸915耦合到電機以引起轉子的旋轉，但是在各種實施例中，可使用其它驅動系統(tǒng)來弓I起轉子的旋轉。隔膜及面與隔膜接觸的部分一股垂直于轉子的旋轉軸線，在一些實施例中，旋轉軸線與主軸的軸線重合。隔膜在大部分實施例中為電絕緣材料，且在一些實施例中可為聚合材料。在大部分實施例中，隔膜或隔膜與轉子接觸的至少部分以其它方式與地絕緣。轉子的面與隔膜接觸的部分在大部分實施例中是金屬的，包含金屬或金屬合金。
[0039]轉子的面包含表面不連續(xù)性，其中所述表面不連續(xù)性呈遠離所述面與隔膜接觸的部分傾斜的斜面921的形式。在操作中，轉子的旋轉導致轉子的面與隔膜接觸的部分跨隔膜的表面的區(qū)域而掃掠。如可參見(例如)圖10的對應側視圖，對于隔膜的表面的區(qū)域，轉子與隔膜之間的接觸是斷斷續(xù)續(xù)性的，這是因為轉子的面上的斜面一股并不接觸隔膜。所述斜面包含金屬表面，且一股可在產生高能輻射中用作電子標靶。所述金屬表面可為不同于轉子的面與隔膜接觸的部分的金屬或金屬合金的金屬或金屬合金。所述斜面用作供通過轉子與隔膜之間的滑動摩擦接觸產生的摩擦起電電荷進行放電的電子標靶，選擇斜面的不同金屬表面可有益于確定所產生的高能輻射的特性。
[0040]圖11說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一轉子1111，其中主軸1113從轉子的后部延伸以指示轉子的旋轉軸線。轉子在轉子的面上包含接觸表面1115。在包含轉子的裝置的操作期間，隨著轉子旋轉，接觸表面一股希望與隔膜呈滑動摩擦接觸。接觸表面在大部分實施例中是金屬的。
[0041]轉子的面包含階梯，其中面的凹陷部分形成凸緣，凸緣1117的表面通過豎板1119連接到接觸表面。凸緣的表面是金屬的。認為凸緣的表面在裝置的操作期間在產生高能輻射中用作電子標靶，且實際上可為僅有的標靶，且因此可基于對用于凸緣的表面的各種金屬的選擇來選擇所產生的高能輻射的特性。此外，各種實施例可在接觸表面與凸緣表面的水平面之間具有不同距離，即，可被視為豎板的高度的距離。在此類各種實施例中，對于用于凸緣的相同表面材料，不同距離可使所產生的高能輻射具有不同量值。
[0042]圖12說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一轉子，其中主軸1211從轉子的后部延伸以指示轉子的旋轉軸線。圖12的轉子包含呈圓柱形形式的底座1213。底座的表面1219背離從底座的后部延伸的主軸1211。按矩形盒子的形式展示的掃掠器1215從底座突出，且包含離底座最遠的前表面1217。所述前表面形成掃掠器，其希望在包含轉子的裝置的操作期間(在此期間轉子旋轉)跨隔膜的部分摩擦掃掠。
[0043]在大部分實施例中，所述前表面是金屬的。底座的表面1219也是金屬的，但是可為不同于前表面的金屬或金屬合金的金屬或金屬合金。如同圖11的實施例，認為底座的表面在所述裝置的操作期間用作電子標靶，其中電子源于由隔膜與轉子的前表面之間的滑動摩擦接觸產生的摩擦起電充電的放電。
[0044]圖13說明根據(jù)本發(fā)明的方面的裝置。圖13的裝置包含容器1311。所述容器包含沿著容器的一端的多個匣體13153到1315(1。所述匣體中的每一者包含高能輻射產生器，例如如本文所論述，或具有如本文論述的特征或特征的組合。容器的頂部1313(或在一些實施例中，所述匣體的頂部)包含用于每一匣體的窗口，其中用于匣體1315。的窗口是通過參考數(shù)字1317來識別。在大部分實施例中，對于每一匣體，窗口接近且一股平行于匣體的輻射產生裝置內的隔膜而定位。
[0045]圖13的裝置因此包含高能輻射產生器的線性陣列。在一些實施例中，由于多種原因(包含輻射的潛在地增加的量值)，因此高能輻射產生器的陣列的使用可能為有用的。然而，在各種實施例中，可使用除簡單的線性陣列以外的陣列。例如，在一些實施例中，陣列可呈彎曲陣列的形式，其中(例如)陣列的元件在一些實施例中指向共同焦點且在其它實施例中遠離共同焦點。類似地，在一些實施例中，利用線性陣列的多行以(例如)提供平面的或二維陣列，且此類陣列同樣還可呈彎曲表面的形式。
[0046]圖14說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一高能輻射產生器。圖14的裝置類似于圖1的裝置。因此，圖14的裝置具有經定位以通過轉子1415的葉片擦刷的隔膜1413。轉子圍繞主軸1417旋轉，其中隔膜及轉子在外殼1411內。然而，圖14的裝置包含用于轉子的不同于圖1的裝置的驅動機構。
[0047]圖14的裝置的驅動機構使用磁性耦合來引起轉子的旋轉。如圖14中所說明，外殼外部的磁性驅動器1421產生旋轉磁場，其導致磁體的對應旋轉或在外殼內的接收器1419內的其它旋轉。主軸耦合到接收器，且通過接收器引起主軸旋轉且因此引起轉子旋轉。使用此類替代性驅動機構可有益于維持外殼內的受控流體壓力。
[0048]在一些實施例中，可能并不將接收器作為離散組件來提供。在一些實施例中，例如，可改為將磁體嵌入轉子中或附接到轉子，其中轉子安裝到主軸，主軸在一些實施例中又耦合到外殼。
[0049]圖15說明根據(jù)本發(fā)明的方面的另一轉子1511，其中主軸1513從轉子的后部延伸以指示轉子的旋轉軸線。轉子包含從轉子的中心區(qū)域1517延伸的多個臂1515。所述臂的面(例如，面1519)希望用作用于接觸(例如本文所論述)高能輻射裝置的隔膜的接觸表面。在各種實施例中利用四個以上臂，且在一些實施例中利用四個以下臂。在一些實施例中，所述臂可(例如)在通過轉子的面界定或平行于轉子的面的平面中具有曲率，且在一些實施例中，所述臂的面可為彎曲的，例如，常常為具有螺旋槳的情況。
[0050]在可利用圖15的轉子的高能輻射裝置的一些實施例中，固定電子標靶定位于外殼中在轉子后面，即，其中轉子定位于隔膜與電子標靶之間。在一些實施例(例如，其中使用高能輻射產生器作為X射線熒光“即)裝置的部分的實施例)中，電子標靶可為經受測量的樣本。在此類實施例中，例如，可使用樣本固持器來將樣本固持在轉子后面的位置中。樣本的此類定位就可使用電子激發(fā)的X射線熒光來說可能為有益的，從而潛在地允許測量準確度高于X射線激發(fā)的X射線熒光的測量準確度。
[0051] 因此，雖然已關于各種實施例論述本發(fā)明，但是應認識到，本發(fā)明包括本發(fā)明所支持的新穎且非顯而易見的權利要求書。
【權利要求】
1.一種可用于產生高能輻射的裝置，其包括: 外殼，其包含用于至少部分地抽空大氣壓的所述外殼的至少一個端口，所述外殼的至少一部分對高能福射實質上透通； 所述外殼內的第一物體；以及 所述外殼內的第二材料，所述第二材料與地絕緣； 所述第一物體的至少部分或所述第二材料的至少部分可相對于彼此移動以便在所述第一材料與所述第二材料之間產生滑動摩擦接觸。
2.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述第二材料包括電絕緣材料且所述第一物體包含提供用于產生高能輻射的電子標靶的至少一個金屬表面。
3.根據(jù)權利要求2所述的裝置，其中所述至少一個金屬表面或所述第二材料中的一者的至少部分可相對于彼此移動以便在所述兩者之間產生摩擦接觸。
4.根據(jù)權利要求2所述的裝置，其中所述第一物體包括轉子。
5.根據(jù)權利要求4所述的裝置，其中所述轉子可相對于所述第二材料移動以便在所述轉子與所述第二材料之間產生摩擦接觸。
6.根據(jù)權利要求5所述的裝置，其中所述轉子的所述至少一個金屬表面的至少部分在可移動以與所述第二材料呈摩擦接觸的所述轉子的一部分上。
7.根據(jù)權利要求5所述的裝置，其中所述轉子的所述至少一個金屬表面中的至少一者在不可移動以與所述第二材料呈摩擦接觸的所述轉子的一部分上。
8.根據(jù)權利要求7所述的裝置，其中所述轉子的所述至少一個金屬表面中的所述至少一者提供用于產生高能輻射的電子標靶。
9.根據(jù)權利要求5所述的裝置，其中所述至少一個金屬表面包括至少兩個金屬表面。
10.根據(jù)權利要求9所述的裝置，其中所述轉子包含至少兩個葉片，其中所述至少兩個金屬表面中的第一表面在所述至少兩個葉片中的第一葉片上，且所述至少兩個金屬表面中的第二表面在所述至少兩個葉片中的第二葉片上。
11.根據(jù)權利要求10所述的裝置，其中所述第一金屬表面包含第一金屬且所述第二金屬表面包含第二金屬，所述第一金屬與所述第二金屬是不同的金屬。
12.根據(jù)權利要求4所述的裝置，其中所述轉子包含至少一個磁體。
13.根據(jù)權利要求12所述的裝置，其進一步包括在所述外殼外部的磁性驅動組合件。
14.根據(jù)權利要求4所述的裝置，其進一步包括耦合到所述轉子的主軸。
15.根據(jù)權利要求14所述的裝置，其中所述主軸耦合到所述外殼。
16.根據(jù)權利要求14所述的裝置，其中所述主軸耦合到電機。
17.根據(jù)權利要求1所述的裝置，其中所述電絕緣材料呈隔膜的形式。
18.一種高能輻射產生裝置，其包括: 外殼，其通?？擅芊庖员闾峁┦芸亓黧w壓力環(huán)境； 隔膜，其安裝在所述外殼內；以及 轉子，其旋轉地安裝在所述外殼內使得所述轉子的至少一個部分可抵著所述隔膜的至少一部分滑動； 其中所述隔膜的所述部分及所述轉子的所述部分中的至少一者包含與地絕緣的材料，且所述隔膜的所述部分及所述轉子的所述部分中的另一者包含導電材料。
19.根據(jù)權利要求18所述的裝置，其中所述導電材料為金屬。
20.根據(jù)權利要求18所述的裝置，其中所述轉子的所述部分包含實質上正交于所述轉子的旋轉軸線的一部分。
21.根據(jù)權利要求20所述的裝置，其中所述轉子包含面朝所述隔膜的面，所述面的至少一部分經定位而與所述隔膜呈滑動接觸，所述面具有至少一個水平面不連續(xù)性。
22.根據(jù)權利要求21所述的裝置，其中所述面中的所述水平面不連續(xù)性提供遠離經定位而與所述隔膜呈滑動接觸的所述面的所述部分的表面。
23.根據(jù)權利要求22所述的裝置，其中所述面下方的所述表面包含金屬。
24.根據(jù)權利要求23所述的裝置，其中所述面下方的所述表面提供用于產生高能輻射的電子標靶。
25.根據(jù)權利要求24所述的裝置，其中所述高能輻射包括X射線。
26.根據(jù)權利要求21所述的裝置，其中所述面中的所述水平面不連續(xù)性提供凸緣。
27.根據(jù)權利要求21所述的裝置，其中所述面中的所述水平面不連續(xù)性形成斜面。
28.根據(jù)權利要求18所述的裝置，其中所述轉子的所述部分包含實質上平行于所述轉子的旋轉軸線的一部分。
29.根據(jù)權利要求28所述的裝置，其中所述轉子的所述部分包括所述轉子的至少一個葉片的部分。
30.根據(jù)權利要求28所述的裝置，其中所述轉子的所述部分包括所述轉子的至少兩個葉片的部分。
31.根據(jù)權利要求30所述的裝置，其中所述轉子的所述部分包含至少一個金屬。
32.根據(jù)權利要求30所述的裝置，其中所述至少兩個葉片中的第一葉片包含第一金屬且所述至少兩個葉片中的第二葉片包含第二金屬。
33.根據(jù)權利要求30所述的裝置，其中所述至少兩個葉片包括至少四個葉片。
34.一種產生高能輻射的方法，其包括: 使第一材料抵著第二材料的表面的區(qū)域擦刷，所述第一材料與所述第二材料是不同的材料，所述第二材料與地絕緣； 在低壓環(huán)境中，從所述第二材料的所述表面的所述區(qū)域接近包括金屬表面的電子標靶處移除所述第一材料。
【文檔編號】H05G1/52GK104412716SQ201380031610
【公開日】2015年3月11日 申請日期:2013年6月12日 優(yōu)先權日:2012年6月14日
【發(fā)明者】卡洛斯·卡馬拉, 馬克·瓦倫丁 申請人:摩擦透視公司