一種激光雕刻屏蔽膜的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種激光雕刻屏蔽膜，依次包括保護層、用于激光雕像的金屬膜層、用于粘接的第一膠黏層、屏蔽電磁波的屏蔽層、用于粘接的第二膠黏層。本實用新型的激光雕刻屏蔽膜，經(jīng)過此類處理后，可直接進行印刷以及激光雕刻等人為的信息存儲，不需要對制作完成的材料進行再處理后再進行信息的存儲。
【專利說明】一種激光雕刻屏蔽膜

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種屏蔽膜，尤其涉及一種用于激光雕刻的屏蔽膜。

【背景技術】
[0002]隨著電子產(chǎn)品的發(fā)展，屏蔽越來越廣泛應用于電子產(chǎn)品及工業(yè)生產(chǎn)中。目前的屏蔽通常不具備標注信息和信息存儲的功能，需要經(jīng)過二次處理后才具有一定的存儲信息的功能。這種二次處理通常為在其表面設置一層標注層，這種屏蔽膜使用過程中容易刮花，使標注息容易丟失。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型解決的技術問題是:構建一種激光雕刻屏蔽膜，克服現(xiàn)有技術屏蔽膜不具備激光雕刻層，導致使用效果不佳的技術問題。
[0004]本實用新型的技術方案是:構建一種激光雕刻屏蔽膜，依次包括保護層、用于激光雕像的金屬膜層、用于粘接的第一膠黏層、屏蔽電磁波的屏蔽層、用于粘接的第二膠黏層。
[0005]本實用新型的進一步技術方案是:所述保護層為涂布在所述金屬膜層上的保護涂層。
[0006]本實用新型的進一步技術方案是:所述金屬膜層通過的所述第一膠黏層與所述屏蔽層粘接。
[0007]本實用新型的進一步技術方案是:還包括離型層，所述離型層與所述第二膠黏層粘接。
[0008]本實用新型的進一步技術方案是:所述保護層的厚度范圍為0.05 um至20um。
[0009]本實用新型的進一步技術方案是:所述金屬膜層的厚度范圍為0.5 um至500um。
[0010]本實用新型的進一步技術方案是:所述第一膠黏層的厚度范圍為0.5 um至10um0
[0011]本實用新型的進一步技術方案是:所述屏蔽層的厚度范圍為5um至500um。
[0012]本實用新型的進一步技術方案是:所述第二膠黏層的厚度范圍為Ium至lOOum。
[0013]本實用新型的進一步技術方案是:所述離型層的厚度范圍為Ium至lOOum。
[0014]本實用新型的技術效果是:構建一種激光雕刻屏蔽膜，依次包括保護層、用于激光雕像的金屬膜層、用于粘接的第一膠黏層、屏蔽電磁波的屏蔽層、用于粘接的第二膠黏層。本實用新型的激光雕刻屏蔽膜，經(jīng)過此類處理后，可直接進行印刷以及激光雕刻等人為的信息存儲，不需要對制作完成的材料進行再處理后再進行信息的存儲。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1為本實用新型的結構示意圖。

【具體實施方式】
[0016]下面結合具體實施例，對本實用新型技術方案進一步說明。
[0017]如圖1所示，本實用新型的【具體實施方式】是:構建一種激光雕刻屏蔽膜，依次包括保護層1、用于激光雕像的金屬膜層2、用于粘接的第一膠黏層3、屏蔽電磁波的屏蔽層4、用于粘接的第二膠黏層5。
[0018]如圖1所示，本實用新型的具體實施過程是:構建一種激光雕刻屏蔽膜，制作時，采用導電布、覆PET膜的鋁箔和銅箔中的任何一種形成屏蔽電磁波的所述屏蔽層4，所述屏蔽層4的厚度范圍為5um至500um，在屏蔽電磁波的屏蔽層4的一面涂覆第一膠黏層3，然后將用于激光雕像的金屬膜層2與所述第一膠黏層3貼合，即，所述金屬膜層2通過的所述第一膠黏層3與所述屏蔽層4粘接，所述金屬膜層2為可用于激光雕刻的金屬膜層材料形成，所述第一膠黏層3的厚度范圍為0.5 um至lOOum。在所述金屬膜層2設置保護層1，用于保護金屬膜層2，所述金屬膜層2的主要作用用于激光雕刻，存儲激光雕刻的信息，同時也對激光雕刻屏蔽膜的屏蔽效能有一定的增強性，所述金屬膜層2的厚度范圍為0.5 um至500um。同時也反襯所述金屬膜層2的激光雕刻信息。在所述屏蔽層4的另一面設置用于粘接的第二膠黏層5，所述第二膠黏層5用于與離型層6或其它載體粘接，所述第二膠黏層5的厚度范圍為Ium至lOOum。具體實施例中，所述保護層I為涂布在所述金屬膜層2上的保護涂層，所述保護層I的材料包括:水性涂料、油性涂料、UV類涂料等透明度非常好的涂料，用于保護用于激光雕像的金屬膜層2。所述保護層I的厚度范圍為0.05 um至20um。所述第一膠黏層3和所述第二膠黏層5為壓敏膠等膠黏材料制作。
[0019]如圖1所示，本實用新型的優(yōu)選實施方式是:還包括離型層6，所述離型層6與所述第二膠黏層5粘接。所述離型層6的厚度范圍為Ium至lOOum。第一離型層6為涂覆二甲基硅油的PET樹脂膜、格拉辛紙、牛皮紙中任意一種形成。
[0020]本實用新型的技術效果是:構建一種激光雕刻屏蔽膜，依次包括保護層1、用于激光雕像的金屬膜層2、用于粘接的第一膠黏層3、屏蔽電磁波的屏蔽層4、用于粘接的第二膠黏層5。本實用新型的激光雕刻屏蔽膜，經(jīng)過此類處理后，可直接進行印刷以及激光雕刻等人為的信息存儲，不需要對制作完成的材料進行再處理后再進行信息的存儲。
[0021]以上內(nèi)容是結合具體的優(yōu)選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬【技術領域】的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1.一種激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，依次包括保護層、用于激光雕像的金屬膜層、用于粘接的第一膠黏層、屏蔽電磁波的屏蔽層、用于粘接的第二膠黏層。
2.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述保護層為涂布在所述金屬膜層上的保護涂層。
3.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述金屬膜層通過的所述第一膠黏層與所述屏蔽層粘接。
4.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，還包括離型層，所述離型層與所述第二膠黏層粘接。
5.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述保護層的厚度范圍為0.05um 至 20um。
6.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述金屬膜層的厚度范圍為0.5um 至 500umo
7.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述第一膠黏層的厚度范圍為0.5 um 至 lOOum。
8.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述屏蔽層的厚度范圍為5um至 500umo
9.根據(jù)權利要求1所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述第二膠黏層的厚度范圍為Ium 至 lOOum。
10.根據(jù)權利要求4所述激光雕刻屏蔽膜，其特征在于，所述離型層的厚度范圍為Ium至 10um0
【文檔編號】H05K9/00GK203840698SQ201320666223
【公開日】2014年9月17日 申請日期:2013年10月28日 優(yōu)先權日:2013年10月28日
【發(fā)明者】朱向忠 申請人:朱向忠