專利名稱：一種雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)及區(qū)熔單晶爐的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及區(qū)熔單晶硅生長(zhǎng)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)及區(qū)熔單晶爐。
背景技術(shù)：
區(qū)熔單晶硅在被應(yīng)用到微波通訊、雷達(dá)、導(dǎo)航、測(cè)控、醫(yī)學(xué)、高功率電站等領(lǐng)域之前，都需要經(jīng)過(guò)摻雜，調(diào)整晶體內(nèi)部的電阻率。目前使用的摻雜技術(shù)主要為中子嬗變摻雜和氣相摻雜。中子嬗變摻雜的準(zhǔn)確率高，但是摻雜是一個(gè)核反應(yīng)過(guò)程，還需要消除放射性處理及熱處理，增加工序的同時(shí)提高了區(qū)熔硅單晶的成本。另外的一種摻雜方法是氣相摻雜，直接在晶體生長(zhǎng)的過(guò)程中將摻雜劑通過(guò)保護(hù)氣體摻雜到晶體內(nèi)部。但是，目前氣相摻雜電阻率的端面均一性不是特別好，主要原因之一是受限于工藝設(shè)備?，F(xiàn)有技術(shù)的區(qū)熔單晶爐中，上傳動(dòng)的上軸只可以沿前后方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)，或者只能沿左右方向進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng)，而不能同時(shí)實(shí)現(xiàn)前后左右四個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，因此攪拌熔區(qū)不充分，氣相摻雜的端面均勻性很難提高，晶體的高品質(zhì)難以保證。另外，在拉制大直徑硅單晶時(shí)，需要保證原料多晶硅棒和加熱線圈一直保持同心，傳統(tǒng)的機(jī)構(gòu)中，只有一個(gè)方向可以自動(dòng)調(diào)整，另一個(gè)方向必需要在停爐時(shí)手動(dòng)調(diào)整，操作很不方便。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種用于區(qū)熔單晶爐的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，能夠?qū)崿F(xiàn)區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)中的上軸多個(gè)方向上的運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)上軸在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌，同時(shí)可以在拉晶時(shí)根據(jù)需要隨時(shí)調(diào)整上傳動(dòng)的上軸的位置，操作方便，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)的上軸自動(dòng)對(duì)中，提聞拉制單晶娃的成品率和氣相慘雜的端面均勻性，保證晶體的聞品質(zhì)。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案一種用于區(qū)熔單晶爐的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括平動(dòng)下板，固定于所述區(qū)熔單晶爐的上爐室；平動(dòng)中板，與所述平動(dòng)下板滑動(dòng)裝配；平動(dòng)上板，與所述區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)固定連接，且與所述平動(dòng)中板滑動(dòng)裝配；驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)中板滑動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置，與所述平動(dòng)下板相對(duì)固定；驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置，與所述平動(dòng)中板相對(duì)固定；所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板的滑動(dòng)方向與所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板的滑動(dòng)方向相互交叉；所述平動(dòng)上板、所述平動(dòng)中板和所述平動(dòng)下板均具有貫穿其厚度方向的通孔。優(yōu)選地，所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板的滑動(dòng)方向與所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板的滑動(dòng)方向相互垂直。優(yōu)選地，所述平動(dòng)中板與所述平動(dòng)下板之間通過(guò)至少一對(duì)相互配合的滑槽和軌道滑動(dòng)裝配。優(yōu)選地，所述平動(dòng)上板與所述平動(dòng)中板之間通過(guò)至少一對(duì)相互配合的滑槽和軌道滑動(dòng)裝配。優(yōu)選地，所述平動(dòng)中板、所述平動(dòng)下板之間的滑槽和軌道為兩對(duì)。優(yōu)選地，所述平動(dòng)上板、所述平動(dòng)中板之間的滑槽和軌道為兩對(duì)。優(yōu)選地，所述驅(qū)動(dòng)裝置為電機(jī)，所述電機(jī)的輸出端通過(guò)減速器和滾珠絲杠副驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板和所述平動(dòng)中板運(yùn)動(dòng)。
優(yōu)選地，所述平動(dòng)上板具有的通孔的內(nèi)表面與上傳動(dòng)的上軸外表面相互貼合。本發(fā)明還提供了一種區(qū)熔單晶爐，包括上爐室和上傳動(dòng)，還包括上述技術(shù)中提到的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)。本發(fā)明提供的一種用于區(qū)熔單晶爐的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括平動(dòng)下板，固定于所述區(qū)熔單晶爐的上爐室；平動(dòng)中板，與所述平動(dòng)下板滑動(dòng)裝配；平動(dòng)上板，與所述區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)固定連接，且與所述平動(dòng)中板滑動(dòng)裝配；驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)中板滑動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置，與所述平動(dòng)下板相對(duì)固定；驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置，與所述平動(dòng)中板相對(duì)固定；所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板的滑動(dòng)方向與所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板的滑動(dòng)方向相互交叉；所述平動(dòng)上板、所述平動(dòng)中板和所述平動(dòng)下板均具有貫穿其厚度方向的通孔。本發(fā)明提供的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述平動(dòng)下板固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室，所述平動(dòng)上板固定于區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)，區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)的上軸穿過(guò)所述平動(dòng)上板、平動(dòng)中板和平動(dòng)下板上的通孔，進(jìn)入?yún)^(qū)熔單晶爐的上爐室內(nèi)，所述平動(dòng)中板的一端設(shè)有支撐板，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置固定在所述支撐板背離所述平動(dòng)中板的一端，實(shí)現(xiàn)與所述平動(dòng)中板相對(duì)固定，所述平動(dòng)下板的一端設(shè)有支撐板，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置固定在所述支撐板背離所述平動(dòng)下板的一端，實(shí)現(xiàn)與所述平動(dòng)下板相對(duì)固定，當(dāng)所述第二驅(qū)動(dòng)裝置工作，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置不工作時(shí)，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板前后方向(或左右方向)滑動(dòng)，所述平動(dòng)上板帶動(dòng)上傳動(dòng)運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)的上軸在區(qū)熔單晶爐的上爐室中前后方向(或左右方向)移動(dòng)；當(dāng)所述第一驅(qū)動(dòng)裝置工作，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置不工作時(shí)，所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板靜止，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板左右方向(或前后方向)滑動(dòng)時(shí)，所述平動(dòng)上板隨著所述平動(dòng)中板一起相對(duì)所述平動(dòng)下板左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，所述平動(dòng)上板帶動(dòng)上傳動(dòng)運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)中的上軸在區(qū)熔單晶爐的上爐室中左右方向(或前后方向)上移動(dòng)；當(dāng)所述第一驅(qū)動(dòng)裝置和所述第二驅(qū)動(dòng)裝置同時(shí)工作時(shí)，所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板前后方向(或左右方向)滑動(dòng)的同時(shí)，隨著所述平動(dòng)中板左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，此時(shí)，所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)下板斜向運(yùn)動(dòng)，因此，根據(jù)對(duì)第一驅(qū)動(dòng)裝置和第二驅(qū)動(dòng)裝置的控制，可以使所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)下板進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，由于平動(dòng)下板固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室，平動(dòng)上板與上傳動(dòng)固定連接，因此，上傳動(dòng)的上軸可以相對(duì)上爐室在多個(gè)方向上運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌。所以，本發(fā)明提供的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)的上軸進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)上軸在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌，同時(shí)可以在拉晶時(shí)根據(jù)需要隨時(shí)調(diào)整上傳動(dòng)的上軸的位置，操作方便，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)的上軸自動(dòng)對(duì)中，提高拉制單晶硅的成品率和氣相摻雜的端面均勻性，保證晶體的高品質(zhì)。本發(fā)明還提供了一種區(qū)熔單晶爐，包括上爐室和上傳動(dòng)，還包括上述技術(shù)中提到的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)。本發(fā)明提供的區(qū)熔單晶爐，具有上述技術(shù)中提到的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述平動(dòng)下板固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室，所述平動(dòng)上板固定于區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)，區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)的上軸穿過(guò)所述平動(dòng)上板、平動(dòng)中板和平動(dòng)下板上的通孔，進(jìn)入?yún)^(qū)熔單晶爐的上爐室內(nèi)，所述平動(dòng)中板的一端設(shè)有支撐板，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置固定在所述支撐板背離所述平動(dòng)中板的一端，實(shí)現(xiàn)與所述平動(dòng)中板相對(duì)固定，所述平動(dòng)下板的一端設(shè)有支撐板，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置固定在所述支撐板背離所述平動(dòng)下板的一端，實(shí)現(xiàn)與所述平動(dòng)下板相對(duì)固定，當(dāng)所述第二驅(qū)動(dòng)裝置工作，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置不工作時(shí)，所述第二驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板前后方向(或左右方向)滑動(dòng)，所述平動(dòng)上板帶動(dòng)上傳動(dòng)運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)中的上軸在區(qū)熔單晶爐的上爐室中前后方向(或左右方向)移動(dòng)；當(dāng)所述第一驅(qū)動(dòng)裝置工作， 所述第二驅(qū)動(dòng)裝置不工作時(shí)，所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板靜止，所述第一驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板左右方向(或前后方向)滑動(dòng)時(shí)，所述平動(dòng)上板隨著所述平動(dòng)中板一起相對(duì)所述平動(dòng)下板左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，所述平動(dòng)上板帶動(dòng)上傳動(dòng)運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)的上軸在區(qū)熔單晶爐的上爐室中左右方向(或前后方向)上移動(dòng)；當(dāng)所述第一驅(qū)動(dòng)裝置和所述第二驅(qū)動(dòng)裝置同時(shí)工作時(shí)，所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板前后方向(或左右方向)滑動(dòng)的同時(shí)，隨著所述平動(dòng)中板左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，此時(shí)，所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)下板斜向運(yùn)動(dòng)，因此，根據(jù)對(duì)第一驅(qū)動(dòng)裝置和第二驅(qū)動(dòng)裝置的控制，可以使所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)下板進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，由于平動(dòng)下板固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室，平動(dòng)上板與上傳動(dòng)固定連接，因此，上傳動(dòng)的上軸可以在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌，同時(shí)可以在拉晶時(shí)根據(jù)需要隨時(shí)調(diào)整上傳動(dòng)的上軸的位置，操作方便，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)的上軸自動(dòng)對(duì)中，提聞拉制單晶娃的成品率和氣相慘雜的端面均勻性，保證晶體的聞品質(zhì)。


圖I為本發(fā)明提供的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖I所示雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)的A向示意圖；圖3為圖I所示雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)的B向示意圖；圖4為本發(fā)明提供的區(qū)熔單晶爐內(nèi)部剖面圖；圖5為本發(fā)明提供的區(qū)熔單晶爐結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
請(qǐng)參考圖I、圖2、圖3和圖4;其中，圖I為本發(fā)明提供的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖I所示雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)的A向示意圖；圖3為圖I所示雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)的B向示意圖；圖4為本發(fā)明提供的區(qū)熔單晶爐內(nèi)部剖面圖。實(shí)施例一本實(shí)施例提供的一種用于區(qū)熔單晶爐的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，如圖I所示，包括平動(dòng)下板3，固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室7 ；平動(dòng)中板4，與平動(dòng)下板3滑動(dòng)裝配；平動(dòng)上板5，與區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)6固定連接，且與平動(dòng)中板4滑動(dòng)裝配；驅(qū)動(dòng)平動(dòng)中板4滑動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置2，與平動(dòng)下板3相對(duì)固定；
驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板5滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置1，與平動(dòng)中板4相對(duì)固定；平動(dòng)中板4相對(duì)平動(dòng)下板3的滑動(dòng)方向與平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4的滑動(dòng)方向相互交叉；平動(dòng)上板5、平動(dòng)中板4和平動(dòng)下板3均具有貫穿其厚度方向的通孔。本發(fā)明提供的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，如圖3和圖4所示，平動(dòng)下板3固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室7，平動(dòng)上板5固定于區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)6，區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)6的上軸61穿過(guò)平動(dòng)上板5、平動(dòng)中板4和平動(dòng)下板3上的通孔，進(jìn)入?yún)^(qū)熔單晶爐的上爐室7內(nèi)，平動(dòng)中板4的一端設(shè)有支撐板，第二驅(qū)動(dòng)裝置I固定在支撐板背離雙平動(dòng)中板4的一端，實(shí)現(xiàn)與平動(dòng)中板4相對(duì)固定，平動(dòng)下板3的一端設(shè)有支撐板，第一驅(qū)動(dòng)裝置3固定在支撐板背離平動(dòng)下板3的一端，實(shí)現(xiàn)與平動(dòng)下板3相對(duì)固定，當(dāng)?shù)诙?qū)動(dòng)裝置I工作，第一驅(qū)動(dòng)裝置2不工作時(shí)，第二驅(qū)動(dòng)裝置I驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng)，平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中前后方向(或左右方向)移動(dòng)；當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2工作，第二驅(qū)動(dòng)裝置不工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4靜止，第一驅(qū)動(dòng)裝置2驅(qū)動(dòng)平動(dòng)中板4相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)時(shí)，平動(dòng)上板5隨著平動(dòng)中板4 一起相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中左右方向(或前后方向)上移動(dòng)；當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I同時(shí)工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng)的同時(shí)，隨著平動(dòng)中板4左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，此時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)下板3斜向運(yùn)動(dòng)，根據(jù)對(duì)第一驅(qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I的控制，可以使平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)下板3進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，由于平動(dòng)下板3固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室7，平動(dòng)上板5與上傳動(dòng)6固定連接，因此，上傳動(dòng)6的上軸61可以相對(duì)上爐室7在多個(gè)方向上運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌。所以，本發(fā)明提供的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)6的上軸61進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)上軸61在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌，同時(shí)可以在拉晶時(shí)根據(jù)需要隨時(shí)調(diào)整上傳動(dòng)6的上軸61的位置，操作方便，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61自動(dòng)對(duì)中，提聞拉制單晶娃的成品率和氣相慘雜的端面均勻性，保證晶體的聞品質(zhì)。為了便于制造和裝配，優(yōu)選地，平動(dòng)中板4相對(duì)平動(dòng)下板3的滑動(dòng)方向與平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4的滑動(dòng)方向相互垂直。優(yōu)選的實(shí)施方案中，具體地，如圖2所示，平動(dòng)中板4與平動(dòng)下板3之間通過(guò)至少一對(duì)相互配合的滑槽和軌道滑動(dòng)裝配。當(dāng)?shù)诙?qū)動(dòng)裝置I工作，第一驅(qū)動(dòng)裝置2不工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板靜止，第二驅(qū)動(dòng)裝置I驅(qū)動(dòng)平動(dòng)中板4可以沿著軌道41相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)時(shí)，平動(dòng)上板5隨著平動(dòng)中板4 一起相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中左右方向(或前后方向)上移動(dòng)。具體地，如圖I所示,平動(dòng)上板5與平動(dòng)中板4之間通過(guò)至少一對(duì)相互配合的滑槽和軌道滑動(dòng)裝配。當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2工作，第二驅(qū)動(dòng)裝置I不工作時(shí)，第一驅(qū)動(dòng)裝置2驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板5可以沿著軌道51相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng)，平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐子前后方向(或左右方向)滑動(dòng)。
具體地，平動(dòng)中板4、平動(dòng)下板3之間的滑槽和軌道為兩對(duì)。便于平動(dòng)中板4穩(wěn)定的滑動(dòng)。具體地，平動(dòng)上板5、平動(dòng)中板4之間的滑槽和軌道為兩對(duì)。便于平動(dòng)上板5穩(wěn)定的滑動(dòng)。具體地，驅(qū)動(dòng)裝置為電機(jī)，電機(jī)的輸出端通過(guò)減速器和滾珠絲杠副驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板5和平動(dòng)中板4運(yùn)動(dòng)。平動(dòng)中板4的一端設(shè)有支撐板，第二驅(qū)動(dòng)裝置I固定在支撐板背離雙平動(dòng)中板4的一端，實(shí)現(xiàn)與平動(dòng)中板4相對(duì)固定，平動(dòng)下板3的一端設(shè)有支撐板，第一驅(qū)動(dòng)裝置3固定在支撐板背離平動(dòng)下板3的一端，實(shí)現(xiàn)與平動(dòng)下板3相對(duì)固定，當(dāng)?shù)诙?qū)動(dòng)裝置I工作，第一驅(qū)動(dòng)裝置2不工作時(shí)，第二驅(qū)動(dòng)裝置I的輸出端通過(guò)減速器11和滾珠絲杠副12驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng),平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)的上軸I在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中前后方向(或左右方向)移動(dòng)；當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2工作，第二驅(qū)動(dòng)裝置I不工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4靜止，第一驅(qū)動(dòng)裝置2的輸出端通過(guò)減速器21和滾珠絲杠副22驅(qū)動(dòng)平動(dòng)中板4相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)時(shí)，平動(dòng)上板5隨著平動(dòng)中板4 一起相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中左右方向(或前后方向)上移動(dòng)；當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I同時(shí)工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng)的同時(shí)，隨著平動(dòng)中板4左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，此時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)下板3斜向運(yùn)動(dòng)，根據(jù)對(duì)第一驅(qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I的控制，可以使平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)下板3進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，由于平動(dòng)下板3固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室7，平動(dòng)上板5與上傳動(dòng)6固定連接，因此，上傳動(dòng)6的上軸61可以相對(duì)上爐室7在多個(gè)方向上運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而在多個(gè)方向上對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行攪拌。當(dāng)然，第一驅(qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I也可以為其他裝置，如馬達(dá)等，第一驅(qū)動(dòng)裝置2的輸出端和第二驅(qū)動(dòng)裝置I的輸出端也可以通過(guò)連桿機(jī)構(gòu)等對(duì)平動(dòng)中板4和平動(dòng)上板5驅(qū)動(dòng)，這里就不再一一贅述。具體地,如圖4所示，平動(dòng)上板5具有的通孔52的內(nèi)表面與上傳動(dòng)6的上軸61外表面相互貼合。使上傳動(dòng)6的上軸61卡緊在平動(dòng)上板5具有的通孔52內(nèi)，使攪拌平穩(wěn)。當(dāng)然，平動(dòng)上板5上的通孔52與平動(dòng)中板4和平動(dòng)下板3上的通孔42、32的大小可以相同，也可以不同，平動(dòng)上板5上的通孔52可以為圓形，通孔孔52的直徑與上傳動(dòng)6的上軸61的直徑相同，平動(dòng)中板4上的空隙42和平動(dòng)中板3上的空隙32大于上傳動(dòng)6的上軸61的直徑，以便于上傳動(dòng)6的上軸61的運(yùn)動(dòng)。實(shí)施例二
本發(fā)明還提供了一種區(qū)熔單晶爐，如圖5所示，包括上爐室7和上傳動(dòng)6，還包括上述技術(shù)中提到的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)。本發(fā)明提供的區(qū)熔單晶爐，具有上述技術(shù)中提到的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，平動(dòng)下板3固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室7，平動(dòng)上板5固定于區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)6，區(qū)熔單晶爐上傳動(dòng)6的上軸61穿過(guò)平動(dòng)上板5、平動(dòng)中板4和平動(dòng)下板3上的通孔，進(jìn)入?yún)^(qū)熔單晶爐的上爐室7內(nèi)，平動(dòng)中板4的一端設(shè)有支撐板，第二驅(qū)動(dòng)裝置I固定在支撐板背離平動(dòng)中板4的一端，實(shí)現(xiàn)與平動(dòng)中板4相對(duì)固定，平動(dòng)下板3的一端設(shè)有支撐板，第一驅(qū)動(dòng)裝置3固定在支撐板背離平動(dòng)下板3的一端，實(shí)現(xiàn)與平動(dòng)下板3相對(duì)固定，當(dāng)?shù)诙?qū)動(dòng)裝置I工作，第一驅(qū)動(dòng)裝置2不工作時(shí)，第二驅(qū)動(dòng)裝置I驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng)，平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中前后方向(或左右方向)移動(dòng)；當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2工作，第二驅(qū)動(dòng)裝置不工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4靜止，第一驅(qū)動(dòng)裝置2驅(qū)動(dòng)平動(dòng)中板4相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)時(shí)，平動(dòng)上板5隨著平動(dòng)中板4 一起相對(duì)平動(dòng)下板3左右方向(或前后方向)滑動(dòng)， 平動(dòng)上板5帶動(dòng)上傳動(dòng)6運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61在區(qū)熔單晶爐的上爐室7中左右方向(或前后方向)上移動(dòng)；當(dāng)?shù)谝或?qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I同時(shí)工作時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)中板4前后方向(或左右方向)滑動(dòng)的同時(shí)，隨著平動(dòng)中板4左右方向(或前后方向)滑動(dòng)，此時(shí)，平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)下板3斜向運(yùn)動(dòng)，根據(jù)對(duì)第一驅(qū)動(dòng)裝置2和第二驅(qū)動(dòng)裝置I的控制，可以使平動(dòng)上板5相對(duì)平動(dòng)下板3進(jìn)行多個(gè)方向的運(yùn)動(dòng)，由于平動(dòng)下板3固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室7，平動(dòng)上板5與上傳動(dòng)6固定連接，因此，上傳動(dòng)6的上軸61可以對(duì)硅晶的熔區(qū)進(jìn)行多個(gè)方向的攪拌，同時(shí)可以在拉晶時(shí)根據(jù)需要隨時(shí)調(diào)整上傳動(dòng)6的上軸61的位置，操作方便，實(shí)現(xiàn)上傳動(dòng)6的上軸61自動(dòng)對(duì)中，提高拉制單晶硅的成品率和氣相摻雜的端面均勻性，保證晶體的高品質(zhì)。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種用于區(qū)熔單晶爐的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括 平動(dòng)下板，固定于所述區(qū)熔單晶爐的上爐室； 平動(dòng)中板，與所述平動(dòng)下板滑動(dòng)裝配； 平動(dòng)上板，與所述區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)固定連接，且與所述平動(dòng)中板滑動(dòng)裝配； 驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)中板滑動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置，與所述平動(dòng)下板相對(duì)固定； 驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置，與所述平動(dòng)中板相對(duì)固定； 所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板的滑動(dòng)方向與所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板的滑動(dòng)方向相互交叉； 所述平動(dòng)上板、所述平動(dòng)中板和所述平動(dòng)下板均具有貫穿其厚度方向的通孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述平動(dòng)中板相對(duì)所述平動(dòng)下板的滑動(dòng)方向與所述平動(dòng)上板相對(duì)所述平動(dòng)中板的滑動(dòng)方向相互垂直。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述平動(dòng)中板與所述平動(dòng)下板之間通過(guò)至少一對(duì)相互配合的滑槽和軌道滑動(dòng)裝配。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述平動(dòng)上板與所述平動(dòng)中板之間通過(guò)至少一對(duì)相互配合的滑槽和軌道滑動(dòng)裝配。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述平動(dòng)中板、所述平動(dòng)下板之間的滑槽和軌道為兩對(duì)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述平動(dòng)上板、所述平動(dòng)中板之間的滑槽和軌道為兩對(duì)。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)裝置為電機(jī)，所述電機(jī)的輸出端通過(guò)減速器和滾珠絲杠副驅(qū)動(dòng)所述平動(dòng)上板和所述平動(dòng)中板運(yùn)動(dòng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求f7任一項(xiàng)所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述平動(dòng)上板具有通孔的內(nèi)表面與上傳動(dòng)的上軸外表面相互貼合。
9.一種區(qū)熔單晶爐，包括上爐室和上傳動(dòng)，其特征在于，還包括如權(quán)利要求廣8任一項(xiàng)所述的雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明涉及區(qū)熔單晶硅技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)了一種雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)，包括平動(dòng)下板，固定于區(qū)熔單晶爐的上爐室；平動(dòng)中板，與平動(dòng)下板滑動(dòng)裝配；平動(dòng)上板，與區(qū)熔單晶爐的上傳動(dòng)固定連接，且與平動(dòng)中板滑動(dòng)裝配；驅(qū)動(dòng)平動(dòng)中板滑動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)裝置，與平動(dòng)下板相對(duì)固定；驅(qū)動(dòng)平動(dòng)上板滑動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)裝置，與平動(dòng)中板相對(duì)固定；平動(dòng)中板相對(duì)平動(dòng)下板的滑動(dòng)方向與平動(dòng)上板相對(duì)平動(dòng)中板的滑動(dòng)方向相互交叉；平動(dòng)上板、平動(dòng)中板和平動(dòng)下板均具有貫穿其厚度方向的通孔。具有上述雙向平動(dòng)機(jī)構(gòu)的區(qū)熔單晶爐，其上傳動(dòng)的上軸可以實(shí)現(xiàn)多個(gè)方向上的運(yùn)動(dòng)且可以自動(dòng)對(duì)中，提高拉制單晶硅的成品率和氣相摻雜的端面均勻性，保證晶體的高品質(zhì)。本發(fā)明還提供了一種區(qū)熔單晶爐。
文檔編號(hào)C30B29/06GK102899716SQ20121034279
公開(kāi)日2013年1月30日 申請(qǐng)日期2012年9月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月14日
發(fā)明者袁靜, 張繼宏, 徐振斌 申請(qǐng)人:北京京運(yùn)通科技股份有限公司