專利名稱：噴嘴裝置及用于以處理介質(zhì)處理待處理材料的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種噴嘴裝置及用于以處理介質(zhì)處理待處理材料的方法。具體地，本發(fā)明涉及一種浪涌式噴嘴裝置，例如其可用在對非常薄的印刷電路薄膜或印刷電路板進(jìn)行濕化學(xué)處理的行進(jìn)系統(tǒng)中。
背景技術(shù)：
浪涌式噴嘴形式的噴嘴裝置例如用在用于印刷電路板的濕化學(xué)處理的行進(jìn)系統(tǒng)中，以便可對行進(jìn)通過該系統(tǒng)的印刷電路板或印刷電路薄膜形式的待處理材料進(jìn)行最快且最均勻的處理。在此情況下，通過將數(shù)個浪涌式噴嘴設(shè)置在待處理材料的行進(jìn)平面之上和/或之下，使得噴嘴裝置橫向于待處理材料大致在其整個寬度上延伸。通過浪涌式噴嘴，處理液噴射在待處理材料的表面上或從其吸取，以由此實現(xiàn)對待處理材料的表面上的處理液的恒定且均勻的交換。
在這方面，EP 1187515 A2中提出了大量的不同的噴嘴裝置。在此情況下，在各例中基本都利用了具有不同噴嘴形狀的圓形管。這些噴嘴形狀例如可以是傾斜布置的槽噴嘴、一個接一個布置成很多行的圓噴嘴，或一個接一個成行排布的具有不同寬度的槽噴嘴。其中所描述的噴嘴裝置具體涉及樞轉(zhuǎn)式噴嘴，通過該樞轉(zhuǎn)式噴嘴，在待處理材料行進(jìn)通過的同時，可以實現(xiàn)處理液的液流方向的周期性改變。
在DE 3708529 A1中，提出了使用槽噴嘴，由此，因為相應(yīng)噴嘴的槽寬可變，可以調(diào)整各個處理液的流量及噴射壓力。
在DE 3528575 A1中，噴嘴用于在印刷電路板水平行進(jìn)期間對鉆孔進(jìn)行清潔、活化和/或金屬化，該噴嘴布置在傳送平面下方并垂直于傳送方向，駐波形式的液體處理介質(zhì)從該噴嘴被傳送至行進(jìn)通過系統(tǒng)的各個印刷電路板的下側(cè)面上。噴嘴設(shè)置在噴嘴殼體的上部中，噴嘴殼體由具有吸入開孔的預(yù)備腔形成，由此，借助于孔罩將預(yù)備腔與噴嘴的內(nèi)部空間的上部分隔開。通過孔罩，實現(xiàn)了朝向噴嘴的液體處理介質(zhì)的流動分配。以槽的形式位于實際噴嘴開孔的前方的噴嘴內(nèi)部空間用于作為形成均勻的液體處理介質(zhì)浪涌的預(yù)備腔。
從EP 0280078 B1已知一種用于通過合適的處理液來清潔或化學(xué)處理工件(具體指印刷電路板)的噴嘴裝置。該噴嘴裝置包括下入口盒及殼體盒，由此，處理液通過下入口盒、通過殼體盒底部中的孔而被導(dǎo)入殼體盒的內(nèi)部。殼體盒具有中央分隔壁，該中央分隔壁結(jié)合有兩個穿孔水平面及位于這兩個穿孔水平面上的槽，從而，處理液流至兩個槽且在其上形成了兩個均勻的正弦曲線浪涌輪廓，其流動通過工件，具體是流動通過印刷電路板的鉆孔。由此通過文丘里效應(yīng)(Venturi effect)確保了材料的密集交換。
通過上述浪涌式噴嘴裝置，因為在連接至處理液的入口的區(qū)域處會出現(xiàn)最大的處理液量，故在在該區(qū)域內(nèi)的流速最大。因為在各種情況下處理液的一部分都會經(jīng)由浪涌式噴嘴裝置的各個噴嘴開孔流出，所以，流速會隨著離開連接區(qū)域的距離的增大而減小。由此，除了靜壓之外，還會在噴嘴開孔處產(chǎn)生沖擊或總壓以及不穩(wěn)定的流速。隨之的后果是導(dǎo)致處理液的排出量不同。
在對非常薄且/或敏感的待處理材料進(jìn)行濕化學(xué)處理期間，還存在以下的危險，即在噴嘴裝置的入口區(qū)域中，待處理材料會因產(chǎn)生在待處理材料的一個邊緣上的液體浪涌而偏轉(zhuǎn)脫離運(yùn)動路徑或傳送路徑。這會導(dǎo)致以下情況，即待處理材料沿噴嘴裝置刮蹭或完全讓其絆住，這將導(dǎo)致待處理材料的損耗或者相應(yīng)處理系統(tǒng)內(nèi)部的阻塞。在此阻塞情況下，為了清除阻塞則一定會中斷生產(chǎn)，在多數(shù)情況下由于較長的處理時間，這會進(jìn)而導(dǎo)致其他處理工作站的損耗。
因此，本發(fā)明基于以下目的，即提供一種噴嘴裝置及一種用于以處理液處理待處理材料——具體是非常薄的板狀的待處理材料的方法，其解決了上述問題，具體而言，其避免了在噴嘴裝置的入口區(qū)域內(nèi)待處理材料由于處理液或其他處理介質(zhì)的流動而偏轉(zhuǎn)脫離傳送路徑。這意味著，在噴嘴裝置的入口區(qū)域內(nèi)，垂直于待處理材料的平面的力必須盡可能的小。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明，上述目的由具有獨(dú)立權(quán)利要求1的特征的噴嘴裝置以及具有獨(dú)立權(quán)利要求27的特征的方法實現(xiàn)。在每種情況下，獨(dú)立權(quán)利要求均限定了本發(fā)明的優(yōu)選或有利的實施方式。
根據(jù)本發(fā)明的方法及噴嘴裝置所基于的基本原理由通過在待處理材料的傳送方向上的分流來輸送或除去處理介質(zhì)而構(gòu)成。由此，處理介質(zhì)在噴嘴裝置或處理通道的入口區(qū)域的周圍區(qū)域內(nèi)受到牽引，由此在處理通道內(nèi)支撐待處理材料的傳送。
根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置用于以處理液或更概括來說用處理介質(zhì)來處理作為板或頭尾相連材料的待處理材料(諸如印刷電路板或印刷電路薄膜形式)，由此待處理材料可沿傳送方向在傳送平面中從噴嘴裝置的入口區(qū)域傳送至出口區(qū)域。除了處理液之外，處理介質(zhì)例如還可以是氣體處理介質(zhì)。在此情況下，噴嘴裝置包括至少一個噴嘴開孔，該噴嘴開孔以以下方式設(shè)計，即處理液的液流或處理介質(zhì)流以相對于待處理材料的傳送平面成預(yù)定角度傾斜流過噴嘴開孔。該角度以以下方式預(yù)定，即處理液的液流或處理介質(zhì)流偏轉(zhuǎn)至待處理材料的傳送方向或流出已在此方向移動的噴嘴開孔。
其結(jié)果是，處理液或處理介質(zhì)大體從至少一個噴嘴開孔沿噴嘴裝置的出口區(qū)域的方向而非沿噴嘴裝置的入口區(qū)域的方向流動。由此，在噴嘴裝置的處理通道中產(chǎn)生由噴嘴裝置及待處理材料所形成的負(fù)壓，由此，循環(huán)的處理介質(zhì)在噴嘴裝置的入口區(qū)域內(nèi)受到牽引，而避免了待處理材料偏轉(zhuǎn)脫離傳送平面或脫離所希望的傳送路徑的危險。
液流或處理介質(zhì)流的偏轉(zhuǎn)優(yōu)選由通過至少一個噴嘴開孔通道所形成的至少一個噴嘴開孔實現(xiàn)，所述噴嘴開孔通道相對于待處理材料的傳送平面成銳角延伸。在此情況下，該角優(yōu)選最大為80度。但是，已經(jīng)驗證，0度至60度之間的角或更優(yōu)選的10度至30度之間的角是特別有利的。
根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置可設(shè)計為用于將處理介質(zhì)噴射至待處理材料上或用于吸取處理介質(zhì)。在第一種情況中，即，如果至少一個噴嘴開孔設(shè)計為針對處理介質(zhì)的輸送而設(shè)計，則該角對著待處理材料的傳送方向開，使得處理介質(zhì)流被偏轉(zhuǎn)至待處理材料的傳送方向。在此情況下，如果至少一個噴嘴開孔以以下方式布置在噴嘴裝置大體沿傳送平面延伸的殼體壁中是特別有利的，即以從所述至少一個噴嘴開孔至入口區(qū)域的距離小于從所述至少一個噴嘴開孔至出口區(qū)域的距離的方式布置。
在第二種情況下，即，如果至少一個噴嘴開孔針對接收或吸取處理介質(zhì)而設(shè)計，則該角沿待處理材料的傳送方向打開而使得形成以下的情況，即處理介質(zhì)流偏轉(zhuǎn)至待處理材料的傳送方向。在此情況下，如果至少一個噴嘴開孔以以下方式布置在大體沿傳送平面延伸的殼體壁中是特別有利的，即以從所述至少一個噴嘴開孔至出口區(qū)域的距離小于從所述至少一個噴嘴開孔至入口區(qū)域的距離。
因為噴嘴裝置的不對稱結(jié)構(gòu)，確保了在噴嘴裝置與待處理材料之間形成延伸的處理通道，在該處理通道中，處理介質(zhì)沿待處理材料的傳送方向流動。這確保了以處理介質(zhì)對待處理材料的更有效處理。但是，將噴嘴開孔布置在入口區(qū)域或出口區(qū)域的附近并不是強(qiáng)制性的。
優(yōu)選地，噴嘴裝置設(shè)計為噴嘴裝置的殼體壁(優(yōu)選的是布置至少一個噴嘴開孔的殼體壁)與傳送平面之間的距離在入口區(qū)域與所述至少一個噴嘴開孔之間的區(qū)段內(nèi)沿待處理材料的傳送方向減小。由此，在該區(qū)段中，在殼體壁與傳送平面之間形成沿入口區(qū)域的方向呈楔形開設(shè)的通道。優(yōu)選地，噴嘴裝置還設(shè)計為噴嘴裝置的殼體壁與傳送平面之間的距離間隔在所述至少一個噴嘴開孔與出口區(qū)域之間的區(qū)段中沿待處理材料的傳送方向增加，由此在該區(qū)段中于殼體壁與傳送平面之間形成沿出口區(qū)域的方向呈楔形開設(shè)的通道。
優(yōu)選地，形成在待處理材料的兩側(cè)上的楔形通道、具體指至此所提及的楔形通道的結(jié)合借助于所稱的文丘里效應(yīng)在噴嘴裝置的入口區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生額外的負(fù)壓。因為噴嘴裝置優(yōu)選布置在處理介質(zhì)中，故處理介質(zhì)由入口區(qū)域的周圍區(qū)域同時受到牽引。由于處理介質(zhì)受到牽引，故由此朝向噴嘴裝置的殼體壁在入口區(qū)域中形成緩沖，從而可靠地避免待處理材料與噴嘴裝置的殼體壁之間的任何接觸。
優(yōu)選地，噴嘴裝置的入口區(qū)域中的噴嘴裝置前邊緣被斜切或倒圓角，以防止形成會使待處理材料偏離路徑的渦流。
所述至少一個噴嘴開孔優(yōu)選設(shè)計為沿傳送平面在垂直于傳送方向的寬度方向上的整個寬度上延伸。在此情況下，該寬度選擇為待處理材料的相應(yīng)寬度的函數(shù)，由此確保了對待處理材料的均勻表面處理。具體地，噴嘴裝置可設(shè)計為槽的形式或以一定距離間隔彼此相鄰布置的開孔行，由此可在待處理材料的整個寬度上確保均勻處理。在該方向上，噴嘴開孔優(yōu)選地平行于傳送平面布置。
因為所希望的噴嘴裝置的入口吸取效應(yīng)，如果在運(yùn)動路徑的寬度方向上液體分配不均勻，則會產(chǎn)生待處理材料被拉向一側(cè)而由此從一側(cè)脫離傳送路徑或被傳送路徑的側(cè)部外周絆住的危險。
為了更好的分配處理介質(zhì)，如果噴嘴裝置包括用于傳輸處理介質(zhì)的、沿至少一個噴嘴開孔延伸的介質(zhì)通道或液體通道，則是優(yōu)選的。優(yōu)選地，介質(zhì)通道通過沿至少一個噴嘴開孔彼此間隔布置的分配開孔連接至所述至少一個噴嘴開孔。分配開孔形成流動阻力并由此改善了處理介質(zhì)在噴嘴開孔的整個寬度上的分配。優(yōu)選地，分配開孔具有相同的直徑及相同的長度，但距離不同。但是，其他構(gòu)造可是可行的。
根據(jù)一個實施例，噴嘴裝置包括布置在介質(zhì)通道中的插入構(gòu)件，隨著距離連接開孔的距離間隔的增加，其位移量增加，該開孔設(shè)置用于導(dǎo)入或去除處理介質(zhì)。由此，可確保介質(zhì)通道的通過橫截面——即可用于處理介質(zhì)通過的橫截面面積，隨著距離連接開孔的距離增加而減小。在此情況下，該插入構(gòu)件可設(shè)計為使通過橫截面隨著距離連接開孔的距離間隔的增加而連續(xù)減小或逐級減小。例如，可通過相應(yīng)成形的插入物或相應(yīng)增加介質(zhì)通道的殼體的壁厚來實現(xiàn)通過橫截面的連續(xù)減小。例如，可通過由一些單獨(dú)區(qū)段或部分構(gòu)成的插入物來實現(xiàn)通過橫截面的逐級減小。這些部分可以是簡單的變位體或是穿孔體，由此，通過橫截面例如由孔的尺寸所確定。各個部分可通過粘合結(jié)合、焊接、張緊桿或撐桿來裝配。在此例中，通過橫截面的逐級減小可具體設(shè)計為將各級配置于相應(yīng)的分配開孔的形式，由此，優(yōu)選地在特定級處通過橫截面的減小通過相應(yīng)的分配開孔而適于處理介質(zhì)流。因此，介質(zhì)通道的通過截面可適于在特定時間單位內(nèi)流動通過介質(zhì)通道的處理介質(zhì)量，從而可實現(xiàn)流速及壓力的均勻分配。插入構(gòu)件由各單獨(dú)部分逐級合成也有利于提供極低的制造成本。
就此而論，也可以將連接介質(zhì)通道與噴嘴開孔的分配開孔設(shè)置為不同長度，即，作為具有不同級的壁厚的殼體壁中的孔。同樣地，如果所述至少一個噴嘴開孔包括大量沿寬度方向布置的開孔，則可以設(shè)計使各個開孔形成不同長度的通道或孔。由于分配開孔或所述至少一個噴嘴開孔的一個接一個布置的開孔長度不同的構(gòu)造，可產(chǎn)生不同的流動阻力值，這有助于進(jìn)一步使流速均勻化。具有相同的孔徑與不同的孔間的距離間隔也是可行的。
至此所提及的分配開孔都可具有相同的直徑。但是，就調(diào)整流速而言，將分配開孔設(shè)計有不同的直徑是有利的。這意味著分配開孔的直徑可適配于介質(zhì)通道中的流速及相關(guān)的壓力比。此外，通過具有不同直徑的閥開孔，分配開孔的端部也可以設(shè)置有具有相同直徑的埋頭孔。由此，實現(xiàn)了流速的進(jìn)一步均勻化，具體而言實現(xiàn)了在緊急情況下通過分配開孔的流速的進(jìn)一步均勻化。
至此所描述的分配開孔可以插入構(gòu)件或殼體壁中相應(yīng)的孔的形式形成。插入構(gòu)件可在其縱長方向上(即沿運(yùn)動方向)設(shè)計有U形橫截面，由此產(chǎn)生了進(jìn)行支撐的整體形狀，其可通過夾緊在噴嘴裝置的殼體中而得以保持。
在具有槽狀噴嘴開孔的情況下，如果其是由殼體壁及相對的插入條形成的則是特別有利的。在此情況下，為了清潔噴嘴裝置可以移除插入條，且由此清潔工具可以方便的通過本身狹窄的噴嘴開孔。
根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，平行于待處理材料的平面，處理通道的橫截面可通過適當(dāng)?shù)某尚味m合所希望的流速來改變。這優(yōu)選地通過設(shè)計為可替換的插入條來實現(xiàn)，由此，可以根據(jù)具體的待處理材料的需要而容易地改變噴嘴裝置。
通過成形處理通道，還可在所限定的區(qū)域內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓。同樣地，這優(yōu)選通過至少一個可替換的插入條來實現(xiàn)。由于所限定的區(qū)域內(nèi)的負(fù)壓，可以設(shè)置處理介質(zhì)使得其流入待處理材料的盲孔或流過待處理材料的通孔。
因此，根據(jù)本發(fā)明，使處理通道的橫截面通過特定方式作用而由此調(diào)整流速或增加在所限定區(qū)域內(nèi)的負(fù)壓。這優(yōu)選通過在待處理的通道內(nèi)沿傳送方向的一個或多個位置縮窄處理通道來實現(xiàn)。
根據(jù)優(yōu)選實施例，可以通過噴嘴軌道來調(diào)整槽狀噴嘴開孔的出口橫截面。為此目的，例如由金屬或塑料制成的噴嘴軌道可以可調(diào)整的形式位于噴嘴裝置的殼體處。特別優(yōu)選的是，噴嘴軌道設(shè)計為可替換形式，以適應(yīng)所選擇的噴嘴開孔的不同幾何構(gòu)形。以此方式，噴嘴裝置可以精確且可撓曲的方式改變而適應(yīng)不同處理要求及不同類型的待處理材料。
優(yōu)選地，如果所述至少一個噴嘴開孔由至少一個相對于待處理材料的傳送平面成銳角延伸或大體平行于該平面延伸的噴嘴開孔通道形成，則分配開孔也由分配通道或分配孔形成，所述分配通道或分配孔相對于待處理材料的傳送平面成一大于噴嘴開孔通道相對于傳送平面的角度的角度設(shè)置。此外，分配開孔或分配通道或分配孔可相對于所述至少一個噴嘴開孔在傳送方向上偏置。通過這些設(shè)置，可發(fā)生處理介質(zhì)流的多次偏轉(zhuǎn)。具體而言，由此可消除所述危險，因為在處理介質(zhì)流中的動態(tài)力，該介質(zhì)的較高流速不會沿噴嘴開孔槽的方向在噴嘴開孔處出現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置可設(shè)計為在待處理材料一側(cè)上具有噴嘴開孔的單噴嘴裝置或者為在待處理材料的下方及上方兩側(cè)上均具有一個噴嘴開孔的噴嘴裝置。
如果噴嘴裝置包括至少另一噴嘴開孔則是特別有利的，該至少另一噴嘴開孔設(shè)置在位于所述至少一個噴嘴開孔對面的待處理材料的傳送平面?zhèn)壬稀Ｓ纱?，在行進(jìn)通過噴嘴裝置時，可從兩側(cè)(即從上側(cè)及下側(cè))處理待處理材料。這對諸如要在兩側(cè)上印制的印刷電路板或薄膜等需要在兩側(cè)進(jìn)行處理的待處理材料而言是有利的。具體而言，這樣可節(jié)省處理步驟，并可縮短整體處理時間，由此使得整體的消耗及費(fèi)用較低。在此情況下，將噴嘴裝置設(shè)計為相對于待處理材料的運(yùn)動平面鏡向?qū)ΨQ是特別有利的，從而，至此所描述的噴嘴裝置的有利之處可在待處理材料的兩側(cè)上實現(xiàn)。
為了處理待處理材料中的盲孔或通孔，設(shè)置至少一個或更多附加噴嘴開孔是更有利的，這些噴嘴開孔大體垂直于待處理材料的表面?zhèn)魉吞幚斫橘|(zhì)。這些附加噴嘴開孔可相對于上述噴嘴開孔布置在上游側(cè)或下游側(cè)，其具有沿傳送方向的分流的作用。在噴嘴開孔為在待處理材料的平面的兩側(cè)上而設(shè)置時，布置在待處理材料的不同側(cè)上的附加噴嘴開孔可以直接彼此相對或彼此偏置?？梢钥烧{(diào)整方式或不可調(diào)整方式將處理介質(zhì)供應(yīng)至附加噴嘴開孔。這可經(jīng)由相同的介質(zhì)通道(其用于沿上述運(yùn)動方向為噴嘴開孔供應(yīng)分流)來完成。特別有利的是，在待處理材料中的通孔由附加噴嘴開孔進(jìn)行處理，這是因為附加噴嘴開孔處為正壓而同時例如與待處理材料相對側(cè)上的處理通道中存在負(fù)壓的緣故。作為選擇，還可提供單獨(dú)的供應(yīng)。在后一情況下，也可設(shè)置單獨(dú)的傳送裝置或泵來傳送處理介質(zhì)。
已發(fā)現(xiàn)通過噴嘴裝置的處理通道傳送待處理材料可通過特定地減小噴嘴裝置的出口區(qū)域中的垂直于待處理材料的平面的或在傳送方向上的分流而改善。除了上述措施外，這優(yōu)選地通過在噴嘴裝置的出口區(qū)域中加寬處理通道的橫截面來實現(xiàn)。由此，通過成形噴嘴裝置或處理通道，可以獲得以下結(jié)果，即處理介質(zhì)的流速在入口區(qū)域側(cè)沿運(yùn)動方向持續(xù)增加，而在出口區(qū)域側(cè)流速持續(xù)減小。此外，出口區(qū)域可設(shè)置有流動影響元件。已經(jīng)證實，作為流動影響元件，形成在噴嘴裝置表面之中或之上的突起、擋板或連接板是有利的。由于這樣的流動影響元件，避免了渦流，進(jìn)而由此垂直于待處理材料的平面且在運(yùn)動方向上的分流得以最大限度地減少。此外，所述流動影響元件可確保對待處理材料的額外的導(dǎo)引功能。
通過設(shè)置處理介質(zhì)流使其在待處理材料的運(yùn)動方向上受到特定地誘導(dǎo)，從而由此將處理介質(zhì)從噴嘴裝置的入口區(qū)域吸入，以此方式，本發(fā)明有效地支撐待處理材料運(yùn)動通過噴嘴裝置的處理通道。以此方式，甚至不需要額外的諸如輥、輪、夾鉗等驅(qū)動裝置即可實現(xiàn)對諸如非常薄的待處理材料(其可作為所謂的“首尾相連”材料而獲得)的傳送。此外，從入口區(qū)域的周圍區(qū)域引入處理介質(zhì)確保了處理介質(zhì)的有效循環(huán)。通過在入口區(qū)域中吸入處理介質(zhì)而獲得的流量基本上大于由噴嘴開孔單獨(dú)產(chǎn)生的流量。此外，根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置允許待處理材料的無接觸傳送。
作為相應(yīng)裝置或系統(tǒng)的一部分，噴嘴裝置特別適于對作為待處理材料的印刷電路板或印刷電路薄膜進(jìn)行濕化學(xué)處理。因為特定設(shè)計的流動情況，噴嘴裝置有助于使得待處理材料不偏轉(zhuǎn)脫離其所希望的傳送路徑。這尤其適用于噴嘴裝置的入口區(qū)域。噴嘴裝置還使得沿噴嘴裝置的寬度方向的處理介質(zhì)的流量和流速可均勻化，由此可獲得更均勻的處理結(jié)果。此外，提供均勻的噴射或浪涌幾何構(gòu)形，具體而言，處理介質(zhì)流相對噴嘴開孔統(tǒng)一對準(zhǔn)。最后但并非最不重要的，由于組件數(shù)量少，噴嘴裝置很好地兼顧了緊湊性和制造性，由此，相應(yīng)裝置或系統(tǒng)中的空間要求以及制造成本可得以降低。


通過參考附圖，基于優(yōu)選實施例在以下對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)的描述。
圖1A示出了根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置的一個實施例的側(cè)視圖，其中兩個噴嘴處于沿圖2所示的剖切線C-C’所取的局部橫截面中；圖1B示出了表示在圖1A中的其中一個噴嘴的放大截面；圖2示出了沿圖1A中的剖切線A-A’所取的局部截面中的圖1A的圖8示出了具有附加噴嘴開孔的根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置的另一實施例。
圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置的另一實施例，噴嘴裝置設(shè)置在傳送平面兩側(cè)上的部分具有不同設(shè)計。
具體實施例方式
圖1A示出了根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的噴嘴裝置，其具體適于作為用于電鍍系統(tǒng)的浪涌式噴嘴，該電鍍系統(tǒng)具有用于印刷電路板或印刷電路薄膜的水平行進(jìn)通路(run-through)。該噴嘴裝置包括兩個沿傳送平面延伸的噴嘴，在該傳送平面中，待處理材料沿傳送路徑從入口區(qū)域15運(yùn)動至出口區(qū)域16。該兩個噴嘴直接彼此相對布置并相對于傳送平面成鏡向?qū)ΨQ。兩個噴嘴之間設(shè)置有一處理通道，待處理材料可穿過該處理通道。
在各情況下，所述噴嘴均包括殼體2，在殼體2中，噴嘴開孔8設(shè)置在面對傳送平面的一側(cè)中。用于對待處理材料進(jìn)行處理的處理液形式的處理介質(zhì)通過連接開孔1供應(yīng)至噴嘴，該連接開孔1布置在噴嘴的正面?zhèn)?。處理液從連接開孔1通過而進(jìn)入液體通道6形式的介質(zhì)通道中，該介質(zhì)通道通過分配開孔7連接至噴嘴開孔。處理液的液流由圖1中的箭頭11和11’指示。
在各情況下，噴嘴的殼體2均包括位于入口區(qū)域15一側(cè)上的側(cè)壁以及位于出口區(qū)域16一側(cè)上的側(cè)壁。噴嘴的殼體2由殼體蓋13封閉，從而，殼體2與殼體蓋13一起圍住液體通道6。具有U形橫截面的插入構(gòu)件3布置在液體通道6中。在此情況下，插入構(gòu)件3的開孔側(cè)以可從液體通道6自由地到達(dá)分配開孔7的方式布置在殼體2中的噴嘴開孔8的一側(cè)上。插入構(gòu)件優(yōu)選由塑料制成，并通過在其外側(cè)上設(shè)置U形支撐構(gòu)件4來穩(wěn)定噴嘴及殼體2。U形支撐構(gòu)件4優(yōu)選由對所使用的化學(xué)制品有抵抗性的金屬構(gòu)成，例如不銹鋼、鈦、鈮等等。
待處理材料10沿箭頭18所指示的傳送方向在水平傳送平面中行進(jìn)通過噴嘴裝置。在此情況下，處理液從噴嘴開孔8傾斜地傳導(dǎo)至待處理材料10上。由此，吸取效應(yīng)作用在噴嘴裝置的入口區(qū)域15側(cè)上。噴嘴裝置布置在流體介質(zhì)中，例如該流體介質(zhì)可以是處理液，由此，由于吸取效應(yīng)，例如由箭頭11’所示的額外的液體被引入處理通道中。
圖1B示出了圖1A的其中一個噴嘴的局部放大示圖。在該圖中可具體看到噴嘴開孔8由噴嘴開孔通道形成，其相對于待處理材料10的傳送平面形成銳角17。角17對著傳送方向18開，從而處理液通過噴嘴開孔通道偏轉(zhuǎn)至傳送方向18。在各種情況下，分配開孔7由殼體2中的孔的形式的分配通道形成，其相對于傳送平面成一角度布置，該角度大于噴嘴開孔通道的角17。因此，如箭頭11所示，液流被數(shù)次偏轉(zhuǎn)至待處理材料10的傳送方向18。
圖2以沿圖1A中剖切線A-A’(即沿噴嘴裝置的寬度方向)所取的局部橫截面形式示出了圖1A及圖1B的噴嘴裝置的剖視圖。如圖2所示，連接開孔1以具有密封環(huán)14的連接噴嘴形式設(shè)計，處理液通過其進(jìn)入液體通道6。具體而言，可以看出插入構(gòu)件3設(shè)計為楔形，由此隨著其遠(yuǎn)離連接開孔1的距離增加，液體通道的通過橫截面減小。可進(jìn)一步看到，分配開孔7形成為彼此等距離布置的位于殼體2的壁中的孔。該壁的厚度沿噴嘴的寬度大體恒定，由此使分配開孔7的長度大致相同。
如圖2所示，噴嘴開孔8設(shè)計為沿噴嘴的寬度方向延伸的槽。
圖3以沿圖1A中的剖切線B-B’所取的局部橫截面的形式示出了圖1A、圖1B及圖2的噴嘴裝置的剖視圖。如圖3所示，分配開孔7是彼此等距離布置的具有圓形橫截面的孔。具體而言，分配開孔7一個接一個布置成一行，該行位于轉(zhuǎn)向入口區(qū)域15的噴嘴的一側(cè)。
由此，在圖1A及1B中由箭頭11所指示的液流從楔形液體通道6導(dǎo)引通過成具有圓形橫截面的分配孔形式的分配開孔7、通過設(shè)計為均勻?qū)挼牟鄣膰娮扉_孔8而導(dǎo)引至待處理材料10上。液流在分配開孔與噴嘴開孔8之間轉(zhuǎn)變?yōu)槠降纳淞鳎撈降纳淞鞔篌w在待處理材料的整個寬度上延伸。
因為楔形插入構(gòu)件3，確保了流速在液體通道6的各個點(diǎn)都同樣地大。因為所有的分配開孔7都具有相同的尺寸，故獲得了非常均勻的噴射圖像，即，均勻的噴射或浪涌幾何形狀，且還獲得了一致的液流方向。
由于所謂的文丘里效應(yīng)，一致的液流幾何形狀對吸取效應(yīng)的產(chǎn)生特別重要，這是因為待處理材料會由沿寬度方向不一致的吸取而傾斜牽引，進(jìn)而在該情況下材料會被傳送路徑的側(cè)外周絆住的緣故。
為避免此情況，根據(jù)所示的實施例的多個噴嘴及單一噴嘴的裝置具有以下特征A)噴嘴開孔8未居中布置，而是布置在入口區(qū)域15附近的噴嘴的橫向縱邊緣處。
B)噴嘴開孔8設(shè)計為噴嘴開孔通道的形式，如圖1B所示，其相對于待處理材料10的傳送平面以銳角17布置。
C)在噴嘴開孔8與出口區(qū)域16之間的區(qū)段內(nèi)，面對傳送平面的殼體壁的厚度減小，由此，在此區(qū)段中，處理通道沿傳送方向18呈楔形加寬。
D)將在入口區(qū)域15及出口區(qū)域16中的噴嘴的邊緣倒圓，以避免在處理液中形成渦流。
E)在入口區(qū)域15與噴嘴開孔8之間的區(qū)段中，面對傳送平面的殼體壁的厚度增加，由此，在此區(qū)段中，處理通道沿傳送方向18呈楔形縮窄。
具體地，這意味著通過圖1A中所示的鏡向?qū)ΨQ噴嘴裝置，入口區(qū)域及出口區(qū)域兩者呈現(xiàn)漏斗形狀。
因為轉(zhuǎn)向待處理材料的噴嘴幾何夠形的特殊形狀，在噴嘴裝置的入口區(qū)域15中會產(chǎn)生負(fù)壓，如圖1A中的箭頭11’所示，這使得將液體及待處理材料從圍繞噴嘴裝置的區(qū)域引至處理通道中。具體由于在入口區(qū)域15中的處理通道的楔狀形狀或漏斗形狀，朝向噴嘴開孔8的流速得以增加。由于流動及噴嘴的倒圓邊緣，可確保薄的待處理材料不與噴嘴的側(cè)壁沖撞。由于在入口區(qū)域15中的噴嘴裝置的吸取效應(yīng)，更多的處理液引過處理通道而非通過噴嘴開孔8流出。這不僅防止了對待處理材料的損壞，而且還加快了處理，由此相較于使用傳統(tǒng)的噴嘴裝置可以獲得較短的處理時間。例如，通過負(fù)壓可以實現(xiàn)將存在于盲孔中的空氣或因處理而形成的氣體吸出，因此由處理液弄濕的表面的情況可得以改進(jìn)。
在噴嘴裝置的出口區(qū)域，隨著處理通道的寬度的增加，流速降低。
在入口區(qū)域15側(cè)以及出口區(qū)域16側(cè)兩側(cè)上，傳送機(jī)輥可鄰接噴嘴裝置布置。傳送機(jī)輥確保待處理材料從(或到)相鄰的處理工作站的可靠運(yùn)動。
圖4示出了根據(jù)本發(fā)明的另一具體優(yōu)選實施例的噴嘴裝置的截面圖。圖4是沿圖5中的線C-C’所取的局部橫截面。與圖1-3中所示的實施例中的噴嘴裝置的類似的特征及組件賦予相同的參考標(biāo)號，以下也不再對其進(jìn)行進(jìn)一步描述。
與基于圖1-3所描述的實施例不同的是，圖4的噴嘴裝置在處理槽通道中具有布置在噴嘴開孔8側(cè)的插入構(gòu)件3a。第一分配孔9設(shè)置在插入構(gòu)件3a中，處理液通過其從液體通道6導(dǎo)引進(jìn)入偏轉(zhuǎn)通道5。偏轉(zhuǎn)通道5由將插入構(gòu)件3a相應(yīng)加深而形成。從該處，處理液通過第二分配開孔7至噴嘴開孔8，該第二分配開孔7大體對應(yīng)于圖1-3中的實施例的分配開孔。在傳送方向18上，第一分配開孔9偏置于第二分配開孔7及噴嘴開孔8布置。由此，從第一分配開孔9到偏轉(zhuǎn)通道5中，產(chǎn)生液流約90度的第一偏轉(zhuǎn)，以及，從偏轉(zhuǎn)槽5到第二分配開孔7中約90度的第二偏轉(zhuǎn)。當(dāng)將處理液從第二分配開孔7導(dǎo)引到噴嘴開孔通道中時，產(chǎn)生第三偏轉(zhuǎn)。由此，即使在處理液的較高流速下，也可確保傾斜于待處理材料10的傳送平面的所希望的液流方向。
通過圖4所示的噴嘴裝置，噴嘴面對待處理材料10的表面由插入條12形成。插入條12具有燕尾形導(dǎo)引部，該燕尾形導(dǎo)引部插入噴嘴的殼體2中，在該殼體2一側(cè)上同樣也設(shè)計為燕尾形。在一側(cè)通過插入條12的邊緣而在另一側(cè)通過相對的殼體2的邊緣形成噴嘴開孔8，由此產(chǎn)生沿噴嘴的寬度布置的槽形噴嘴開孔8。插入構(gòu)件面對待處理材料10的傳送平面的一側(cè)具有大體與這里已描述的圖1-3的噴嘴裝置的相應(yīng)殼體壁相同的形狀。由此，可確保獲得同樣有利的流動效果。
為了清潔噴嘴，可以移除插入條12，從而可自由到達(dá)第二分配開孔7。
圖5以沿圖4中的剖切線B-B’所取的局部截面的形式示出了圖4的噴嘴裝置的側(cè)視圖。從圖5具體可看到，插入構(gòu)件3a中的第一分配開孔9沿噴嘴裝置的寬度方向彼此等距離布置。由于插入構(gòu)件3a的楔形形狀，導(dǎo)致對于各個第一分配開孔9來說，其分配孔的長度在各個情況下是不同的。在此情況中的插入構(gòu)件3a的楔形形狀設(shè)計為使得液體通道6的通過截面隨著距離連接開孔1的距離的增加而減小。這意味著距離連接開孔1越遠(yuǎn)，則該分配孔越長，由此，在分配孔上同樣產(chǎn)生較大的壓降。具體來說朝向與連接開孔1相對的噴嘴開孔8的端部，這會產(chǎn)生均衡的效果。此外，插入構(gòu)件3a的楔形形狀設(shè)置為在此端部處液體通道的剩余高度不為零，而是為在距離連接開孔1最遠(yuǎn)的點(diǎn)處具有優(yōu)選2-8mm的最終值。
圖6以沿圖4中的剖切線A-A’所取的局部截面的形式示出了圖4及圖5的噴嘴裝置的側(cè)視圖。從圖6可看到，第一分配開孔9沿居中地形成在噴嘴中的行、相對于傳送方向18布置。但是，如已基于圖1-3的實施例所描述的，第二分配開孔7偏離于入口區(qū)域的方向布置。由此，如上所述，產(chǎn)生了有利的液流的多次偏轉(zhuǎn)。如圖6所示，第二分配開孔7及第一分配開孔9是具有圓形橫截面的分配孔。在本實施例中，第二分配開孔7與第一分配開孔9具有相同的直徑。將第二分配開孔7設(shè)計為具有與第一分配開孔9的直徑不同的直徑也是有利的。如果第一分配開孔9與第二分配開孔7在各種情況下都具有彼此不同的直徑或不同的距離間隔，則也是有利的。
通過后面的噴嘴裝置的實施例，在使用不同厚度的傳導(dǎo)薄膜的數(shù)次測試中可獲得非常好的結(jié)果。已發(fā)現(xiàn)，一旦印刷電路薄膜通過吸取而被拾起，則傳導(dǎo)薄膜的傳送速度通過負(fù)壓而顯著增加。不論高傳送速度如何，都不會在印刷電路薄膜上產(chǎn)生損壞。通過附加使用傳送機(jī)輥，已發(fā)現(xiàn)，即使是折彎的印刷電路薄膜也可通過吸取效應(yīng)而伸展到噴嘴裝置中，并在預(yù)定的傳送路徑上行進(jìn)通過噴嘴裝置而不會損壞或阻塞。
需要注意的是，在此通過僅僅實現(xiàn)至此所描述的一部分措施或噴嘴裝置的一部分特征，已可獲得對此具體應(yīng)用的處理液的充分均勻供應(yīng)及吸取效應(yīng)，使得在化學(xué)處理期間待處理材料可可靠地導(dǎo)引通過噴嘴裝置。
在不脫離本發(fā)明的基本原理的情況下，當(dāng)然也可以構(gòu)思出對圖中的由此，例如，連接開孔1可相對于噴嘴裝置的寬度方向來說布置在殼體2的中心，由此在中心進(jìn)行對處理液的供應(yīng)。在此變體中，殼體2的內(nèi)部中的液體通道6的通過截面將會從連接開孔1的中部開始朝向噴嘴裝置的兩端(即兩側(cè))而減小，且插入構(gòu)件3或插入構(gòu)件3a的厚度會從連接開孔1的中部開始朝向兩端而增加，由此，在插入構(gòu)件3a中的分配孔9的長度在向兩側(cè)的方向上增加。
此外，在所示出的實施例中，連續(xù)不斷地減小液體通道6的通過橫截面通過單獨(dú)增加插入構(gòu)件3或插入構(gòu)件3a的相應(yīng)高度來實現(xiàn)。當(dāng)然也可構(gòu)思為液體通道6的數(shù)個側(cè)壁具有沿噴嘴的寬度方向增加的壁厚。此外，對于較少的需求情況，用于進(jìn)一步的壓力分配的偏轉(zhuǎn)通道5也可省去。
為了改善流速的均勻性，槽形噴嘴開孔8也可設(shè)置有可變的寬度，由此，從連接開孔1開始該寬度可具體在噴嘴的寬度方向上減小。
如已描述的，分配開孔7或9也可設(shè)計有不同的直徑，由此，具體來說為了實現(xiàn)連續(xù)不斷增加的流動阻力，可構(gòu)思為相應(yīng)地減小分配開孔7或9的直徑。
在分別在界定了液體通道6的分配開孔7或9側(cè)處，這些開孔也可設(shè)置有具有較大直徑的埋頭孔。為了獲得在噴嘴的寬度方向上連續(xù)增加的流動阻力，這些埋頭孔可以設(shè)置有不同深度，具體設(shè)置為在噴嘴的寬度方向上連續(xù)增加的深度。
也可使分配開孔之間的距離間隔以接近連接開孔1的分配開孔具有比那些遠(yuǎn)離連接開孔1的分配開孔連接開孔小的距離間隔的方式變化。
例如，也可以省去表示在圖中的支撐構(gòu)件4如果不這樣，例如使用較厚的殼體壁。同樣地可構(gòu)思為插入構(gòu)件3或插入構(gòu)件3a以及殼體2設(shè)計為一體。最終，在所示出的實施例中，需要考慮以下因素，即實際上僅設(shè)置一個槽形噴嘴開孔8而使其在噴嘴的寬度方向上延伸，但也可使用在噴嘴的寬度方向上布置的數(shù)個槽，例如這些槽以彼此一致的距離間隔布置。如果合適，也可以使用一個接一個布置的圓開孔。
通過傾斜布置噴嘴并相應(yīng)改變的各個相對表面，可以在噴嘴與待處理材料10之間建立呈楔形布設(shè)的處理通道或在兩個噴嘴之間分別建立處理通道的漏斗形路線。具體而言，在此情況下，上及下噴嘴的不對稱布置也是有利的。
圖7示出了根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置的另一實施例，其基本上對應(yīng)于基于圖1A所描述的實施例。對類似的組件賦予相同的參考標(biāo)號。但不同于圖1A，噴嘴開孔8以可調(diào)整方式設(shè)計。分配開孔7在噴嘴裝置的入口區(qū)域15的方向上從液休通道6相對于傳送方向18傾斜延伸。分配開孔7具有沿噴嘴裝置的寬度方向變化的距離間隔，距離連接開孔1越遠(yuǎn)，寬度越大。
噴嘴軌道20以可調(diào)整方式布置在殼體2的前殼休壁上。噴嘴軌道20沿著前殼體壁最初在垂直于待處理材料10的運(yùn)動平面的方向上延伸，以便而后過渡至轉(zhuǎn)向傳送方向的前邊緣區(qū)域。噴嘴軌道20的前邊緣區(qū)域的內(nèi)表面而對分配開孔7，同時前邊緣區(qū)域的外表面形成噴嘴裝置的入口區(qū)域15的前邊緣并面對待處理材料10。由此，噴嘴開孔8由噴嘴軌道20與殼體壁界定。
噴嘴軌道20以可調(diào)整方式附裝至殼體壁。具體而言，噴嘴軌道20可以通過調(diào)節(jié)螺釘21而沿垂直于傳送平面的方向移位。該可調(diào)整的裝置例如可通過噴嘴軌道20中的縱向孔(調(diào)節(jié)螺釘21通過該縱向孔引入)來確保。以此方式，通過釋放調(diào)節(jié)螺釘21、移動噴嘴軌道20以及隨后通過緊固該調(diào)節(jié)螺釘可將噴嘴軌道20固定在新的位置，由此，一方面可改變噴嘴開孔8的橫截面，另一方面可改變前邊緣區(qū)域的外表面與待處理材料10的傳送平面之間的距離。相應(yīng)地，通過噴嘴軌道20，可以調(diào)整噴嘴開孔8的橫截面以及入口區(qū)域15中處理通道的橫截面。當(dāng)然也可以構(gòu)思出噴嘴軌道20可調(diào)整附裝的其他實施例。例如，噴嘴軌道20所位于的殼體壁可相對于傳送平面傾斜地延伸。
此外，噴嘴軌道20也可以不同方式成形。這具體涉及轉(zhuǎn)向待處理材料10的傳送方向18的前邊緣區(qū)域。相應(yīng)地，可為前邊緣區(qū)域設(shè)置不同的曲率。通過噴嘴軌道20的傾斜布置，也可以構(gòu)思出基本上未彎曲的噴嘴軌道20的形狀。
優(yōu)選地，針對不同類型的待處理材料以及不同的處理要求設(shè)置不同類型的噴嘴軌道20，其可以可替換的形式裝配在噴嘴裝置的殼體2上。以此方式，增加了相對各個需求的噴嘴裝置調(diào)整的精確性及靈活性。
如在圖1A中，噴嘴裝置相對于待處理材料的傳送平面布置在兩側(cè)上。具體而言，這意味著一個噴嘴設(shè)置在傳送平面之上而一個噴嘴設(shè)置在傳送平面之下。但是，根據(jù)圖1B，噴嘴裝置可僅包括一個布置在待處理材料的一側(cè)的噴嘴。此外，圖7中的噴嘴裝置也可以設(shè)置有基于圖4所描述的插入條。在此情況下，噴嘴開孔8由噴嘴軌道20的邊緣以及插入條12所界定。
如果噴嘴裝置僅布置在傳送平面的一側(cè)，則待處理材料可另外支撐在相對側(cè)上，例如通過輥、輪、或?qū)б壍赖?。在待處理材料一?cè)上的負(fù)壓使得可進(jìn)行良好地沖洗，即使是通過待處理材料中的最小通孔也是如此。
圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的噴嘴裝置。對應(yīng)于圖1-7中的組件賦予相同的參考標(biāo)號。在圖8中的噴嘴裝置對應(yīng)于基于圖7所描述的實施例，但是，在此情況下噴嘴都具有附加的噴嘴開孔22，其設(shè)計為在大體垂直于待處理材料10的傳送平而的方向上噴射處理液。附加的噴嘴開孔22使得通過待處理材料中的孔(例如通孔或盲孔)的處理液的流動加強(qiáng)。以此方式，可在形成于其中的孔的區(qū)域內(nèi)實現(xiàn)對待處理材料10的更有效地處理。
在圖8中，附加的噴嘴開孔22布置在彼此相對的上噴嘴與下噴嘴中。此種構(gòu)造例如對盲孔的處理是有利的。但是，可選的是，也可將附加的噴嘴開孔22布置得彼此偏置，如果意在通過待處理材料10中的通孔而產(chǎn)生連續(xù)流動，則這是有利的。
通過圖8所示的噴嘴裝置，處理液經(jīng)由液體通道6供應(yīng)至附加的噴嘴開孔22，其也起將處理液供應(yīng)至噴嘴開孔8的作用。作為可選方案，也可以對附加的噴嘴開孔22提供單獨(dú)的處理液運(yùn)送。為此目的，例如，通過分隔壁(這里未示出)可將液體通道6劃分為兩個單獨(dú)的槽。此外，可以設(shè)置其他裝置用于獨(dú)立于通過噴嘴開孔8的處理液的流動來調(diào)整或控制通過附加的噴嘴開孔22的處理液的流動。對于將處理液單獨(dú)地輸送至附加的噴嘴開孔22來說，具體也可以設(shè)置單獨(dú)的輸送裝置或輸送泵。
圖8中的噴嘴裝置具有對稱的構(gòu)造，使得噴嘴位于待處理材料10的傳送平面之下及之下，由此，這些噴嘴設(shè)計為相對于傳送平面鏡向?qū)ΨQ。但是，如已描述的，使噴嘴裝置相對于傳送平面對稱設(shè)計并不是一定必需的。例如，圖9中的實施例的情況。
圖9示出了由兩個噴嘴構(gòu)成的噴嘴裝置，這兩個噴嘴相對于待處理材料10的傳送平面而布置在兩側(cè)并具有不同的結(jié)構(gòu)。對相應(yīng)于圖1-8中的組件再次賦予相同的參考標(biāo)號。布置在傳送平面下方的噴嘴對應(yīng)于其表示在圖7中的結(jié)構(gòu)。但是，布置在待處理材料10的傳送平面之上的噴嘴具有不同的結(jié)構(gòu)。具體來說，其與布置在傳送平面下方的噴嘴的區(qū)別在于其僅配備有一個噴嘴開孔23，該噴嘴開孔23大體垂直于待處理材料10的傳送平面噴射處理液。因此，處理液大致垂直出現(xiàn)的傳送平面?zhèn)瓤僧a(chǎn)生負(fù)壓。特別是對于薄的待處理材料而言，可通過負(fù)壓在該傳送平面?zhèn)榷ㄎ桓郊拥膶?dǎo)引元件或支撐輪，這些并未在圖中示出。因此，可有效地支撐待處理材料10的傳送，同時布置在傳送平面上方的噴嘴的噴嘴開孔23的設(shè)計也更為靈活并其可調(diào)整其以適應(yīng)處理待處理材料10面對其的表面中的具體要求。因此，綜合而言，對于根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置的設(shè)計來說獲得了更高程度的靈活性。
此外，也可以對圖1-9中的噴嘴裝置的入口區(qū)域或出口區(qū)域布置導(dǎo)引元件，該導(dǎo)引元件一方面起減小或避免處理液中的紊亂的作用，另一方面其也可提供對待處理材料10的導(dǎo)引功能。導(dǎo)引元件例如可設(shè)計為在噴嘴殼體面對待處理材料10的表面上的連接板或突起的形式。這些連接板可平行于運(yùn)動方向18對正，但也可偏離此方向以確保對處理液的液流的適當(dāng)?shù)膶?dǎo)引。具體地，在通常處理通道展開處的出口區(qū)域16中，將導(dǎo)引元件設(shè)計為使其限定形成橫截面小于處理通道的橫截面的傳送通道(其)的形式是有利的。相應(yīng)的，待處理材料的運(yùn)動被限制在垂直于傳送平面的相對較小的區(qū)域內(nèi)，同時為導(dǎo)引元件之間的處理液的液流提供了額外的空間。由于導(dǎo)引元件的設(shè)置，具體來說可在噴嘴裝置的出口區(qū)域16中實現(xiàn)對待處理材料10的改善的導(dǎo)引。導(dǎo)引元件也可包括輪或輥。
導(dǎo)引元件也可與輥或輪結(jié)合，由此，導(dǎo)引元件可設(shè)計為梳狀，且輪布置在梳狀結(jié)構(gòu)的連接板之間。此外，還可以為輪或輥設(shè)置凹痕部以在梳狀結(jié)構(gòu)的連接板之間的端部處突出。這些措施很適合改善入口區(qū)域15中以及尤其是出口區(qū)域16中的待處理材料10的導(dǎo)引。如果待處理材料10是易于偏轉(zhuǎn)脫離其傳送平面的薄的膜材料，則以上是特別有利的。
基于圖1-9所描述的噴嘴裝置在所有情況下都涉及將處理液從噴嘴裝置運(yùn)送至待處理材料10上。但是，如果待處理材料10的傳送方向或噴嘴的布置顛倒，則噴嘴裝置以類似的方式用于通過吸取將處理液從待處理材料10移除到噴嘴裝置中。具體而言，如果在處理期間，產(chǎn)生分解物或?qū)⒐腆w帶出，則以上是有利的。通過將處理液吸取進(jìn)入噴嘴裝置，分解物或固體以最快的方式例如被帶至移除固體的再生單元或過濾器。因此，由于這些物質(zhì)導(dǎo)致的對處理結(jié)果的損害幾乎可完全排除。
此外，雖然這里描述的實施例涉及以處理液來處理待處理材料的噴嘴裝置，但本發(fā)明不限于此。而是，根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置也很好地適用于氣體處理介質(zhì)或液體與氣體處理介質(zhì)的混合物。由此，例如可以使用熱空氣以干燥薄且具柔性的待處理材料，或作為用于加濕的處理介質(zhì)的氣液混合物(用于保護(hù)而免于形成斑點(diǎn)或污點(diǎn))。此外，因為處理介質(zhì)的均勻分配，根據(jù)本發(fā)明的噴嘴裝置也很好地適用于以其他氣體(其在待處理材料的表面上起化學(xué)作用)進(jìn)行的處理。
通過所述的噴嘴裝置，不僅可以水平地、而且可以豎直地傳送處理介質(zhì)。在此情況下，為了實現(xiàn)對流的均勻控制，對于通過分配開孔及可調(diào)整噴嘴軌道的流分配來說，必須注意在豎直定位的噴嘴處的測量壓差。因此也可以使用傳統(tǒng)的“豎直系統(tǒng)”，該系統(tǒng)中，板獨(dú)立地降低至不同的處理槽中或在支架中一個接一個安裝。在此情況下，可以利用在入口區(qū)域中的吸取效應(yīng)以及噴嘴的其他優(yōu)點(diǎn)。
在氣體處理介質(zhì)的情況下，將噴嘴裝置布置在氣體介質(zhì)(例如氣體處理介質(zhì))中是有利的。
當(dāng)然將在這里基于圖1-9所描述的噴嘴裝置彼此結(jié)合也是可行的。具體而言，數(shù)個噴嘴裝置可沿待處理材料的傳送路徑串聯(lián)布置。這些噴嘴裝置優(yōu)選地限定了互補(bǔ)的處理區(qū)。
例如，一處理區(qū)可設(shè)計用于從位于一側(cè)或兩側(cè)上的噴嘴裝置中吸取除去灰塵微粒。另一處理區(qū)可設(shè)計為通過流動導(dǎo)致的負(fù)壓從位于一側(cè)或兩側(cè)上的盲孔吸取除去氣體。再一處理區(qū)可設(shè)計用于沖洗通孔，即，如上所述，在待處理材料的一側(cè)可產(chǎn)生正壓而在待處理材料的另一側(cè)產(chǎn)生負(fù)壓。
當(dāng)然也可將數(shù)個處理區(qū)形成在一個噴嘴裝置中。
對處理介質(zhì)的流動這也是優(yōu)選的，即每時間單位傳送至噴嘴開孔或噴嘴裝置的處理介質(zhì)的量以及處理介質(zhì)的壓力可作為待處理材料的特性的函數(shù)來控制或調(diào)整。在此情況下，具體來說，也可以將待處理材料的厚度、盲孔或通或孔的存在以及灰塵污染的程度全部納入考量。
在此情況下，以防止待處理材料的橫向方向從傳送路徑偏轉(zhuǎn)的方式，分別控制或調(diào)整噴嘴裝置內(nèi)的數(shù)個噴嘴行的處理介質(zhì)的流動及/或壓力。
參考標(biāo)號列表1連接開孔2殼體3，3a插入構(gòu)件4支撐5偏轉(zhuǎn)通道6液體通道7分配開孔8噴嘴開孔9分配開孔10 待處理材料11，11’液體路徑12插入條13殼體蓋14密封環(huán)15入口區(qū)域16出口區(qū)域17角18傳送方向19液體路徑20噴嘴軌道21調(diào)節(jié)螺釘22附加的噴嘴開孔
權(quán)利要求
1.一種用于以處理介質(zhì)來處理待處理材料的噴嘴裝置，其中待處理材料(10)能在傳送平面中沿傳送方向(18)從噴嘴裝置的入口區(qū)域(15)傳送至出口區(qū)域(16)，其特征在于，至少一個噴嘴開孔(8)，其以如下方式設(shè)計，即通過所述噴嘴開孔(8)的處理介質(zhì)流相對于所述待處理材料(10)的傳送平面成預(yù)定角度傾斜行進(jìn)，從而使所述處理介質(zhì)流偏轉(zhuǎn)至所述待處理材料(10)的傳送方向(18)。
2.如權(quán)利要求1所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)通過至少一個噴嘴開孔通道形成，該至少一個噴嘴開孔通道相對于所述待處理材料(10)的傳送平面成一銳角(17)延伸。
3.如權(quán)利要求2所述的噴嘴裝置，其特征在于所述角(17)最大為80度。
4.如權(quán)利要求2或3所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)設(shè)計為噴射所述處理介質(zhì)，且所述角(17)對著所述待處理材料(10)的傳送方向(18)開。
5.如權(quán)利要求4所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)以如下方式布置在基本沿所述傳送平面延伸的殼體壁中，即所述至少一個噴嘴開孔(8)與所述入口區(qū)域(15)之間的距離小于所述至少一個噴嘴開孔(8)與所述出口區(qū)域(16)之間的距離。
6.如權(quán)利要求2或3所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)設(shè)計為接收所述處理介質(zhì)，且所述角(17)沿所述待處理材料(10)的傳送方向(18)開。
7.如權(quán)利要求6所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)以如下方式布置在基本沿所述傳送平面延伸的殼體壁中，即所述至少一個噴嘴開孔(8)與所述出口區(qū)域(16)之間的距離小于所述至少一個噴嘴開孔(8)與所述入口區(qū)域(15)之間的距離。
8.如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置設(shè)計成使得所述噴嘴裝置的殼體壁與所述傳送平面之間的距離在所述入口區(qū)域(15)與所述至少一個噴嘴開孔(8)之間的區(qū)段內(nèi)沿所述待處理材料(10)的傳送方向減小，從而在該區(qū)段內(nèi)沿所述入口區(qū)域(15)的方向呈楔形開設(shè)的通道形成在所述殼體壁與所述傳送平面之間。
9.如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置設(shè)計為使得所述噴嘴裝置的殼體壁與所述傳送平面之間的距離在所述至少一個噴嘴開孔(8)與所述出口區(qū)域之間的區(qū)段內(nèi)沿所述待處理材料(10)的傳送方向(18)增加，從而在該區(qū)段內(nèi)沿所述出口區(qū)域(16)的方向呈楔形開設(shè)的通道形成在所述殼體壁與所述傳送平面之間。
10.如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)沿著所述傳送平面在垂直于所述傳送方向(18)的方向的寬度上延伸。
11.如權(quán)利要求10所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)設(shè)計為槽的形式。
12.如權(quán)利要求11所述的噴嘴裝置，其特征在于所述槽由所述噴嘴裝置的殼體壁以及可移除條(12)形成。
13.如權(quán)利要求11所述的噴嘴裝置，其特征在于所述槽通過噴嘴軌道(20)而界定在至少一側(cè)上，該噴嘴軌道以可調(diào)整方式位于所述噴嘴裝置的殼體壁上。
14.如權(quán)利要求13所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴軌道(20)是可更換的，以便能夠選擇不同的噴嘴開孔的幾何形狀。
15.如權(quán)利要求13或14所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴軌道(20)限定了所述噴嘴裝置在所述入口區(qū)域(15)的前邊緣。
16.如權(quán)利要求10所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)包括數(shù)個開孔，所述數(shù)個開孔沿垂直于所述傳送方向(18)彼此間隔布置并平行于所述傳送平面的方向。
17.如權(quán)利要求10至16中任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置包括沿所述至少一個噴嘴開孔(8)延伸而用于所述處理介質(zhì)的輸送的介質(zhì)通道(6)，該介質(zhì)通道通過分配開孔(7，9)連接至所述至少一個噴嘴開孔(8)，所述分配開孔(7，9)沿所述至少一個噴嘴開孔(8)彼此間隔布置。
18.如權(quán)利要求17所述的噴嘴裝置，其特征在于所述介質(zhì)通道(6)以如下方式設(shè)計，即所述介質(zhì)通道(6)的通過橫截面隨著離開連接開孔(1)的距離的增大而減小，該連接開孔(1)設(shè)置用于相應(yīng)地運(yùn)送或去除所述處理介質(zhì)。
19.如權(quán)利要求18所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置包括布置在所述介質(zhì)通道(6)中的插入元件(3，3a)，其位移量隨著離開所述連接開孔(1)的距離間隔的增加而增加。
20.如權(quán)利要求17至19中任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述至少一個噴嘴開孔(8)由至少一個噴嘴開孔通道形成，該至少一個噴嘴開孔通道相對于所述待處理材料(10)的傳送平面成一銳角(17)延伸，且所述分配開孔(7)由分配通道形成，所述分配通道相對于所述待處理材料(10)的傳送平面成一角度布置，該角度大于所述噴嘴開孔通道相對于所述傳送平面的角(17)。
21.如權(quán)利要求17至20中任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述分配開孔(9)在所述待處理材料(10)的傳送方向(18)上相對于所述至少一個噴嘴開孔(8)偏置。
22.如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置包括至少另一個噴嘴開孔(8)，該至少另一個噴嘴開孔布置在與所述至少一個噴嘴開孔(8)相對的所述待處理材料(10)的傳送平面的一側(cè)上。
23.如權(quán)利要求22所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置設(shè)計為相對于所述待處理材料(10)的傳送平面大體鏡向?qū)ΨQ。
24.如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置包括附加的噴嘴開孔(22，23)，其設(shè)計為大體垂直于所述待處理材料(10)的傳送平面而噴射所述處理介質(zhì)。
25.如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置，其特征在于所述噴嘴裝置設(shè)計用于一種用于對作為待處理材料(10)的印刷電路板或印刷電路薄膜進(jìn)行濕化學(xué)處理的裝置中。
26.一種用于對印刷電路板或印刷電路薄膜進(jìn)行濕化學(xué)處理的裝置，其特征在于如以上任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置。
27.一種用于以處理介質(zhì)來處理待處理材料的方法，其中待處理材料(10)于傳送平面中沿傳送方向(18)從噴嘴裝置的入口區(qū)域(15)移動至出口區(qū)域(16)，其特征在于所述方法包括使所述處理介質(zhì)流偏轉(zhuǎn)至所述待處理材料(10)的傳送方向(18)，其中該處理介質(zhì)流由所述噴嘴裝置的噴嘴開孔(8)噴射或接收。
28.如權(quán)利要求27所述的方法，其特征在于以相對于所述待處理材料(10)的傳送平面成1度至30度的預(yù)定銳角噴射或接收所述處理介質(zhì)。
29.如權(quán)利要求28所述的方法，其特征在于所述角(17)最大為80度。
30.如權(quán)利要求27至29中任一權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述方法包括改變所述噴嘴裝置的形狀以在所述噴嘴裝置的處理通道的至少一個所限定的區(qū)域內(nèi)特定地產(chǎn)生負(fù)壓。
31.如權(quán)利要求30所述的方法，其特征在于所述負(fù)壓在所述噴嘴裝置的入口區(qū)域(15)中產(chǎn)生而將所述處理介質(zhì)從所述入口區(qū)域(15)的周圍吸入。
32.如權(quán)利要求27至31中任一權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述方法包括改變所述噴嘴裝置的形狀以調(diào)整所述處理介質(zhì)的流速。
33.如權(quán)利要求27至32中任一權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述方法包括以如下方式改變所述噴嘴裝置的形狀以及所述噴嘴開孔(8)與至少一個附加的噴嘴開孔(22；23)的位置，即在所述噴嘴裝置的特定區(qū)域內(nèi)、在所述待處理材料的一側(cè)上產(chǎn)生負(fù)壓并在相對側(cè)上產(chǎn)生正壓。
34.如權(quán)利要求27至33中任一權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述方法包括控制供應(yīng)至所述噴嘴裝置的處理介質(zhì)流。
35.如權(quán)利要求27至34中任一權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述方法包括控制供應(yīng)至所述噴嘴裝置的處理介質(zhì)的壓力。
36.如權(quán)利要求27至35中任一權(quán)利要求所述的方法，其特征在于所述方法包括所述噴嘴裝置根據(jù)權(quán)利要求1-26中任一權(quán)利要求所述的噴嘴裝置設(shè)計。
全文摘要
公開一種噴嘴裝置，其具體可用于作為具有印刷電路板形式的待處理材料(10)的水平行進(jìn)通路的電鍍系統(tǒng)中的浪涌噴嘴。在此情況下，待處理材料(10)可在傳送方向(18)上從噴嘴裝置的入口區(qū)域(15)移動至出口區(qū)域(16)。該噴嘴裝置包括至少一個噴嘴開孔(8)，該噴嘴開孔以如下方式設(shè)計，即待處理材料(10)的流相對于待處理材料(10)的傳送平面成預(yù)定角度傾斜行進(jìn)，由此將處理介質(zhì)流偏轉(zhuǎn)至待處理材料(10)的傳送方向(18)。
文檔編號H05K1/00GK1910972SQ200580002472
公開日2007年2月7日 申請日期2005年1月13日 優(yōu)先權(quán)日2004年1月16日
發(fā)明者亨利·孔策, 費(fèi)迪南德·維納 申請人:埃托特克德國有限公司