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在陶瓷基板上制作多層精密線路的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的制作方法

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在陶瓷基板上制作多層精密線路的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的制作方法與工藝

本實(shí)用新型涉及陶瓷基板制造技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種在陶瓷基板上制作多層精密線路的產(chǎn)品結(jié)構(gòu)。



背景技術(shù):

高頻陶瓷制電子線路板是一個(gè)非常重要的基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目,可以促進(jìn)改變我國(guó)高頻基板依賴美國(guó)、日本等國(guó)進(jìn)口的歷史,項(xiàng)目屬于戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)范疇,項(xiàng)目建設(shè)符合國(guó)家和地方產(chǎn)業(yè)規(guī)劃和政策要求。

高性能的陶瓷基電子線路板是陶瓷基板的一個(gè)種類,是超小型片式電阻電容電感及集成電路芯片IC等元件的載體材料,一般用于要求較高及使用頻率很高的無(wú)線電路中,作為元件的連接和安裝固定的載體,廣泛應(yīng)用于移動(dòng)通信、計(jì)算機(jī)、家用電器和汽車電子等領(lǐng)域。

現(xiàn)有技術(shù)中通常采用一般的線路板基板進(jìn)行制造,為復(fù)銅板,復(fù)銅板的耐熱性,耐幅射性,散熱性較差,在復(fù)銅板上制作的線路基本導(dǎo)電材料為銅,銅材的厚度是固定的,不易變化;多層的電子線路需多層復(fù)銅板重疊,厚度較厚;上下層線路的連接一般採(cǎi)用孔金屬化等簡(jiǎn)單聯(lián)接。金屬線條厚度寬度一般達(dá)毫米級(jí)。

一般的復(fù)銅板,在通信中微波及毫米波等領(lǐng)域傳輸性能不穩(wěn)定及損耗大的高頻特性缺陷。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本申請(qǐng)人針對(duì)上述現(xiàn)有生產(chǎn)技術(shù)中的缺點(diǎn),提供一種在陶瓷基板上制作多層精密線路的產(chǎn)品結(jié)構(gòu),從而解決了在通信中微波及毫米波等領(lǐng)域傳輸性能不穩(wěn)定、損耗大的高頻特性缺陷。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下:

一種在陶瓷基板上制作多層精密線路的產(chǎn)品結(jié)構(gòu),包括隔離層,所述隔離層成矩形波結(jié)構(gòu),所述隔離層上部的兩個(gè)矩形波之間為第一金屬層,所述隔離層下部的單個(gè)矩形波底下為第二金屬層,所述第一金屬層成長(zhǎng)方形結(jié)構(gòu),所述第二金屬層成方形結(jié)構(gòu);位于隔離層和第一金屬層的上部為絕緣層,所述絕緣層的頂部為保護(hù)層,所述保護(hù)層的頂部為陶瓷基板;所述隔離層一旁還間隔設(shè)置有引出電極。

作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn):

所述隔離層、第二金屬層和引出電極的底部分別為保護(hù)層和陶瓷基板。

所述第一金屬層和第二金屬層均通過(guò)金屬線分布而成。

所述金屬線交錯(cuò)分布,金屬線的最小線寬是0.01mm,最小線距是0.01mm。

本實(shí)用新型的有益效果如下:

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)緊湊、合理,操作與制造方便,采用超高頻陶瓷做基板,高頻陶瓷基電子線路板在耐熱性、散熱性、耐宇宙射線、綠色環(huán)保性以及高低溫循環(huán)老化試驗(yàn)方面的優(yōu)異性能是傳統(tǒng)覆銅板無(wú)法比擬的。由于陶瓷材質(zhì)和加工生產(chǎn)方式的自身優(yōu)勢(shì),因此具有介電常數(shù)易于控制機(jī)械強(qiáng)度高、性能穩(wěn)定、熱導(dǎo)率好、絕緣強(qiáng)度高、防腐蝕、低損耗等特點(diǎn)。

本實(shí)用新型可在陶瓷基板上鍍上金,銀,鋁,銅,鎳,鉬等各種所需的金屬材料。

本實(shí)用新型采用真空鍍膜方案制作金屬膜層作多層布線,每一層厚度可控,每一層也可多種金屬疊加。

本實(shí)用新型采用兩層金屬膜間採(cǎi)用有機(jī)膠隔離,而且膠膜的厚度也可控。

附圖說(shuō)明

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖(實(shí)施例一)。

圖2為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖(實(shí)施例二)。

圖3為本實(shí)用新型金屬線的分布圖。

圖4為本實(shí)用新型的制作工作流程圖。

其中:1、陶瓷基板;2、保護(hù)層;3、絕緣層;4、第一金屬層;5、隔離層;6、第二金屬層;7、引出電極;8、金屬線。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖,說(shuō)明本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式。

如圖1、圖2、圖3和圖4所示,本實(shí)施例的在陶瓷基板上制作多層精密線路的產(chǎn)品結(jié)構(gòu),包括隔離層5,隔離層5成矩形波結(jié)構(gòu),隔離層5上部的兩個(gè)矩形波之間為第一金屬層4,隔離層5下部的單個(gè)矩形波底下為第二金屬層6,第一金屬層4成長(zhǎng)方形結(jié)構(gòu),第二金屬層6成方形結(jié)構(gòu);位于隔離層5和第一金屬層4的上部為絕緣層3,絕緣層3的頂部為保護(hù)層2,保護(hù)層2的頂部為陶瓷基板1;隔離層5一旁還間隔設(shè)置有引出電極7。

隔離層5、第二金屬層6和引出電極7的底部分別為保護(hù)層2和陶瓷基板1。

第一金屬層4和第二金屬層6均通過(guò)金屬線8分布而成。

金屬線8交錯(cuò)分布,金屬線8的最小線寬是0.01mm,最小線距是0.01mm。

本實(shí)用新型產(chǎn)品結(jié)構(gòu)為多層結(jié)構(gòu),基板為高頻陶瓷片。

陶瓷片上通過(guò)真空鍍膜方式鍍上金屬膜層。

金屬層所需線條與圖形也可以采用光刻工藝制出。

金屬的純度,致密度比較優(yōu)越,真空鍍膜使膜層與陶瓷基板具有良好的結(jié)合力。

金屬線條的寬度可達(dá)微米級(jí),線條的形狀可任意制作。

金屬層之間的隔離(即多層金屬膜中間的隔離)采用有機(jī)感光膠,該膠具有良好的絕緣性能,而且耐高溫,膜層的厚度可以根據(jù)需要做到精確控制,而且上下層金屬膜之間的連接,也可以通過(guò)光刻工藝任意制作。

與傳統(tǒng)的多層復(fù)銅板相比,它有金屬材質(zhì)可選,厚度可控,耐高溫,適合高頻場(chǎng)合,易于多層疊堆。

實(shí)際制作過(guò)程中,包括如下工藝路線:

第一步:準(zhǔn)備陶瓷片;

第二步:將陶瓷片切割成小片;

第三步:將小片加工外型;

第四步:對(duì)小片進(jìn)行平面磨拋;

第五步:清洗;

第六步:涂保護(hù)層;

第七步:真空鍍金第一金屬層;

第八步:清洗;

第九步:涂感光膠——曝光——顯影——去膠——刻圖形一;

第十步:清洗;

第十一步:涂隔離層膠;

第十二步:顯隔離層圖形;

第十三步:真空鍍金第二金屬層;

第十四步:清洗;

第十五步:涂感光膠;

第十六步:曝光;

第十七步:顯影;

第十八步:去膠;

第十九步:刻圖形二;

第二十步:引出電極;

第二十一步:鍵合;

第二十二步:檢驗(yàn);

第二十三步:入庫(kù)。

在整個(gè)工藝過(guò)程中,高頻陶瓷件進(jìn)廠后,然后邊緣磨削,磨兩側(cè)面,拋光。用有機(jī)堿清洗液清洗表面,烘干。再在表面真空鍍所需要金屬層,涂光刻膠,顯影,蝕刻金屬層線條,去膠。用有機(jī)堿清洗液清洗表面,涂隔離用的有機(jī)膠,堅(jiān)膜,刻隔離層圖形,形成隔離層。

如需多層金屬,則將上述工藝重復(fù),形成多層隔離的金屬線條和圖形,上下層金屬之間的連接,則可在隔離層上光刻孔或圖形制成。

由于該加工工藝具備靈活性強(qiáng),加工手段精密精密度高,特別適合高難度,多層次,復(fù)雜圖形線路板的制成。

以上描述是對(duì)本實(shí)用新型的解釋,不是對(duì)實(shí)用新型的限定,本實(shí)用新型所限定的范圍參見(jiàn)權(quán)利要求,在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi),可以作任何形式的修改。

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