本實用新型涉及電磁加熱領(lǐng)域，特別涉及一種線圈盤和電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：相比傳統(tǒng)的加熱方式，電磁加熱方式具有效率高、安全性好、簡單方便等優(yōu)勢，基于電磁加熱方式的電磁烹飪器具受到了廣大用戶的喜愛。線圈盤是電磁烹飪器具的重要組件之一，其產(chǎn)生的高頻交變電磁場在鍋具中產(chǎn)生渦流以加熱。然而，現(xiàn)有的線圈盤中，加熱中心位于靠近盤心的內(nèi)部區(qū)域，導(dǎo)致線圈盤整體加熱不均勻，加熱效果差。技術(shù)實現(xiàn)要素：本實用新型的主要目的是提出一種線圈盤，旨在解決上述加熱不均勻的問題，改善線圈盤的加熱效果。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提出的線圈盤，用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及異形線圈繞組，所述異形線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環(huán)形，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部，所述異形線圈繞組包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米。優(yōu)選地，在同一匝線圈中相鄰兩所述凹部的最凹點之間的距離為15～110毫米。優(yōu)選地，所述線圈盤還包括設(shè)于所述線圈盤座的圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組和所述圓環(huán)形線圈繞組內(nèi)外層相間設(shè)置。優(yōu)選地，所述圓環(huán)形線圈繞組的外圍設(shè)有所述異形線圈繞組。優(yōu)選地，在同一匝線圈中，相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為35～130毫米，相鄰兩所述凹部的最凹點之間的距離為25～110毫米。優(yōu)選地，所述異形線圈繞組的外圍設(shè)有所述圓環(huán)形線圈繞組。優(yōu)選地，在同一匝線圈中，相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為15～100毫米，相鄰兩所述凹部的最凹點之間的距離為15～90毫米。優(yōu)選地，所述線圈盤座為純平式線圈盤座。優(yōu)選地，所述線圈盤座為平凹式線圈盤座，所述線圈盤座包括盤底和自所述盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，所述異形線圈繞組設(shè)于所述盤底或所述側(cè)部。本實用新型進(jìn)一步提出一種電磁烹飪器具，包括線圈盤，所述線圈盤用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座以及異形線圈繞組，所述異形線圈繞組設(shè)于所述線圈盤座，所述異形線圈繞組呈環(huán)形，所述異形線圈繞組具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一所述凸部由所述異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩所述凸部之間形成所述異形線圈繞組的凹部，所述異形線圈繞組包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩所述凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或電壓力鍋。本實用新型技術(shù)方案中，線圈盤座設(shè)有異形線圈繞組，異形線圈繞組呈環(huán)形，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部，每一凸部由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部之間形成異形線圈繞組的凹部，從而在異形線圈繞組的分布區(qū)域形成強弱間隔分布的磁場，進(jìn)而形成多個加熱中心。異形線圈繞組包括多匝線圈，以增強磁場強度，加強加熱效果，在同一匝線圈中，相鄰兩凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米，以使加熱中心之間具有適中的距離，既不會因為加熱中心間距過小、分布過于集中而導(dǎo)致加熱區(qū)域的重疊，又避免了加熱中心間距過大、分布過疏而產(chǎn)生加熱效果微弱的加熱盲區(qū)，從而使線圈盤整體的加熱更均勻，改善了線圈盤的加熱效果。附圖說明為了更清楚地說明本實用新型實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實用新型線圈盤一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤的加熱區(qū)域分布示意圖；圖3為本實用新型線圈盤另一實施例的結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為圖3中線圈盤的加熱區(qū)域分布示意圖。附圖標(biāo)號說明：標(biāo)號名稱標(biāo)號名稱100線圈盤座200異形線圈繞組210凸部220凹部300圓環(huán)形線圈繞組本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進(jìn)一步說明。具體實施方式下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型的一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒緦嵱眯滦椭械膶嵤├?，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。需要說明，若本實用新型實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關(guān)系、運動情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，各個實施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無法實現(xiàn)時應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實用新型提出一種線圈盤。在本實用新型實施例中，如圖1所示，該線圈盤用于電磁烹飪器具，包括線圈盤座100以及異形線圈繞組200，異形線圈繞組200設(shè)于線圈盤座100，異形線圈繞組200呈環(huán)形，異形線圈繞組200具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組200的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間形成異形線圈繞組200的凹部220，異形線圈繞組200包括多匝線圈，在同一匝線圈中相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為15～130毫米。具體的，線圈盤座100用于支撐異形線圈繞組200，根據(jù)安培定則，沿環(huán)周間隔分布的凸部210和凹部220使得線圈盤中的磁場呈強弱間隔分布。如圖2所示，在線圈盤中，加熱區(qū)域的分布與磁場強度的分布基本相對應(yīng)，即線圈盤中磁場較強的區(qū)域，加熱效果也較強，強弱間隔分布的磁場在線圈盤上形成多個間隔的加熱中心，圖2中異形線圈繞組200所在區(qū)域的虛線所圍成的閉合區(qū)域即加熱中心。加熱中心的分布與異形線圈繞組200的凸部210和凹部220的尺寸相關(guān)，為了避免相鄰兩個加熱中心之間的距離過大形成加熱效果微弱的加熱盲區(qū)，或相鄰兩個加熱中心之間的距離過小導(dǎo)致加熱中心重疊相連，導(dǎo)致線圈盤的加熱不均勻，在包括多匝線圈的異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為15～130毫米，其中，最凸點為凸部210上距離環(huán)心最遠(yuǎn)的點。如圖1所示，D1為最內(nèi)匝的線圈上、相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離，D1不小于15毫米；D2為最外匝的線圈上、相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離，D2不大于130毫米；在最內(nèi)匝和最外匝之間的線圈上，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離在D1和D2之間。在該尺寸范圍內(nèi)，可避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生和加熱中心的重疊，從而提高線圈盤加熱的均勻性，改善線圈盤的加熱效果。本實用新型技術(shù)方案中，線圈盤座設(shè)有異形線圈繞組200，異形線圈繞組200呈環(huán)形，具有沿環(huán)周間隔設(shè)置的多個凸部210，每一凸部210由異形線圈繞組的一部分相對相鄰部分向外凸出而形成，相鄰兩凸部210之間形成異形線圈繞組的凹部220，從而在異形線圈繞組的分布區(qū)域形成強弱間隔分布的磁場，進(jìn)而形成多個加熱中心。異形線圈繞組包括多匝線圈，以增強磁場強度，加強加熱效果，在同一匝線圈中，相鄰兩凸部的最凸點之間的距離為15～130毫米，從而使得加熱中心之間具有適中的距離，避免加熱區(qū)域的重疊或加熱盲區(qū)的產(chǎn)生，以使線圈盤的加熱更均勻，改善線圈盤的加熱效果。在本實用新型的一實施例中，在同一匝線圈中相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為15～110毫米。如圖1所示，在異形線圈繞組200的同一匝線圈中，凹部220上距離環(huán)心最近的點為最凹點，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為15～110毫米。D3為最內(nèi)匝的線圈上、相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離，D3不小于15毫米；D4為最外匝的線圈上、相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離，D4不大于110毫米；在最內(nèi)匝和最外匝之間的線圈上，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離在D3和D4之間。在該尺寸范圍內(nèi)，可避免加熱盲區(qū)的產(chǎn)生和加熱中心的重疊，使加熱更均勻。在本實用新型的一實施例中，如圖1所示，線圈盤還包括設(shè)于線圈盤座100的圓環(huán)形線圈繞組300。根據(jù)安培定則，圓環(huán)形線圈繞組300所產(chǎn)生的磁場沿環(huán)周均勻分布，在線圈盤中形成連續(xù)分布的圓形或圓環(huán)形加熱區(qū)域，從而使得線圈盤在內(nèi)外方向上的加熱更加均勻，如圖2所示，虛線所圍成的圓形區(qū)域為圓環(huán)形線圈繞組300所形成的加熱區(qū)域。進(jìn)一步的，異形線圈繞組200和圓環(huán)形線圈繞組300內(nèi)外層相間設(shè)置。線圈盤包括一個或多個異形線圈繞組200，以及，一個或多個圓環(huán)形線圈繞組300，通過內(nèi)外層相間設(shè)置異形線圈繞組200和圓環(huán)形線圈繞組300，使沿環(huán)周分散分布的小加熱中心和連續(xù)的加熱區(qū)域在線圈盤內(nèi)外間隔分布，從而在線圈盤中均勻地引入多個加熱中心，以改善加熱效果。在本實用新型的一實施例中，如圖1和圖2所示，圓環(huán)形線圈繞組300的外圍設(shè)有異形線圈繞組200，相應(yīng)的，在內(nèi)部的連續(xù)加熱區(qū)域外圍形成多個分散的加熱中心。通過將圓環(huán)形線圈繞組300設(shè)置在內(nèi)部，可減小線圈盤內(nèi)部的加熱盲區(qū)，考慮到每一分散的加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域的擴(kuò)散范圍，使加熱中心之間、以及加熱中心和連續(xù)加熱區(qū)域之間不產(chǎn)生重疊或盲區(qū)；同時，考慮到在線圈盤的生產(chǎn)過程中，異形線圈繞組200繞設(shè)的工藝限制了其凸部210和凹部220之間的連接部轉(zhuǎn)折不宜過大，異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為35～130毫米，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為25～110毫米。在本實用新型的另一實施例中，如圖3和圖4所示，異形線圈繞組200的外圍設(shè)有圓環(huán)形線圈繞組300，相應(yīng)的，在多個分散的加熱中心外圍形成連續(xù)加熱區(qū)域。當(dāng)異形線圈繞組200位于內(nèi)部時，異形線圈繞組200的同一匝線圈中，相鄰兩凸部210的最凸點之間的距離為15～100毫米，相鄰兩凹部220的最凹點之間的距離為15～90毫米，避免加熱中心之間的距離過小產(chǎn)生重疊或距離過大產(chǎn)生加熱盲區(qū)，同時，避免位于內(nèi)部的加熱中心與外圍的連續(xù)加熱區(qū)域之間產(chǎn)生重疊或加熱盲區(qū)；同時，避免異形線圈繞組200的凸部210和凹部220之間的連接部轉(zhuǎn)折過大而導(dǎo)致繞設(shè)困難。在上述實施例中，線圈盤座100可以為純平式線圈盤座，異形線圈繞組200和/或圓環(huán)形線圈繞組300均繞設(shè)在同一平面上，相應(yīng)的，分散的加熱中心和/或連續(xù)加熱區(qū)域也分布在同一平面上，適用于對平底鍋具進(jìn)行加熱。在上述實施例中，線圈盤座100也可以為平凹式線圈盤座，包括盤底和自盤底的周緣向上延伸的環(huán)形側(cè)部，異形線圈繞組設(shè)于盤底或側(cè)部，當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于盤底時，盤底形成分散的加熱中心，以提高盤底的加熱強度；當(dāng)異形線圈繞組設(shè)于側(cè)部時，側(cè)部形成分散的加熱中心，以改善電磁加熱過程中側(cè)部加熱強度不足的問題，適應(yīng)多種烹飪需求。本實用新型還提出一種電磁烹飪器具，該電磁烹飪器具包括線圈盤，該線圈盤的具體結(jié)構(gòu)參照上述實施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實施例的技術(shù)方案所帶來的所有有益效果，在此不再一一贅述。其中，電磁烹飪器具可以是根據(jù)電磁加熱原理工作的電磁爐、電飯煲或電壓力鍋等。以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是在本實用新型的發(fā)明構(gòu)思下，利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，或直接/間接運用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
均包括在本實用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。當(dāng)前第1頁1 2 3