本實(shí)用新型涉及電磁烹飪器具
技術(shù)領(lǐng)域：
，特別涉及一種線圈盤(pán)及電磁烹飪器具。
背景技術(shù)：
：電磁烹飪器具利用繞組線圈通電時(shí)，能夠產(chǎn)生高頻交變電磁場(chǎng)，通過(guò)該高頻交變電磁場(chǎng)將電能轉(zhuǎn)化為內(nèi)鍋的熱能來(lái)烹飪食物。目前，常規(guī)電磁烹飪器具的線圈盤(pán)，通常是在電磁烹飪器具的線圈盤(pán)座上，設(shè)置一個(gè)繞組線圈。如此設(shè)置，使得線圈盤(pán)上僅能夠在該繞組線圈對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成一個(gè)加熱區(qū)，容易在該加熱區(qū)的內(nèi)外兩側(cè)形成加熱盲區(qū)，使得線圈盤(pán)對(duì)內(nèi)鍋的加熱效果很不均勻。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的主要目的是提出一種線圈盤(pán)，旨在能夠在線圈盤(pán)座上形成多個(gè)加熱區(qū)，實(shí)現(xiàn)對(duì)內(nèi)鍋的均勻加熱。為到達(dá)上述之技術(shù)目的，本實(shí)用新型提供一種線圈盤(pán)，所述線圈盤(pán)包括線圈盤(pán)座，以及設(shè)于所述線圈盤(pán)座上且呈間隔分布的多個(gè)繞組線圈，相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈之間的間距為D，其中，5mm≤D≤15mm。優(yōu)選地，所述多個(gè)繞組線圈呈圓環(huán)形排布。優(yōu)選地，所述線圈盤(pán)座的中心位置設(shè)有中心繞組線圈，所述多個(gè)繞組線圈分布于所述中心繞組線圈的外圍。優(yōu)選地，所述線圈盤(pán)座上還安裝多個(gè)磁條，所述多個(gè)磁條包括分別對(duì)應(yīng)所述中心繞組線圈設(shè)置的多個(gè)第一磁條、以及對(duì)應(yīng)所述多個(gè)繞組線圈設(shè)置的多個(gè)第二磁條。優(yōu)選地，所述多個(gè)第一磁條對(duì)應(yīng)所述中心繞組線圈呈輻射狀排布；所述多個(gè)第二磁條對(duì)應(yīng)每一所述繞組線圈呈輻射狀排布。優(yōu)選地，每一所述第一磁條呈長(zhǎng)條狀設(shè)置，且自所述中心繞組線圈的內(nèi)周沿伸出至每一所述繞組線圈的內(nèi)周沿。優(yōu)選地，每一所述第二磁條包括呈長(zhǎng)條狀的第二磁條主體、以及凸設(shè)于所述第二磁條主體的兩端的兩磁條凸部；每一所述繞組線圈的內(nèi)周沿設(shè)有內(nèi)側(cè)安裝孔，每一所述繞組線圈的外周沿設(shè)有外側(cè)安裝孔，所述外側(cè)安裝孔設(shè)置于所述線圈盤(pán)座的邊緣，每一所述第二磁條的兩磁條凸部分別對(duì)應(yīng)安裝至所述內(nèi)側(cè)安裝孔與所述外側(cè)安裝孔。優(yōu)選地，所述線圈盤(pán)座為純平式線圈盤(pán)座、平凹式線圈盤(pán)座以及純凹式線圈盤(pán)座中的一種。本實(shí)用新型還一種電磁烹飪器具，所述電磁烹飪器具包括線圈盤(pán)，所述線圈盤(pán)包括線圈盤(pán)座，以及設(shè)于所述線圈盤(pán)座上且呈間隔分布的多個(gè)繞組線圈，相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈之間的間距D，5mm≤D≤15mm。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或者電壓力鍋。本實(shí)用新型技術(shù)方案，通過(guò)在所述線圈盤(pán)座上設(shè)置多個(gè)繞組線圈，所述多個(gè)繞組線圈在所述線圈盤(pán)座上對(duì)應(yīng)形成有多個(gè)加熱區(qū)，而相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈之間的間距為D，間距D限定為5mm≤D≤15mm，以此設(shè)置，使得所述多個(gè)加熱區(qū)較為均勻地分布于所述線圈盤(pán)座上，且在該間距D的限位范圍內(nèi)，所述多個(gè)繞組線圈之間不易形成加熱盲區(qū)。附圖說(shuō)明為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖示出的結(jié)構(gòu)獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型的線圈盤(pán)的一實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中線圈盤(pán)的俯視示意圖；圖3為圖1中線圈盤(pán)的立體分解示意圖。本實(shí)用新型附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明：標(biāo)號(hào)名稱(chēng)標(biāo)號(hào)名稱(chēng)10線圈盤(pán)座42第二磁條20繞組線圈42a第二磁條主體30中心繞組線圈42b磁條凸部40磁條50內(nèi)側(cè)安裝孔41第一磁條60外側(cè)安裝孔本實(shí)用新型目的的實(shí)現(xiàn)、功能特點(diǎn)及優(yōu)點(diǎn)將結(jié)合實(shí)施例，參照附圖做進(jìn)一步說(shuō)明。具體實(shí)施方式下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。需要說(shuō)明，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、后……)，則該方向性指示僅用于解釋在某一特定姿態(tài)(如附圖所示)下各部件之間的相對(duì)位置關(guān)系、運(yùn)動(dòng)情況等，如果該特定姿態(tài)發(fā)生改變時(shí)，則該方向性指示也相應(yīng)地隨之改變。另外，若本實(shí)用新型實(shí)施例中有涉及“主”、“側(cè)”等的描述，則該“主”、“側(cè)”等的描述僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對(duì)重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此，限定有“主”、“側(cè)”的特征可以明示或者隱含地包括至少一個(gè)該特征。另外，各個(gè)實(shí)施例之間的技術(shù)方案可以相互結(jié)合，但是必須是以本領(lǐng)域普通技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為基礎(chǔ)，當(dāng)技術(shù)方案的結(jié)合出現(xiàn)相互矛盾或無(wú)法實(shí)現(xiàn)時(shí)應(yīng)當(dāng)認(rèn)為這種技術(shù)方案的結(jié)合不存在，也不在本實(shí)用新型要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。本實(shí)用新型提供一種線圈盤(pán)，所述線圈盤(pán)用以安裝至電磁烹飪器具內(nèi)。請(qǐng)參閱圖1和圖2，所述線圈盤(pán)包括線圈盤(pán)座10，以及設(shè)于所述線圈盤(pán)座10上且呈間隔分布的多個(gè)繞組線圈20，相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20之間的間距為D，其中，5mm≤D≤15mm。其中，若相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20之間的間距D小于5mm，則相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20形成的兩個(gè)高頻交變電磁場(chǎng)(亦即加熱區(qū))距離較近，容易發(fā)生消磁；若相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20之間的間距D大于15mm，則相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20形成的兩個(gè)高頻交變電磁場(chǎng)距離較遠(yuǎn)，容易在所述多個(gè)繞組線圈20之間形成加熱盲區(qū)，不利于所述線圈盤(pán)對(duì)內(nèi)鍋均勻加熱，因此，相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20之間的間距為D，限定為5mm≤D≤15mm。本實(shí)用新型技術(shù)方案，通過(guò)在所述線圈盤(pán)座10上設(shè)置多個(gè)繞組線圈20，所述多個(gè)繞組線圈20在所述線圈盤(pán)座10上對(duì)應(yīng)形成有多個(gè)加熱區(qū)，而相鄰的兩個(gè)所述繞組線圈20之間的間距為D，間距D限定為5mm≤D≤15mm，以此設(shè)置，使得所述多個(gè)加熱區(qū)較為均勻地分布于所述線圈盤(pán)座10上，且在該間距D的限位范圍內(nèi)，所述多個(gè)繞組線圈20之間不易形成加熱盲區(qū)。將所述線圈盤(pán)安裝至電磁烹飪器具內(nèi)時(shí)，利用所述多個(gè)繞組線圈20通電時(shí)產(chǎn)生的高頻交變電磁場(chǎng)，處于高頻交變電磁場(chǎng)中的內(nèi)鍋(例如金屬鍋)切割磁力線而在其內(nèi)部產(chǎn)生渦旋電流，所述渦旋電流的焦耳熱效應(yīng)使內(nèi)鍋升溫，從而將電能轉(zhuǎn)化為內(nèi)鍋的熱能來(lái)烹飪食物。所述線圈盤(pán)座10可為純平式線圈盤(pán)座、平凹式線圈盤(pán)座以及純凹式線圈盤(pán)座中的一種。其中，所述純平式線圈盤(pán)座為整體呈平板狀設(shè)置；所述平凹式線圈盤(pán)座具有呈平板狀設(shè)置的底部，以及自所述底部朝上延伸出的側(cè)部，所述側(cè)部與所述底部之間采用圓弧過(guò)渡銜接；所述純凹式線圈盤(pán)座具有呈凹面狀設(shè)置的底部，以及自所述底部朝上延伸出的側(cè)部，所述側(cè)部與所述底部之間采用圓弧過(guò)渡銜接，且配合呈碗狀設(shè)置。于本實(shí)施例中，所述線圈盤(pán)座10為純平式線圈盤(pán)座，所述多個(gè)繞組線圈20在所述線圈盤(pán)座10的上表面間隔排布。所述多個(gè)繞組線圈20在所述線圈盤(pán)座10上的排布方式有多種，例如，所述多個(gè)繞組線圈20呈多排排布于所述線圈盤(pán)座10上，或者所述多個(gè)繞組線圈20呈圓環(huán)形排布于所述線圈盤(pán)座10上，只要所述多個(gè)繞組線圈20較為均勻地排布即可。于本實(shí)施例中，所述多個(gè)繞組線圈20采用上述后一種設(shè)置方式，即所述多個(gè)繞組線圈20呈圓環(huán)形排布。進(jìn)一步的，于本實(shí)施例中，在所述線圈盤(pán)座10的中心位置設(shè)置中心繞組線圈30，所述多個(gè)繞組線圈20分布于所述中心繞組線圈30的外圍。具體的，所述多個(gè)繞組線圈20環(huán)繞所述中心繞組線圈30而呈圓環(huán)形排布，通過(guò)合理設(shè)置所述中心繞組線圈30及所述多個(gè)繞組線圈20的線圈匝數(shù)，以使所述多個(gè)繞組線圈20均勻排布至所述線圈盤(pán)座10的周緣，以此設(shè)置，可增大加熱區(qū)的范圍，避免在所述線圈盤(pán)座10的內(nèi)外側(cè)產(chǎn)生加熱盲區(qū)。請(qǐng)參閱圖1和圖3，于本實(shí)施例中，所述線圈盤(pán)座10上還安裝有多個(gè)磁條40，所述多個(gè)磁條40包括分別對(duì)應(yīng)所述多個(gè)繞組線圈20設(shè)置的多個(gè)第一磁條41、以及對(duì)應(yīng)所述中心繞組線圈30設(shè)置的多個(gè)第二磁條42。所述多個(gè)磁條40用以聚集所述高頻交變電磁場(chǎng)的磁力線，以加強(qiáng)所述高頻交變電磁場(chǎng)的強(qiáng)度。所述多個(gè)第一磁條41及所述多個(gè)第二磁條42，在所述線圈盤(pán)座10上的排布方式?jīng)]有限定，優(yōu)選地，所述多個(gè)第一磁條41對(duì)應(yīng)所述中心繞組線圈30呈輻射狀排布；所述多個(gè)第二磁條42對(duì)應(yīng)每一所述繞組線圈20呈輻射狀排布，這種排布方式，可有效地聚集位于所述線圈盤(pán)座10的內(nèi)側(cè)及其外圍的磁力線，增強(qiáng)高頻交變電磁場(chǎng)的磁場(chǎng)強(qiáng)度，從而提升所述多個(gè)繞組線圈20及所述中心繞組線圈30的加熱強(qiáng)度。具體的，所述多個(gè)第一磁條41分別自所述中心繞組線圈30的內(nèi)周沿呈輻射狀、伸出至所述多個(gè)繞組線圈20的內(nèi)周沿；所述多個(gè)第二磁條42分別自每一所述繞組線圈20的內(nèi)周沿呈輻射狀、伸出至所述線圈盤(pán)座10的周緣。于本實(shí)施例中，所述多個(gè)磁條40均安裝于所述線圈盤(pán)座10的下表面，所述多個(gè)磁條40的安裝方式有多種，可在所述線圈盤(pán)座10上設(shè)置對(duì)應(yīng)的安裝孔或安裝槽安裝，或者設(shè)置其他固定結(jié)構(gòu)如卡扣等。其中，每一所述第一磁條41呈長(zhǎng)條狀設(shè)置，且自所述中心繞組線圈30的內(nèi)周沿、伸出至每一所述繞組線圈20的內(nèi)周沿，每一所述繞組線圈20的與所述中心繞組線圈30之間設(shè)有安裝槽(未圖示)，供所述第一磁條41安裝。如此設(shè)置，所述中心繞組線圈30的內(nèi)周沿則不用預(yù)留供所述第一磁條41安裝的安裝位置，從而可在所述中心繞組線圈30的內(nèi)周沿增設(shè)更多的線圈匝數(shù)，有利于提升所述中心繞組線圈30中心位置的加熱強(qiáng)度，且避免了所述中心繞組線圈30在中心區(qū)域所產(chǎn)生的磁力線過(guò)于密集，造成該中心區(qū)域的加熱火力過(guò)高，對(duì)內(nèi)鍋不均勻、糊鍋等情況發(fā)生。另外，每一所述第二磁條42包括呈長(zhǎng)條狀的第二磁條主體42a、以及凸設(shè)于所述第二磁條主體42a的兩端的兩磁條凸部42b；所述線圈盤(pán)座10上對(duì)應(yīng)每一所述繞組線圈20的內(nèi)側(cè)，設(shè)有內(nèi)側(cè)安裝孔50，所述線圈盤(pán)座10上對(duì)應(yīng)每一所述繞組線圈20的外側(cè)，設(shè)有外側(cè)安裝孔60，每一所述第二磁條42的兩磁條凸部42b分別對(duì)應(yīng)安裝至所述內(nèi)側(cè)安裝孔50與所述外側(cè)安裝孔60中。進(jìn)一步的，所述外側(cè)安裝孔60設(shè)置于所述線圈盤(pán)座10的邊緣，以此實(shí)現(xiàn)每一所述第二磁條42自每一所述繞組線圈20的內(nèi)側(cè)、伸出至所述線圈盤(pán)座10的周緣，有利于所述多個(gè)第一磁條41聚集、處于所述線圈盤(pán)座10的周緣處的高頻交流電磁場(chǎng)的磁力線，提升所述繞組線圈20外圍的加熱強(qiáng)度。本實(shí)用新型還提供一種電磁烹飪器具，所述電磁烹飪器具包括線圈盤(pán)，所述線圈盤(pán)的具體結(jié)構(gòu)參照上述實(shí)施例，由于本電磁烹飪器具采用了上述所有實(shí)施例的全部技術(shù)方案，因此至少具有上述實(shí)施例的技術(shù)方案所帶來(lái)的所有有益效果，在此不再一一贅述。優(yōu)選地，所述電磁烹飪器具為電磁爐、電飯煲或者電壓力鍋。以上僅為本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施例，并非因此限制其專(zhuān)利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
技術(shù)領(lǐng)域：
，均同理包括在本實(shí)用新型的專(zhuān)利保護(hù)范圍。當(dāng)前第1頁(yè)1 2 3