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多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法和多層電路板與流程

文檔序號(hào):11216798閱讀:2432來源:國知局
多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法和多層電路板與流程

本發(fā)明涉及電路板制造技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法和一種多層電路板。



背景技術(shù):

多層布線的印制電路板(printedcircuitboard,pcb)的層間對(duì)準(zhǔn)度是一項(xiàng)重要的質(zhì)量參數(shù),例如,板間通孔到焊盤邊緣的距離要求大于或等于2mil,另外,考慮到多層電路板的內(nèi)層空間限制,要求pcb的層間對(duì)準(zhǔn)度小于或等于5mil,更進(jìn)一步地,一些高精度電路板要求減小相鄰層的信號(hào)干擾,要求多層pcb的層間對(duì)準(zhǔn)度小于或等于4mil。

相關(guān)技術(shù)中,針對(duì)多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法主要包括兩種:

(1)在形成有鉆孔和測試標(biāo)識(shí)的多層電路板上,利用perfecttest測試儀對(duì)層間對(duì)準(zhǔn)度進(jìn)行測試;

(2)在內(nèi)層焊盤形成并壓板后,通過x-ray投射抓取測試焊盤。

上述第一種檢測方法受到鉆孔位置偏差的影響,上述第二種檢測方法受到x-ray投射能力的影響,尤其是對(duì)于較厚的銅板或者鴛鴦銅板,會(huì)出現(xiàn)抓靶模糊或無法抓靶,從而導(dǎo)致嚴(yán)重的檢測偏差。另外,上述兩種測試方法均需要對(duì)應(yīng)的高精度測試設(shè)備和軟件來進(jìn)行,檢測成本高。

因此,如何設(shè)計(jì)一種低成本且高準(zhǔn)確率的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案成為亟待解決的技術(shù)問題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明正是基于上述技術(shù)問題至少之一,提出了一種新的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案,通過對(duì)多層電路板進(jìn)行微切片處理,并基于基準(zhǔn)切面的焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)公式計(jì)算層間對(duì)準(zhǔn)度,一方面降低了檢測層 間對(duì)準(zhǔn)度的成本,另一方面,提高了層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測精度。

有鑒于此,本發(fā)明提出了一種新的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法,包括:對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔制備;在預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線的位置,對(duì)完成所述鉆孔制備的多層電路板進(jìn)行微切片處理,以獲取所述多層電路板的基準(zhǔn)切面;在所述基準(zhǔn)切面,獲取所述至少兩個(gè)垂直分布的焊盤中的一個(gè)焊盤在所述鉆孔兩側(cè)的長度,并分別記作第一焊盤長度和第二焊盤長度;獲取所述至少兩個(gè)垂直分布的焊盤中的另一個(gè)焊盤在所述鉆孔兩側(cè)的長度,并分別記作第三焊盤長度和第四焊盤長度;根據(jù)所述第一焊盤長度、所述第二焊盤長度、所述第三焊盤長度、所述第四焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式,確定所述多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度。

在該技術(shù)方案中,通過對(duì)多層電路板進(jìn)行微切片處理,并基于基準(zhǔn)切面的焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)公式計(jì)算層間對(duì)準(zhǔn)度,一方面降低了檢測層間對(duì)準(zhǔn)度的成本,另一方面,提高了層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測精度。

采用切片研磨機(jī)對(duì)多層電路板進(jìn)行橫向研磨,至預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線位置停止,以完成微切片處理,以一個(gè)鉆孔為參照物,采用金相顯微鏡等設(shè)備讀取鉆孔兩側(cè)焊盤長度,需要校準(zhǔn)的第一層電路板的焊盤在鉆孔兩側(cè)的長度分別記作a和b,需要校準(zhǔn)的第二層電路板的焊盤在鉆孔兩側(cè)的長度分別記作c和d,如果第一層電路板和第二層電路板完全對(duì)準(zhǔn),則a=b,且c=d。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔制備,具體包括以下步驟:對(duì)所述多層電路板中的任一層電路板依次進(jìn)行內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移和內(nèi)層刻蝕,以形成內(nèi)層圖形;將形成所述內(nèi)層圖形的電路板按照預(yù)設(shè)順序進(jìn)行壓合處理,以形成所述多層電路板;按照預(yù)設(shè)落速對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔處理;對(duì)經(jīng)過鉆孔處理的多層電路板依次進(jìn)行外層圖形轉(zhuǎn)移和外層刻蝕,以形成所述外層圖形、所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線以及所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線外側(cè)的警戒線。

在該技術(shù)方案中,通過形成內(nèi)層圖形制備、壓合處理、鉆孔處理、形成預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線和警戒線,提高了電路板的可靠性和微切片工藝的可靠性,具體地,采用切片研磨機(jī)橫向粗磨至警戒線,而后橫向細(xì)磨至預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,對(duì)所述多層電路板中的任一層電路板依次進(jìn)行內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移和內(nèi)層刻蝕,以形成內(nèi)層圖形,具體包括以下步驟:對(duì)所述任一層電路板進(jìn)行內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移,并采用酸性溶液進(jìn)行圖形化處理,以形成所述內(nèi)層圖形。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,將形成所述內(nèi)層圖形的電路板按照預(yù)設(shè)順序進(jìn)行壓合處理,以形成所述多層電路板,具體包括以下步驟:將形成所述內(nèi)層圖形的電路板進(jìn)行棕化處理;將經(jīng)過所述棕化處理的電路板按照預(yù)設(shè)順序進(jìn)行壓合處理。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,按照預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)速對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔處理,具體包括以下步驟:根據(jù)所述多層電路板的板層數(shù)量和板層材質(zhì)確定基準(zhǔn)鉆孔速度;以所述基準(zhǔn)落速、預(yù)設(shè)百分比和預(yù)設(shè)落速公式確定預(yù)設(shè)落速,所述預(yù)設(shè)落速公式為v=v×a%,其中,所述v表征所述預(yù)設(shè)落速,所述v表征所述基準(zhǔn)落速,所述a%表征所述預(yù)設(shè)百分比,且所述a%小于1。

在該技術(shù)方案中,通過降低預(yù)設(shè)落速至基準(zhǔn)落速的a%,提高了鉆孔的質(zhì)量。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,在預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線的位置,對(duì)完成所述鉆孔制備的多層電路板進(jìn)行微切片處理,以獲取所述多層電路板的基準(zhǔn)切面,具體包括以下步驟:對(duì)所述多層電路板進(jìn)行第一次橫向研磨,至所述警戒線的位置停止;對(duì)所述多層電路板進(jìn)行第二次橫向研磨,至所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線的位置停止,其中,所述第一次橫向研磨的速率大于所述第二次橫向研磨的速率,并且,所述第一次橫向研磨的粗糙度大于所述第二次橫向研磨的粗糙度。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式包括r=|(a-b)/2-(c-d)/2|,其中,所述r表征所述多層電路板在任一基準(zhǔn)切面的對(duì)準(zhǔn)度,所述a表征所述第一焊盤長度,所述b表征所述第二焊盤長度,所述c表征所述第三焊盤長度,所述d表征所述第四焊盤長度。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,還包括:所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線包括x軸基準(zhǔn)線和y軸基準(zhǔn)線,根據(jù)所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式確定所述x軸基準(zhǔn)線的基準(zhǔn) 切面的對(duì)準(zhǔn)度,并記作rx;根據(jù)所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式確定所述y軸基準(zhǔn)線的基準(zhǔn)切面的對(duì)準(zhǔn)度,并記作ry;以所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式、所述rx和所述ry確定所述多層電路板的對(duì)準(zhǔn)度,其中,所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式還包括r=(rx2+ry2)1/2,所述r表征所述多層電路板的對(duì)準(zhǔn)度。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,還包括:在待檢測的多層電路板上設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí);根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)與所述警戒線之間的距離,以及所述警戒線與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線之間的距離確定所述微切片工藝的加工參數(shù)。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面,還提出了一種多層電路板,包括:在形成所述多層電路板的鉆孔后,采用上述任一項(xiàng)技術(shù)方案所述的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法確定層間對(duì)準(zhǔn)度;判斷所述層間對(duì)準(zhǔn)度是否小于或等于預(yù)設(shè)層間對(duì)準(zhǔn)度;在判定所述層間對(duì)準(zhǔn)度小于或等于所述預(yù)設(shè)層間對(duì)準(zhǔn)度時(shí),確定所述多層電路板合格。

通過以上技術(shù)方案,通過對(duì)多層電路板進(jìn)行微切片處理,并基于基準(zhǔn)切面的焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)公式計(jì)算層間對(duì)準(zhǔn)度,一方面降低了檢測層間對(duì)準(zhǔn)度的成本,另一方面,提高了層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測精度。

附圖說明

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法的示意流程圖;

圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案的俯視圖;

圖3示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案的剖面圖。

具體實(shí)施方式

為了能夠更清楚地理解本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn),下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的詳細(xì)描述。需要說明的是,在不沖突的情況下,本申請(qǐng)的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明,但是,本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其他方式來實(shí)施,因此,本發(fā)明 的保護(hù)范圍并不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法的示意流程圖。

如圖1所示,根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方法,包括:步驟101,對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔制備;步驟102,在預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線的位置,對(duì)完成所述鉆孔制備的多層電路板進(jìn)行微切片處理,以獲取所述多層電路板的基準(zhǔn)切面;步驟103,在所述基準(zhǔn)切面,獲取所述至少兩個(gè)垂直分布的焊盤中的一個(gè)焊盤在所述鉆孔兩側(cè)的長度,并分別記作第一焊盤長度和第二焊盤長度;步驟104,獲取所述至少兩個(gè)垂直分布的焊盤中的另一個(gè)焊盤在所述鉆孔兩側(cè)的長度,并分別記作第三焊盤長度和第四焊盤長度;步驟105,根據(jù)所述第一焊盤長度、所述第二焊盤長度、所述第三焊盤長度、所述第四焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式,確定所述多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度。

在該技術(shù)方案中,通過對(duì)多層電路板進(jìn)行微切片處理,并基于基準(zhǔn)切面的焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)公式計(jì)算層間對(duì)準(zhǔn)度,一方面降低了檢測層間對(duì)準(zhǔn)度的成本,另一方面,提高了層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測精度。

采用切片研磨機(jī)對(duì)多層電路板進(jìn)行橫向研磨,至預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線位置停止,以完成微切片處理,以一個(gè)鉆孔為參照物,采用金相顯微鏡等設(shè)備讀取鉆孔兩側(cè)焊盤長度,需要校準(zhǔn)的第一層電路板的焊盤在鉆孔兩側(cè)的長度分別記作a和b,需要校準(zhǔn)的第二層電路板的焊盤在鉆孔兩側(cè)的長度分別記作c和d,如果第一層電路板和第二層電路板完全對(duì)準(zhǔn),則a=b,且c=d。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔制備,具體包括以下步驟:對(duì)所述多層電路板中的任一層電路板依次進(jìn)行內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移和內(nèi)層刻蝕,以形成內(nèi)層圖形;將形成所述內(nèi)層圖形的電路板按照預(yù)設(shè)順序進(jìn)行壓合處理,以形成所述多層電路板;按照預(yù)設(shè)落速對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔處理;對(duì)經(jīng)過鉆孔處理的多層電路板依次進(jìn)行外層圖形轉(zhuǎn)移和外層刻蝕,以形成所述外層圖形、所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線以及所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線外側(cè)的警戒線。

在該技術(shù)方案中,通過形成內(nèi)層圖形制備、壓合處理、鉆孔處理、形 成預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線和警戒線,提高了電路板的可靠性和微切片工藝的可靠性,具體地,采用切片研磨機(jī)橫向粗磨至警戒線,而后橫向細(xì)研磨至預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,對(duì)所述多層電路板中的任一層電路板依次進(jìn)行內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移和內(nèi)層刻蝕,以形成內(nèi)層圖形,具體包括以下步驟:對(duì)所述任一層電路板進(jìn)行內(nèi)層圖形轉(zhuǎn)移,并采用酸性溶液進(jìn)行圖形化處理,以形成所述內(nèi)層圖形。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,將形成所述內(nèi)層圖形的電路板按照預(yù)設(shè)順序進(jìn)行壓合處理,以形成所述多層電路板,具體包括以下步驟:將形成所述內(nèi)層圖形的電路板進(jìn)行棕化處理;將經(jīng)過所述棕化處理的電路板按照預(yù)設(shè)順序進(jìn)行壓合處理。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,按照預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)速對(duì)所述多層電路板進(jìn)行鉆孔處理,具體包括以下步驟:根據(jù)所述多層電路板的板層數(shù)量和板層材質(zhì)確定基準(zhǔn)鉆孔速度;以所述基準(zhǔn)落速、預(yù)設(shè)百分比和預(yù)設(shè)落速公式確定預(yù)設(shè)落速,所述預(yù)設(shè)落速公式為v=v×a%,其中,所述v表征所述預(yù)設(shè)落速,所述v表征所述基準(zhǔn)落速,所述a%表征所述預(yù)設(shè)百分比,且所述a%小于1。

在該技術(shù)方案中,通過降低預(yù)設(shè)轉(zhuǎn)落速至基準(zhǔn)轉(zhuǎn)速的a%,提高了鉆孔的質(zhì)量。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,在預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線的位置,對(duì)完成所述鉆孔制備的多層電路板進(jìn)行微切片處理,以獲取所述多層電路板的基準(zhǔn)切面,具體包括以下步驟:對(duì)所述多層電路板進(jìn)行第一次橫向研磨,至所述警戒線的位置停止;對(duì)所述多層電路板進(jìn)行第二次橫向研磨,至所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線的位置停止,其中,所述第一次橫向研磨的速率大于所述第二次橫向研磨的速率,并且,所述第一次橫向研磨的粗糙度大于所述第二次橫向研磨的粗糙度。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式包括r=|(a-b)/2-(c-d)/2|,其中,所述r表征所述多層電路板在任一基準(zhǔn)切面的對(duì)準(zhǔn)度,所述a表征所述第一焊盤長度,所述b表征所述第二焊盤長度,所述 c表征所述第三焊盤長度,所述d表征所述第四焊盤長度。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,還包括:所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線包括x軸基準(zhǔn)線和y軸基準(zhǔn)線,根據(jù)所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式確定所述x軸基準(zhǔn)線的基準(zhǔn)切面的對(duì)準(zhǔn)度,并記作rx;根據(jù)所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式確定所述y軸基準(zhǔn)線的基準(zhǔn)切面的對(duì)準(zhǔn)度,并記作ry;以所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式、所述rx和所述ry確定所述多層電路板的對(duì)準(zhǔn)度,其中,所述預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)度公式還包括r=(rx2+ry2)1/2,所述r表征所述多層電路板的對(duì)準(zhǔn)度。

在上述技術(shù)方案中,優(yōu)選地,還包括:在待檢測的多層電路板上設(shè)置對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí);根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)與所述警戒線之間的距離,以及所述警戒線與所述預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線之間的距離確定所述微切片工藝的加工參數(shù)。

下面結(jié)合圖2和圖3,對(duì)根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案進(jìn)行具體說明。

如圖2所示,在多層電路板的頂層制備對(duì)準(zhǔn)標(biāo)識(shí)201,在坐標(biāo)軸x的方向上,每個(gè)鉆孔的焊盤204均設(shè)置有警戒線202和預(yù)設(shè)基準(zhǔn)線203。

如圖3所示,以x軸的基準(zhǔn)切面為例,第一層電路板301的鉆孔兩側(cè)的焊盤長度分別為a和b,第二層電路板302的鉆孔兩側(cè)的焊盤長度分別為c和d,根據(jù)公式rx=|(a-b)/2-(c-d)/2|,同理在y軸的基準(zhǔn)切面確定ry,并帶入r=(rx2+ry2)1/2,繼而計(jì)算多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度r。

以上結(jié)合附圖詳細(xì)說明了本發(fā)明的技術(shù)方案,考慮到如何設(shè)計(jì)一種低成本且高準(zhǔn)確率的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案的技術(shù)問題。因此,本發(fā)明提出了一種新的多層電路板的層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測方案,通過對(duì)多層電路板進(jìn)行微切片處理,并基于基準(zhǔn)切面的焊盤長度和預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)公式計(jì)算層間對(duì)準(zhǔn)度,一方面降低了檢測層間對(duì)準(zhǔn)度的成本,另一方面,提高了層間對(duì)準(zhǔn)度的檢測精度。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已,并不用于限制本發(fā)明,對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說,本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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