本發(fā)明涉及一種用于水平電化或濕式化學(xué)工藝線的除污模塊，其用于移除待處理襯底上的沉淀物，尤其是銅的金屬沉積物，所述除污模塊包括可連接到除污單元的除污容器、泵及用于將所述泵與所述除污單元連接的至少第一液體連接元件，其中所述泵是通過所述至少第一液體連接元件與所述除污單元結(jié)合；且其中處理液位被提供在所述除污模塊內(nèi)部，所述處理液位高于所述泵的進(jìn)水區(qū)。

本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種用于從此除污模塊選擇性分離及隨后移除除污顆粒的方法。

背景技術(shù)：

例如高錳酸鈉或高錳酸鉀、鉻酸或硫酸的除污化學(xué)物質(zhì)在印刷電路板產(chǎn)業(yè)中眾所周知地用于清理印刷電路板過程中的鉆出的貫穿管道。尤其如果高錳酸鈉或高錳酸鉀已用于此除污清理程序，那么通過除污化學(xué)物質(zhì)與印刷電路板的經(jīng)鉆出貫穿管道的位置處的樹脂殘留物的化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)生大量除污顆粒。

所述所產(chǎn)生的除污顆粒在高錳酸鈉或高錳酸鉀的情況中是二氧化錳顆粒，其已知是凝聚在除污模塊的相應(yīng)除污容器的底部上。

然而，通常難以尤其僅通過除污液體流再次從相應(yīng)除污容器的底部機(jī)械地移除所述除污顆粒；且歸因于除污處理液體中的二氧化錳顆粒的懸浮的高密度而尤其難以在相應(yīng)待處理襯底的水平過程期間以連續(xù)方式移除所述顆粒。

過去還一直嘗試通過化學(xué)還原過程憑借使用適當(dāng)?shù)念~外化學(xué)物質(zhì)移除所述二氧化錳顆粒。但是，本發(fā)明的目的是尋找一種用于移除所述除污顆粒的新的且具發(fā)明性的機(jī)械解決方案。

迄今為止機(jī)械地移除所述除污顆粒的嘗試僅部分成功且受到起因于停止整個(gè)水平工藝線以允許除污容器的單獨(dú)清理的不利需要的問題的困擾。此中斷造成中斷時(shí)間增加及效率損失，這再次造成此類水平工藝線的成本較高。

為了緩解此問題，過去安裝了復(fù)雜的自動(dòng)清理程序以避免歸因于維護(hù)問題而中斷待處理襯底的水平過程。但是，此類解決方案因此通常增加此類水平工藝線的成本及復(fù)雜性。

在文件de3813518a1中，揭示一種用于機(jī)械地移除此類除污顆粒的裝置。在本文中，一對(duì)噴嘴(即，布置在經(jīng)鉆出貫穿管道正上方的壓力噴嘴及布置在相同經(jīng)鉆出貫穿管道正下方的吸力噴嘴)已用于將除污處理液體直接按壓通過經(jīng)鉆出貫穿管道，其中包括相應(yīng)經(jīng)鉆出貫穿管道的除污顆粒的正通過的除污處理液體直接進(jìn)入吸力噴嘴。因此，除污顆粒可直接從除污模塊中移除。但是，此解決方案僅被發(fā)現(xiàn)適用于厚的印刷電路板，這提供足夠的固有嚴(yán)格性?，F(xiàn)在待處理襯底歸因于其厚度減小及柔性增加而更具挑戰(zhàn)性，這妨礙此程序的應(yīng)用。

常見的水平工藝線中面臨的另一問題是需要給大的除污容器提供高的除污容器體積以避免除污顆粒進(jìn)入所需浸液泵的下部的進(jìn)水區(qū)。因此，必須提供大的除污處理液體體積，這再次使過程變得昂貴。

發(fā)明目的

鑒于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的目的因此是提供一種用于水平工藝線的除污模塊，其并未展現(xiàn)出現(xiàn)有技術(shù)中已知的除污模塊的前述缺點(diǎn)。

進(jìn)一步來說，本發(fā)明的目的是提供一種除污模塊，其中除污顆粒進(jìn)入所需浸液泵的下部的進(jìn)水區(qū)的風(fēng)險(xiǎn)將被最小化或優(yōu)選地完全避免。

特定來說，本發(fā)明的目的是提供一種除污模塊，其能夠延長(zhǎng)除污處理液體池的壽命，且同時(shí)可大幅減小除污處理液體循環(huán)的體積。

此外，目的是提供一種用于安裝在已經(jīng)在顧客現(xiàn)場(chǎng)運(yùn)行的水平工藝線中的除污模塊。

因此需要一種除污模塊，其可容易集成在現(xiàn)有工藝線中，同時(shí)需要的空間小且設(shè)計(jì)不復(fù)雜。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

這些目的是通過具有技術(shù)方案1的所有特征的除污模塊實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明除污模塊的適當(dāng)修改在附屬技術(shù)方案2到14中受保護(hù)。進(jìn)一步來說，技術(shù)方案15包括一種用于從此除污模塊中選擇性分離及隨后移除除污顆粒的方法。

本發(fā)明因此提供一種用于水平電化或濕式化學(xué)工藝線的除污模塊，其用于移除待處理襯底上的沉淀物，尤其是銅的金屬沉積物，所述除污模塊包括可連接到除污單元的除污容器、泵及用于將所述泵與所述除污單元連接的至少第一液體連接元件，其中所述泵是通過所述至少第一液體連接元件與所述除污單元結(jié)合；且其中處理液位被提供于所述除污模塊內(nèi)部，所述處理液位高于所述泵的進(jìn)水區(qū)；其中所述除污模塊進(jìn)一步包括至少第一液體區(qū)域、包括所述泵的所述進(jìn)水區(qū)的至少相鄰第二液體區(qū)域，及被布置在所述至少第一液體區(qū)域與所述至少第二液體區(qū)域之間的至少第一分離元件。

因此，可提供一種除污模塊，其并未展現(xiàn)出已知現(xiàn)有技術(shù)除污模塊的前述缺點(diǎn)。

進(jìn)一步來說，在發(fā)明除污模塊中，最小化或優(yōu)選地完全避免了除污顆粒進(jìn)入所需浸液泵的下部的進(jìn)水區(qū)的風(fēng)險(xiǎn)。

由本發(fā)明的除污模塊提供的除污顆粒的有效機(jī)械移除通過憑借隨后處理的待處理襯底的表面上的所需浸液泵來避免除污顆粒連同除污處理液體一起循環(huán)而確保較高產(chǎn)品質(zhì)量。

這提供額外優(yōu)點(diǎn)：歸因于較小浸液泵的較低所需除污處理液體體積傳遞速率，而可選取所述泵。

特定來說，本發(fā)明的除污模塊能夠延長(zhǎng)除污處理液體池的壽命，且同時(shí)可大幅減小除污處理液體循環(huán)的體積。通常，用戶需要循環(huán)的體積為除污處理液體池的體積的三倍到五倍，所述體積必須持續(xù)地存在于相應(yīng)除污容器內(nèi)部。本發(fā)明的除污模塊僅需要除污處理液體池的大約10體積百分比到50體積百分比。因此，發(fā)明除污模塊的經(jīng)濟(jì)收益是巨大的。

此外，發(fā)明除污模塊提供以下優(yōu)點(diǎn)：經(jīng)修正除污模塊可容易被安裝在已經(jīng)在顧客所在處運(yùn)行的水平工藝線中，同時(shí)需要的空間小且設(shè)計(jì)不復(fù)雜。

附圖說明

為了更完整地理解本發(fā)明，參考結(jié)合附圖中所考慮的本發(fā)明的以下詳細(xì)敘述，其中：

圖1a及1b展現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的第一實(shí)施例的除污模塊。

圖2a及2b展現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的第二實(shí)施例的除污模塊。

圖3展現(xiàn)根據(jù)本發(fā)明的第三實(shí)施例的除污模塊，所述第三實(shí)施例是基于本發(fā)明在圖1a中展示的第一實(shí)施例。

具體實(shí)施方式

如本文中使用，術(shù)語(yǔ)“除污模塊”在根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用時(shí)是指任何水平過程模塊，其能夠允許在其內(nèi)部發(fā)生除污過程步驟，以從待處理襯底中的貫穿管道的鉆孔中移除污垢。

如本文中使用，術(shù)語(yǔ)“用于金屬沉積的水平電化或濕式化學(xué)工藝線”在根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用時(shí)是指任何種類的水平過程，其中金屬將在電化及/或濕式化學(xué)過程期間被沉積于待處理襯底上。

如本文中使用，術(shù)語(yǔ)“除污單元”在根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用時(shí)是指常見水平工藝線的模塊，其中除污處理液體將由注水裝置元件施加，每一注水裝置元件將除污處理液體的流動(dòng)引導(dǎo)到待處理襯底的一或兩個(gè)表面，從經(jīng)鉆出貫穿管道中移除待處理襯底的原材料的殘留污垢。在清洗所述經(jīng)鉆出貫穿管道之后，除污處理液體及已移除除污顆粒的漿體將從所述除污單元中流出，以被收集于除污容器的第一液體區(qū)域中。

此除污單元可被布置在除污容器內(nèi)部或外部。

如果除污單元位于除污容器內(nèi)部，那么除污單元被布置在高于除污模塊內(nèi)部的處理液位的水平面處。漿體將接著直接流入除污模塊的第一液體區(qū)域中。

如果除污單元位于除污容器外部，那么必須包括第三液體連接元件以將漿體從除污單元引導(dǎo)到除污模塊的除污容器。這必須以此方式執(zhí)行使得漿體最終也將到達(dá)除污模塊的第一液體區(qū)域。

可優(yōu)選地使用浸液泵，其中包括浸液泵的進(jìn)水區(qū)的浸液泵的下部是以低于除污容器內(nèi)部的處理液位的水平面直接布置在除污模塊的第二液體區(qū)域中。浸液泵的上部將被布置在除污模塊的除污容器外部。

替代地可優(yōu)選地使用離心泵，其被布置在除污模塊的除污容器外部。因此，此外必須包括用于將除污模塊的第二液體區(qū)域內(nèi)部的進(jìn)水區(qū)與離心泵連接的第四液體連接元件。所述第四液體連接元件在處理液體將隨后由第一液體連接元件傳遞到除污單元之前會(huì)先將處理液體引導(dǎo)到離心泵。

進(jìn)水區(qū)可最大限度地與除污模塊的第二液體區(qū)域相同。

如本文中使用，術(shù)語(yǔ)“金屬”在根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用時(shí)是指已知通常適用于電化或濕式化學(xué)金屬沉積過程的金屬。此類金屬尤其可包括金、鎳及銅，優(yōu)選地是銅。

如本文中使用，術(shù)語(yǔ)“待處理襯底”是圓形、優(yōu)選地圓形或成角度、優(yōu)選地多角，例如矩形、正方形或三角形；或圓形及成角度結(jié)構(gòu)元件的混合物，例如半圓形，及/或在圓形結(jié)構(gòu)的情況中，待處理襯底具有從50mm到1000mm、優(yōu)選地從100mm到700mm及最優(yōu)地從120mm到500mm的范圍的直徑；或在成角度、優(yōu)選地多角結(jié)構(gòu)的情況中，具有從10mm到1000mm、優(yōu)選地從25mm到700mm及最優(yōu)地從50mm到500mm的范圍的邊長(zhǎng)，及/或待處理襯底是印刷電路板、印刷電路箔片、半導(dǎo)體晶片、晶片、太陽(yáng)能電池、光電池、平板顯示器或監(jiān)測(cè)器電池。平坦的待處理襯底可由一種材料或不同材料(例如玻璃、塑料、模制化合物或陶瓷)的混合物組成。

在優(yōu)選實(shí)施例中，平坦襯底可為呈循環(huán)輸送帶的形式的環(huán)狀襯底，所述環(huán)狀襯底通過整個(gè)水平設(shè)備連續(xù)處理。在此情況中，平坦襯底是由柔性材料組成，這允許在過程之前卷繞多卷原始材料且在過程之后卷進(jìn)多卷最終材料。

通常必須確保提供處理液體的足夠多體積流動(dòng)到泵的進(jìn)水區(qū)，以保持處理液體從除污容器循環(huán)到除污單元且再次使用。優(yōu)選地，可出于此目的應(yīng)用處理液位監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。

如本文中使用，術(shù)語(yǔ)“處理液體”在根據(jù)本發(fā)明應(yīng)用時(shí)是指除污處理液體，其通常已被發(fā)現(xiàn)適用于執(zhí)行除污過程，其中以高錳酸鈉或高錳酸鉀為優(yōu)選。

在第一實(shí)施例中，所述第一分離元件是經(jīng)布置于所述除污模塊內(nèi)部的所述處理液位下方的不可滲透液體溢流堰，其包括溢流邊緣以允許處理液體從所述第一液體區(qū)域流到所述第二液體區(qū)域。

溢流邊緣確保足夠多的處理液體到達(dá)第二液體區(qū)域，以使泵保持運(yùn)轉(zhuǎn)。另一方面，除污顆粒可被保持在第一分離元件前面的第一液體區(qū)域中。因此，除污顆粒不能到達(dá)泵的進(jìn)水區(qū)，其中除污顆?？杀环祷剌斔偷匠蹎卧?，且在當(dāng)中污染所述隨后經(jīng)處理的襯底的表面。這可通過溢流邊緣來完全避免。

在第一實(shí)施例中，可為優(yōu)選的是，所述除污模塊進(jìn)一步包括優(yōu)選地與所述第一分離元件相同的至少第二分離元件，其是以平行于所述第一分離元件的方式布置。

在第一實(shí)施例中，尤其優(yōu)選的是，所述除污模塊包括至少第一分離元件及第二分離元件，其具有所述相應(yīng)溢流邊緣的不同絕對(duì)高度，優(yōu)選地具有從所述第一液體區(qū)域到所述第二液體區(qū)域增加的高度。

此多個(gè)分離元件提供以下優(yōu)點(diǎn)：可以有效方式防止除污顆粒通過分離元件的溢流邊緣。除污顆粒積累在第一液體區(qū)域中。歸因于其高密度，尤其在mno2的情況中，除污顆粒相對(duì)快速下沉到分離元件前面的除污容器的相應(yīng)底部。除污模塊可通過提供相應(yīng)分離元件的溢流邊緣的不同絕對(duì)高度來適應(yīng)于水平工藝線的除污單元中產(chǎn)生的除污顆粒的大小。因此，即使除污顆粒溢流第一分離元件，其仍然可通過積累在第二分離元件前面而被收集。尤其當(dāng)?shù)诙蛛x元件擁有增加的絕對(duì)高度(高于第一分離元件)時(shí)，可有效地防止除污顆粒流過所有相應(yīng)分離元件到達(dá)除污模塊的第二液體區(qū)域。

在第二實(shí)施例中，所述第一分離元件是從所述除污容器的底部向上到高于所述除污模塊內(nèi)部的所述處理液位的絕對(duì)高度的可滲透液體溢流堰。

然而，第二實(shí)施例還通過允許處理液體流過可滲透分離元件而非如第一實(shí)施例那樣流過溢流邊緣來確保足夠多的處理液體到達(dá)第二液體區(qū)域。

兩個(gè)實(shí)施例確保足夠體積的處理液體可到達(dá)除污模塊的第二液體區(qū)域以保持泵運(yùn)轉(zhuǎn)。

在第二實(shí)施例中，可為優(yōu)選的是，所述除污模塊進(jìn)一步包括優(yōu)選地與所述第一分離元件相同的至少第二分離元件，其是以平行于所述第一分離元件的方式布置。

通過布置多個(gè)平行可滲透液體溢流堰，除污模塊可再次適應(yīng)相應(yīng)除污單元中產(chǎn)生的除污顆粒的大小，所述除污顆粒仍然被允許通過作為分離元件的可滲透液體溢流堰。

相應(yīng)除污模塊可取決于工藝線狀況及材料，通過將可滲透液體溢流堰修改為分離元件來控制及/或調(diào)節(jié)。

在第二實(shí)施例中，可為優(yōu)選的是，所述除污模塊包括至少第一分離元件，及/或各自具有多個(gè)開口、小孔、貫穿管道及/或間隙的至少第一分離元件及第二分離元件。

這提供取決于特定個(gè)別分離元件選取被允許通過的不同除污顆粒大小的可能性。

在第二實(shí)施例中，尤其優(yōu)選的是，所述多個(gè)開口、小孔、貫穿管道及/或間隙在所述至少第一分離元件及/或第二分離元件中具有均勻或非均勻分布，優(yōu)選地非均勻分布。

在第二實(shí)施例中，每一分離元件中的所述多個(gè)開口、小孔、貫穿管道及/或間隙可具有相等及/或不相等的平均直徑；其中所述開口、小孔、貫穿管道及/或間隙包括圓形、優(yōu)選地圓形橫截面或成角度、優(yōu)選地多角橫截面，例如矩形、正方形或三角形；或由圓形及成角度結(jié)構(gòu)元件的混合物形成的橫截面，例如半圓形。

在第二實(shí)施例中，每一分離元件中的所述開口、小孔、貫穿管道及/或間隙的所述平均直徑可從所述除污容器的底部連續(xù)增加或降低(優(yōu)選地增加)到多達(dá)高于所述除污模塊內(nèi)部的所述處理液位的所述絕對(duì)高度。

在所有實(shí)施例中，可為優(yōu)選的是，所述除污容器的底壁被細(xì)分為兩個(gè)部分，即，所述第一液體區(qū)域中的第一底壁部分及所述第二液體區(qū)域中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之間的過渡點(diǎn)低于所述至少第一分離元件；其中兩個(gè)底壁部分可水平地直線延伸或兩個(gè)底壁部分中的至少一者關(guān)于水平面至少部分向上或向下傾斜。

如果第一底壁部分至少部分從靠近或相同于過渡點(diǎn)的位置向上至少部分傾斜地延伸到第一底壁部分的端，那么在除污容器中必須使用較少除污處理體積的液體。這節(jié)省了成本及化學(xué)物質(zhì)。

如果第一底壁部分至少部分從靠近或相同于過渡點(diǎn)的位置向下至少部分傾斜地延伸到第一底壁部分的端，那么較少除污顆粒在分離元件及泵的方向上流動(dòng)。這減小了除污顆粒在其積累在相應(yīng)第一分離元件前面的除污容器的底部上之前到達(dá)第二液體區(qū)域的風(fēng)險(xiǎn)。

可為尤其優(yōu)選的是，所述第一底壁部分在所述至少第一分離元件前面包括用于積累除污顆粒的至少第一腔，其中所述至少第一腔的底部包括用于從所述除污容器中移除所述除污顆粒的處理液體出口。

腔有利地提供：除污顆粒(優(yōu)選地為mno2顆粒)可積累在第一分離元件前面的腔內(nèi)部。所述除污顆粒的后續(xù)移除比不使用此腔更有效率，其中所述除污顆粒變?yōu)榉植荚诘谝坏妆诓糠值拇髤^(qū)域上，而非選擇性地積累在此腔中。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述除污模塊進(jìn)一步包括至少第一處理液體循環(huán)系統(tǒng)，其中所述第一處理液體循環(huán)系統(tǒng)包括至少第二液體連接元件，其從被布置在所述第一液體區(qū)域中的所述至少第一分離元件前面以從所述除污容器中移除除污顆粒的處理液體出口到具有粗過濾器單元的第一過濾器裝置，其中所述除污顆粒與濾液分離，其中所述第二液體連接元件隨后進(jìn)一步到所述除污容器的所述第二液體區(qū)域。

替代地，可出于此目的使用級(jí)聯(lián)旋風(fēng)分離器。

如果應(yīng)用此粗過濾器單元，那么較少且較小除污顆?？傻竭_(dá)第二液體區(qū)域。因此，可避免傳遞除污顆粒對(duì)待在除污單元中處理的隨后處理襯底的后續(xù)污染。

施加邊緣分裂式過濾器(優(yōu)選地自清潔式過濾器)作為粗過濾器單元，正如不銹鋼過濾器單元，所述邊緣分裂式過濾器優(yōu)選地提供低至25微米而非40微米的過濾容量。

粗過濾器單元提供從15微米到70微米、優(yōu)選地從20微米到60微米且最優(yōu)地從25微米到50微米的范圍的殘留除污顆粒的最終顆粒大小分布。

在一個(gè)實(shí)施例中，所述除污模塊進(jìn)一步包括至少第二處理液體循環(huán)系統(tǒng)，其中所述第二處理液體循環(huán)系統(tǒng)包括至少所述第一液體連接元件，其中具有細(xì)過濾器單元的第二過濾器裝置互連。

具有較細(xì)過濾器單元的此第二過濾器裝置允許甚至移除殘留的小除污顆粒，其不能由具有粗過濾器單元的第一過濾器裝置移除。因此，一種過濾器系列可有利地施加于發(fā)明除污模塊中以從循環(huán)處理液體中移除干擾的除污顆粒的主要部分或理想上移除全部。

在第三實(shí)施例中，本發(fā)明涉及一種用于待處理襯底上用于移除沉淀物的尤其是銅的金屬沉積物的水平電化或濕式化學(xué)工藝線的除污模塊，其包括可連接到除污單元的除污容器、浸液泵及用于將所述浸液泵與所述除污單元連接的至少第一液體連接元件，其中所述浸液泵是通過所述至少第一液體連接元件與所述除污單元結(jié)合；且其中處理液位被提供在所述除污模塊內(nèi)部，所述處理液位低于所述除污單元且高于所述浸液泵的下部的進(jìn)水區(qū)；其中所述除污模塊進(jìn)一步包括被布置在所述除污單元下方的至少第一液體區(qū)域、包括所述浸液泵的所述下部的至少相鄰第二液體區(qū)域；及被布置在所述至少第一液體區(qū)域與所述至少第二液體區(qū)域之間的作為第一分離元件的至少不可滲透液體溢流堰。

在第三實(shí)施例中，所述不可滲透液體溢流堰被布置在除污模塊內(nèi)部的處理液位以下，其包括溢流邊緣以允許處理液體從所述第一液體區(qū)域流到所述第二液體區(qū)域。

所述第三實(shí)施例的除污模塊進(jìn)一步包括：所述除污容器的底壁被細(xì)分為兩個(gè)部分，即，所述第一液體區(qū)域中的第一底壁部分及所述第二液體區(qū)域中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之間的過渡點(diǎn)低于所述至少第一分離元件；其中兩個(gè)底壁部分可水平地直線延伸或兩個(gè)底壁部分中的至少一者關(guān)于水平面至少部分向上或向下傾斜。

在第三實(shí)施例中，所述第一底壁部分在所述至少第一分離元件前面包括用于積累除污顆粒的至少第一腔，其中所述至少第一腔的底部包括用于從所述除污容器中移除所述除污顆粒的處理液體出口。

所述第三實(shí)施例進(jìn)一步包括至少第一處理液體循環(huán)系統(tǒng)，其中所述第一處理液體循環(huán)系統(tǒng)包括至少第二液體連接元件，其從被布置在所述第一液體區(qū)域中的所述至少第一分離元件前面以從所述除污容器中移除除污顆粒的處理液體出口到具有粗過濾器單元的第一過濾器裝置，其中所述除污顆粒與濾液分離，其中所述第二液體連接元件隨后進(jìn)一步到所述除污容器的所述第二液體區(qū)域；且進(jìn)一步包括至少第二處理液體循環(huán)系統(tǒng)，其中所述第二處理液體循環(huán)系統(tǒng)包括至少所述第一液體連接元件，其中具有細(xì)過濾器單元的第二過濾器裝置互連。

此外，本發(fā)明還涉及一種用于從除污模塊選擇性分離且隨后移除除污顆粒的方法，其特征為以下方法步驟：

i)提供如上文描述的水平電化或濕式化學(xué)工藝線的此發(fā)明除污模塊。

ii)通過允許除污顆粒隨時(shí)間積累將所述除污顆粒與所述至少第一分離元件前面的所述除污容器的底部選擇性分離。

iii)通過將溶液輸送通過具有至少粗過濾器單元的過濾器裝置移除所收集除污顆粒。

iv)將經(jīng)過濾處理液體從所述過濾器裝置引導(dǎo)返回到所述除污容器。

根據(jù)以上方法的本發(fā)明因此解決延長(zhǎng)除污處理液體池的壽命的問題。此外，可大幅減小除污處理液體循環(huán)的體積。尤其可通過本發(fā)明的具發(fā)明性除污模塊有利地執(zhí)行施加高錳酸鈉或高錳酸鉀作為除污處理液體，這產(chǎn)生mno2除污顆粒。

現(xiàn)在參考圖式，圖1a展示本發(fā)明的第一實(shí)施例，其中用于待處理襯底上的尤其是銅的金屬沉積物的水平電化或濕式化學(xué)工藝線的除污模塊1包括除污容器2、除污單元3、浸液泵4及從所述浸液泵4到除污單元3的第一液體連接元件5。

浸液泵4是通過所述第一液體連接元件5與所述除污單元3結(jié)合。

處理液位6被提供在除污模塊1內(nèi)部，所述處理液位6低于除污單元3且高于浸液泵4的下部的進(jìn)水區(qū)7。

除污模塊1進(jìn)一步包括被布置在除污單元3下方的第一液體區(qū)域9、包括浸液泵4的下部的相鄰第二液體區(qū)域10，及被布置在所述第一液體區(qū)域9與所述第二液體區(qū)域10之間的第一分離元件11。

在本發(fā)明的此第一實(shí)施例中，第一分離元件11是布置在除污模塊1內(nèi)部的處理液位6下方的不可滲透液體溢流堰，其包括溢流邊緣12以允許處理液體從所述第一液體區(qū)域9流到所述第二液體區(qū)域10。

進(jìn)一步來說，除污容器2的底壁被細(xì)分為兩個(gè)部分，即，第一液體區(qū)域9中的第一底壁部分及第二液體區(qū)域10中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之間的過渡點(diǎn)低于第一分離元件11。第二底壁在其中水平地直線延伸，而第一底壁關(guān)于水平面向上傾斜延伸。

處理液體中的除污顆粒(尤其mno2顆粒)的懸浮液的漿體液位8經(jīng)展示唯一地在第一液體區(qū)域9中，從而導(dǎo)致無漿體的第二液體區(qū)域10。漿體液位8保持在溢流邊緣12下方，使得除污顆粒不可能會(huì)到達(dá)浸液泵4的進(jìn)水區(qū)7。

圖1b展示經(jīng)稍微修改的第一實(shí)施例，其中除污模塊1進(jìn)一步包括與第一分離元件11相同的第二分離元件，其是以平行于第一分離元件11的方式布置。在本文中，除污模塊1包括第一分離元件11及第二分離元件，其具有相應(yīng)溢流邊緣12的不同絕對(duì)高度，其中高度從第一液體區(qū)域9到所述第二液體區(qū)域10增加。

此修改進(jìn)一步減小除污顆粒可到達(dá)第二液體區(qū)域10的風(fēng)險(xiǎn)。

圖2a展示本發(fā)明的第二實(shí)施例，其中用于待處理襯底上的尤其是銅的金屬沉積物的水平電化或濕式化學(xué)工藝線的除污模塊1'包括除污容器2'、除污單元3'、浸液泵4'及從所述浸液泵4'到除污單元3'的第一液體連接元件5'。

浸液泵4'是通過所述第一液體連接元件5'與所述除污單元3'結(jié)合。

處理液位6'同樣被提供在除污模塊1'內(nèi)部，所述處理液位6'低于除污單元3'且高于浸液泵4'的下部的進(jìn)水區(qū)7'。

除污模塊1'進(jìn)一步包括被布置在除污單元3'下方的第一液體區(qū)域9'、包括浸液泵4'的下部的相鄰第二液體區(qū)域10'，及被布置在所述第一液體區(qū)域9'與所述第二液體區(qū)域10'之間的第一分離元件11'。

與第一實(shí)施例相比，本發(fā)明的第二實(shí)施例包括：第一分離元件11'是從除污容器2'的底部向上到高于除污模塊1'內(nèi)部的處理液位6'的絕對(duì)高度的可滲透液體溢流堰。

所述第一分離元件11'中擁有單個(gè)間隙或開口13以允許處理液體但不允許除污顆粒到達(dá)第二液體區(qū)域10'。

圖2a或2b中未展示處理液體中的懸浮的除污顆粒(尤其mno2顆粒)的漿體液位。所述漿體液位原則上可與處理液位6'相同。所有除污顆?？蓛H在第一液體區(qū)域9'中找到。其中所有除污顆粒應(yīng)積累在除污容器2'的底部處，但不應(yīng)積累在第一分離元件11'前面。間隙13的位置必須取決于所施加的水平過程系統(tǒng)細(xì)心地選取以避免除污顆粒行進(jìn)通過所述間隙13。

進(jìn)一步來說，除污容器2'的底壁被細(xì)分為兩個(gè)部分，即，第一液體區(qū)域9'中的第一底壁部分及第二液體區(qū)域10'中的第二底壁部分，其中所述底壁部分之間的過渡點(diǎn)低于第一分離元件11'。第二底壁在其中水平地直線延伸，而第一底壁關(guān)于水平面向上傾斜延伸。

圖2b展示經(jīng)稍微修改的第二實(shí)施例，其中除污模塊1'包括具有多個(gè)開口、小孔、貫穿管道及/或間隙13的第一分離元件11'，其中第一分離元件11'中的所述開口、小孔、貫穿管道及/或間隙13的平均直徑從除污容器2'的底部連續(xù)增加到多達(dá)高于除污模塊1'內(nèi)部的處理液位6'的絕對(duì)高度。

這提供以下優(yōu)點(diǎn)：將首先積累在除污容器的底部的表面上的最大除污顆粒不能通過相對(duì)較小的開口、小孔、貫穿管道及/或間隙13。

最后，圖3展示本發(fā)明的除污模塊的第三實(shí)施例，其主要是基于圖1a中展示的第一實(shí)施例。圖3的除污模塊1還包括第一液體區(qū)域、第二液體區(qū)域、第一分離元件及溢流邊緣，即使這些技術(shù)特征沒有被相應(yīng)參考符號(hào)9、10、11及12標(biāo)記。所述參考符號(hào)沒有被展示僅僅是為了使圖3本身更加清楚。

本文中還希望揭示及包含整個(gè)圖1a描述(尤其由參考符號(hào)1到8標(biāo)記的技術(shù)特征的描述)，即使針對(duì)圖1a的描述沒有被再次概述以避免不必要的重復(fù)。

作為圖1a的第一實(shí)施例的補(bǔ)充，圖3展現(xiàn)出第一底壁部分在第一分離元件前面包括用于積累除污顆粒的第一腔14，其中所述第一腔14的底部包括用于從除污容器2中移除所述除污顆粒的處理液體出口。

在本文中，第一液體區(qū)域中的第一底壁部分首先直線地延伸直到其到達(dá)第一腔14的第一壁，且接著相對(duì)于水平面從第一腔14的另一壁連續(xù)地向上傾斜延伸。

圖3的除污模塊1進(jìn)一步包括第一處理液體循環(huán)系統(tǒng)，所述第一處理液體循環(huán)系統(tǒng)包括第二液體連接元件18，其從第一腔14的底部處且被布置在第一液體區(qū)域中的第一分離元件前面的處理液體出口到具有粗過濾器單元的第一過濾器裝置16。漿體泵15用于將懸浮在處理液體中的除污顆粒的漿體從腔14的底部傳遞到第一過濾器裝置16的粗過濾器單元。

在本文中，除污顆粒變得與濾液分離。第二液體連接元件18隨后進(jìn)一步到除污容器2的第二液體區(qū)域。

圖3額外地展現(xiàn)出包括第二處理液體循環(huán)系統(tǒng)，所述第二處理液體循環(huán)系統(tǒng)包括第一液體連接元件5，其中具有細(xì)過濾器單元的第二過濾器裝置17互連。

雖然已就某些特定實(shí)施例解釋且出于說明目的提供本發(fā)明的原理，但是應(yīng)了解所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員在閱讀本說明書之后將明白本發(fā)明的各種修改。因此，應(yīng)了解本文中揭示的本發(fā)明希望涵蓋屬于所附權(quán)利要求書的范圍內(nèi)的此類修改。本發(fā)明的范圍僅受所附權(quán)利要求書的范圍限制。

參考符號(hào)

1,1'除污模塊

2,2'除污容器

3,3'除污單元

4,4'浸液泵

5,5'第一液體連接元件

6,6'處理液位

7,7'浸液泵的下部的進(jìn)水區(qū)

8,8'漿體液位

9,9'第一液體區(qū)域

10,10'第二液體區(qū)域

11,11'第一分離元件

12溢流邊緣

13開口、小孔、貫穿管道及/或間隙

14第一底壁部分中的第一腔

15漿體泵

16第一過濾器裝置

17第二過濾器裝置

18第二液體連接元件