技術(shù)編號(hào)：11458311
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于水平電化或濕式化學(xué)工藝線的除污模塊，其用于移除待處理襯底上的沉淀物，尤其是銅的金屬沉積物，所述除污模塊包括可連接到除污單元的除污容器、泵及用于將所述泵與所述除污單元連接的至少第一液體連接元件，其中所述泵是通過所述至少第一液體連接元件與所述除污單元結(jié)合；且其中處理液位被提供在所述除污模塊內(nèi)部，所述處理液位高于所述泵的進(jìn)水區(qū)。本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種用于從此除污模塊選擇性分離及隨后移除除污顆粒的方法。背景技術(shù)例如高錳酸鈉或高錳酸鉀、鉻酸或硫酸的除污化學(xué)物質(zhì)在印刷電路板產(chǎn)業(yè)中眾所周知地用...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路，無完整電路圖，適合研究學(xué)習(xí)。