1.一種應(yīng)用于高強(qiáng)聚焦超聲HIFU設(shè)備的功率放大器，其特征在于，包括：
用于對輸入信號進(jìn)行放大的功率放大模塊；
以及，用于檢測所述功率放大模塊的輸出功率的第一功率檢測模塊；
以及，用于檢測向所述功率放大模塊的輸出端反射的反射功率的第二功率檢測模塊；
以及，分別與所述功率放大模塊、所述第一功率檢測模塊和所述第二功率檢測模塊電氣連接的控制模塊，所述控制模塊基于單片機(jī)構(gòu)建；
所述控制模塊用于：根據(jù)所述第一功率檢測模塊檢測到的輸出功率和所述第二功率檢測模塊檢測到的反射功率，調(diào)整所述功率放大模塊的輸出功率，使得所述輸出功率保持在一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的功率放大器，其特征在于，所述功率放大模塊包含：正向耦合口和負(fù)向耦合口；
所述第一功率檢測模塊與所述正向耦合口電氣連接；
所述第二功率檢測模塊與所述負(fù)向耦合口電器連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的功率放大器，其特征在于，
所述功率放大器還包括：
溫度檢測模塊，用于檢測所述功率放大器的工作溫度；
所述控制模塊還用于：基于所述溫度檢測模塊檢測到的工作溫度，對所述功率放大器進(jìn)行溫度補(bǔ)償。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的功率放大器，其特征在于，所述功率放大器還包括：顯示模塊；
所述控制模塊還用于：通過所述顯示模塊輸出顯示所述第一功率檢測模塊檢測到的輸出功率、所述第二功率檢測模塊檢測到的反射功率以及所述溫度檢測模塊檢測到的所述功率放大器的工作溫度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的功率放大器，其特征在于，
所述功率放大器還包括：
電流檢測模塊，用于檢測所述功率放大器中的各相的輸入電流；
所述控制模塊還用于：當(dāng)所述電流檢測模塊檢測出所述功率放大器中的任一相的輸入電流超過預(yù)設(shè)的門限電流時，斷開所述功率放大器的供電電源。
6.一種HIFU設(shè)備，其特征在于，包括：如權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的功率放大器。