本發(fā)明涉及有機(jī)電致發(fā)光顯示面板(以下稱為“有機(jī)EL顯示面板”。)的制造方法。更詳細(xì)地說，涉及具備多個(gè)發(fā)光層且相鄰的發(fā)光層顯示彼此不同的發(fā)光色的有機(jī)EL顯示面板的制造方法。

背景技術(shù)：
近年來，作為在薄型顯示裝置中使用的顯示元件，利用有機(jī)材料的電場(chǎng)發(fā)光的有機(jī)電致發(fā)光元件(以下稱為“有機(jī)EL元件”。)受到關(guān)注。有機(jī)EL元件通過從陽極注入的空穴和從陰極注入的電子在配置于兩電極間的發(fā)光層內(nèi)復(fù)合而進(jìn)行發(fā)光。這樣的自發(fā)光型的有機(jī)EL元件具有高亮度發(fā)光、高速響應(yīng)、廣視角、薄型輕量等優(yōu)異特征，期待應(yīng)用于顯示面板、照明等各個(gè)領(lǐng)域。作為進(jìn)行彩色顯示的有機(jī)EL顯示面板，已知具有顯示紅色(R)、綠色(G)和藍(lán)色(B)的發(fā)光色的發(fā)光層的結(jié)構(gòu)，通過使這些發(fā)光層有選擇地以所需的亮度發(fā)光而進(jìn)行圖像顯示。存在這些發(fā)光層以相鄰的發(fā)光層顯示彼此不同的發(fā)光色的方式形成的情況。對(duì)于這樣的結(jié)構(gòu)，研究了使顯示品質(zhì)得到提高的發(fā)光層的形成方法，例如能夠舉出以下例子。已知具有將相鄰的發(fā)光層重疊的混色部除去或電絕緣化的修復(fù)工序的顯示裝置的制造方法(例如參照專利文獻(xiàn)1)。已知在涂敷功能液后，使用等離子體式的表面處理裝置進(jìn)行將附著于堤堰部的殘留的功能液的溶劑除去的灰化處理的描繪作業(yè)線(例如參照專利文獻(xiàn)2)。現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開2007-66562號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2：日本特開2004-205911號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
發(fā)明要解決的技術(shù)問題在以多個(gè)發(fā)光色進(jìn)行顯示的有機(jī)EL顯示面板的制造中，存在對(duì)顯示各發(fā)光色的發(fā)光材料按各像素分別蒸鍍或涂敷而形成各發(fā)光層的情況。作為蒸鍍方法，例如采用使用設(shè)置有多個(gè)開口的掩模，對(duì)顯示各發(fā)光色的發(fā)光材料分開蒸鍍的方法。特別是對(duì)于大型的有機(jī)EL顯示面板的制造來說，例如存在使用圖6所示的蒸鍍裝置的方法。圖6是表示現(xiàn)有的蒸鍍裝置的一例的示意圖。如圖6所示，現(xiàn)有的蒸鍍裝置111依次包括：具有向基板2側(cè)射出蒸鍍顆粒的多個(gè)噴嘴112的蒸鍍?cè)?13；設(shè)置有多個(gè)帶狀的開口114a的限制板115；設(shè)置有多個(gè)帶狀的開口114b的掩模116。從蒸鍍?cè)?13的噴嘴112射出的蒸鍍顆粒成為蒸鍍流117，通過限制板115的開口114a和掩模116的開口114b后，被蒸鍍于基板2上的規(guī)定的位置。使用這樣的結(jié)構(gòu)，調(diào)整蒸鍍?cè)?13的噴嘴112、限制板115的開口114a和掩模116的開口114b的位置，使基板2或蒸鍍裝置111在兩箭頭方向上相對(duì)地移動(dòng)，并且依次蒸鍍顯示各發(fā)光色的發(fā)光材料，從而形成各發(fā)光層。但是，在使用這樣的蒸鍍方法時(shí)，在相鄰的像素間會(huì)發(fā)生混色，導(dǎo)致顯示品質(zhì)下降。認(rèn)為其原因是下述(A)和(B)。(A)由于基板與掩模的位置的錯(cuò)位等，顯示目標(biāo)的像素的發(fā)光色的發(fā)光材料產(chǎn)生的蒸鍍顆粒飛散至相鄰的像素。(B)由于蒸鍍顆粒間的沖撞和散射，顯示目標(biāo)的像素的發(fā)光色的發(fā)光材料產(chǎn)生的蒸鍍顆粒飛散至相鄰的像素。對(duì)于上述(A)和(B)，以下舉出具有顯示R、G和B發(fā)光色的發(fā)光層的現(xiàn)有的有機(jī)EL顯示面板的制造方法為例進(jìn)行說明。圖7是在現(xiàn)有的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中，表示形成發(fā)光層的工序的截面示意圖(工序a～c)。如圖7(a)所示，在基板2上預(yù)先形成有陽極5和覆蓋陽極5的端部的邊緣罩6。在邊緣罩6設(shè)置有多個(gè)開口，各開口部與像素4R、4G、4B的發(fā)光區(qū)域?qū)?yīng)。此外，在陽極5上，依次形成有空穴注入層7和空穴輸送層8。對(duì)于這樣的結(jié)構(gòu)，首先如圖7(a)所示，在像素4R蒸鍍顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料而形成發(fā)光層9R。此時(shí)，由于上述(A)和(B)，顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜10R比發(fā)光層9R薄地附著于像素4G、4B、邊緣罩6上的整個(gè)區(qū)域。接著，如圖7(b)所示，在像素4G蒸鍍顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料而形成發(fā)光層9G。此時(shí)，由于上述(A)和(B)，顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜10G比發(fā)光層9G薄地附著于像素4R、4B、薄膜10R上的整個(gè)區(qū)域。接著，如圖7(c)所示，在像素4B蒸鍍顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料而形成發(fā)光層9B。此時(shí)，由于上述(A)和(B)，顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜10B比發(fā)光層9B薄地附著于像素4R、4G、薄膜10G上的整個(gè)區(qū)域。之后，通過適當(dāng)形成與陽極5相對(duì)的陰極(未圖示)等，得到具有在基板2上形成的有機(jī)EL元件103的有機(jī)EL顯示面板101。但是，在有機(jī)EL顯示面板101中，由于薄膜10R、10G、10B的存在，在相鄰的像素間發(fā)生混色，不能夠得到所需的發(fā)光色，顯示品質(zhì)下降。為了抑制薄膜10R、10G、10B的產(chǎn)生，通過研究蒸鍍條件或使基板與掩模的距離變窄，能夠減小薄膜10R、10G、10B的厚度和分布區(qū)域，但不能夠?qū)⑵渫耆?。于是，現(xiàn)有技術(shù)的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，在防止混色的發(fā)生、提高顯示品質(zhì)方面存在改善的余地。上述專利文獻(xiàn)1公開了提供顯示品質(zhì)良好的顯示裝置的制造方法的內(nèi)容。但是，上述專利文獻(xiàn)1記載的發(fā)明僅對(duì)相鄰的發(fā)光層重疊的混色部進(jìn)行修復(fù)(除去或電絕緣化)，不能夠應(yīng)對(duì)圖7(c)所示的在各像素的整個(gè)區(qū)域擴(kuò)展的薄膜10R、10G、10B的問題，因此為了解決上述問題還存在改善的余地。此外，上述專利文獻(xiàn)1中記載的發(fā)明中，必須進(jìn)行用于確認(rèn)混色部的量和位置等的檢查工序，因此在提高制造效率的方面也存在改善的余地。而且，上述專利文獻(xiàn)1記載的發(fā)明中，混色部的修復(fù)在形成有機(jī)EL元件之后進(jìn)行，因此由于進(jìn)行修復(fù)時(shí)產(chǎn)生的殘?jiān)?，有可能?dǎo)致陽極和陰極的漏泄。上述專利文獻(xiàn)2公開了提供能夠防止在堤堰部附著殘留的溶劑導(dǎo)致的混色的發(fā)生的描繪作業(yè)線的內(nèi)容。但是，上述專利文獻(xiàn)2記載的發(fā)明關(guān)注的是在堤堰部附著殘留的功能液的溶劑，并沒有關(guān)注圖7(c)所示的在各像素的整個(gè)區(qū)域擴(kuò)展的薄膜10R、10G、10B，因此為了解決上述問題還存在改善的余地。此外，上述專利文獻(xiàn)2記載的發(fā)明中，在除去混色部時(shí)，必須進(jìn)行用于確認(rèn)溶劑的量和位置等的檢查工序，必須基于檢查工序的信息每次變更處理?xiàng)l件，因此在提高制造效率的方面存在改善的余地。本發(fā)明鑒于上述現(xiàn)狀而提出，其目的在于提供防止混色的發(fā)生、提高顯示品質(zhì)并且能夠提高制造效率的有機(jī)EL顯示面板的制造方法。用于解決課題的技術(shù)方案本發(fā)明者們，對(duì)能夠防止混色的發(fā)生，提高顯示品質(zhì)并且提高制造效率的有機(jī)EL顯示面板的制造方法進(jìn)行了各種研究，著眼于在規(guī)定的像素形成了發(fā)光層后，對(duì)包含相鄰的像素的區(qū)域進(jìn)行蝕刻處理。從而發(fā)現(xiàn)了下述結(jié)構(gòu)：通過將在規(guī)定的像素形成的發(fā)光層留下，并且將附著于相鄰的像素的整個(gè)區(qū)域的薄膜除去，由此，即使之后在相鄰的像素形成發(fā)光層也不會(huì)發(fā)生混色。此外，因?yàn)閷?duì)包含相鄰的像素的整個(gè)區(qū)域進(jìn)行蝕刻處理，所以不需要進(jìn)行使用掩模等的有選擇的蝕刻處理、或與之相應(yīng)的高度校準(zhǔn)技術(shù)，而且，也不需要用于確認(rèn)進(jìn)行蝕刻處理的部分的位置等的檢查工序。由此能夠提高制造效率。本發(fā)明者們從而想到了很好地解決上述問題的方案而得到本發(fā)明。即，本發(fā)明的一個(gè)方面是，一種有機(jī)電致發(fā)光顯示面板的制造方法，其在第一像素形成由顯示第一發(fā)光色的發(fā)光材料構(gòu)成的第一發(fā)光層，在與上述第一像素相鄰的第二像素形成由顯示與上述第一發(fā)光色不同的第二發(fā)光色的發(fā)光材料構(gòu)成的第二發(fā)光層，該有機(jī)電致發(fā)光顯示面板的制造方法依次包括以下工序：在上述第一像素形成顯示上述第一發(fā)光色的發(fā)光材料的膜，從而形成上述第一發(fā)光層的工序(1)；對(duì)包含上述第一像素和上述第二像素的區(qū)域進(jìn)行蝕刻處理，留下上述第一發(fā)光層，并將在上述工序(1)中附著于上述第二像素的比上述第一發(fā)光層薄的顯示上述第一發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜除去的工序(2)；在上述第二像素形成顯示上述第二發(fā)光色的發(fā)光材料的膜，從而形成上述第二發(fā)光層的工序(3)；和對(duì)包含上述第一像素和上述第二像素的區(qū)域進(jìn)行蝕刻處理，留下上述第二發(fā)光層，并將在上述工序(3)中附著于上述第一像素的比上述第二發(fā)光層薄的顯示上述第二發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜除去的工序(4)。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明，能夠提供能防止混色的發(fā)生、提高顯示品質(zhì)并且提高制造效率的有機(jī)EL顯示面板的制造方法。附圖說明圖1是表示在實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖。圖2是表示在實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序的截面示意圖(工序a～f)。圖3是表示在實(shí)施方式2的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖。圖4是表示在實(shí)施方式3的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖(工序a～c)。圖5是表示在實(shí)施方式4的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖。圖6是表示現(xiàn)有的蒸鍍裝置的一例的示意圖。圖7是表示在現(xiàn)有的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序的截面示意圖(工序a～c)。具體實(shí)施方式以下基于實(shí)施方式參照附圖對(duì)本發(fā)明更詳細(xì)地進(jìn)行說明，但本發(fā)明并不限定于這些實(shí)施方式。此外，各實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)能夠適當(dāng)組合、變更。以下的實(shí)施方式中，對(duì)于具有顯示R、G和B發(fā)光色的發(fā)光層的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，說明了按下述順序依次形成顯示R發(fā)光色的發(fā)光層、顯示G發(fā)光色的發(fā)光層和顯示B發(fā)光色的發(fā)光層的方法，對(duì)于發(fā)光色的種類、數(shù)量和發(fā)光層的形成順序沒有特別限定。本說明收中，有機(jī)電致發(fā)光記載為“有機(jī)EL”。有機(jī)EL也稱為有機(jī)發(fā)光二極管(OLED：OrganicLightEmittingDiode)。[實(shí)施方式1]實(shí)施方式1是對(duì)每個(gè)發(fā)光色在相同的腔室內(nèi)進(jìn)行發(fā)光材料的蒸鍍和蝕刻處理的情況。首先，使用圖1說明在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的結(jié)構(gòu)。圖1是表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖。如圖1所示，在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件22a包括蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18a。蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18a在腔室21a內(nèi)依次配置。蒸鍍裝置11包括具有射出蒸鍍顆粒的多個(gè)噴嘴12的蒸鍍?cè)?3和設(shè)置有多個(gè)開口14的掩模16。在蒸鍍?cè)?3與掩模16之間，也可以適當(dāng)配置設(shè)置有多個(gè)開口的限制板。從蒸鍍?cè)?3的噴嘴12射出的蒸鍍顆粒成為蒸鍍流17，在通過掩模16的開口14后，蒸鍍?cè)诒惶幚砘?a上的規(guī)定的位置。等離子體處理裝置18a具有一對(duì)電極19a、19b，從通過在該一對(duì)電極間放電而產(chǎn)生的放電空間AR照射等離子體20，由此從蒸鍍后的基板的一端部到另一端部依次進(jìn)行蝕刻處理。結(jié)果蒸鍍后的基板的整個(gè)面被蝕刻處理。通過使用這樣的裝置組件22a，在使被處理基板2a在箭頭方向上移動(dòng)的同時(shí)進(jìn)行各處理(蒸鍍和蝕刻)而形成發(fā)光層。裝置組件22a按發(fā)光色設(shè)置有3個(gè)，由該3個(gè)裝置組件依次進(jìn)行處理，即通過交替進(jìn)行3次蒸鍍和蝕刻處理，形成顯示3種類(R、G、B)的發(fā)光色的發(fā)光層。接著，使用圖2說明形成發(fā)光層的工序的流程。圖2是表示實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序的截面示意圖(工序a～f)。另外，圖2中3個(gè)像素(4R、4G、4B)被放大顯示，在左右方向上重復(fù)排列有這樣的結(jié)構(gòu)。(a)顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍?nèi)鐖D2(a)所示，在基板2上，預(yù)先形成有陽極5和覆蓋陽極5的端部的邊緣罩6。在邊緣罩6設(shè)置有多個(gè)開口，各開口部與像素4R、4G、4B的發(fā)光區(qū)域?qū)?yīng)。此外，在陽極5上，依次形成有空穴注入層7和空穴輸送層8。對(duì)于這樣的結(jié)構(gòu)，使用圖1中已說明的蒸鍍裝置11，如圖2(a)所示，在像素4R蒸鍍顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料而形成發(fā)光層9R。此時(shí)，由于上述(A)和(B)的已說明的原因，顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜10R比發(fā)光層9R薄地附著于像素4G、4B、邊緣罩6上的整個(gè)區(qū)域。另外，薄膜10R的分布區(qū)域根據(jù)蒸鍍條件而不同，例如也存在薄膜10R沒有分布在像素4G的右側(cè)的邊緣罩6上或像素4B的左側(cè)的邊緣罩6上的情況。雖然根據(jù)顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的種類和蒸鍍條件而存在不同，但例如在發(fā)光層9R的厚度為40nm時(shí)，薄膜10R的厚度為0.4nm。(b)工序(a)后的蝕刻處理使用在圖1中已說明的等離子體處理裝置18a，如圖2(b)所示，對(duì)工序(a)后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，留下發(fā)光層9R而除去薄膜10R。此時(shí)，優(yōu)選進(jìn)行薄膜10R的厚度的量的蝕刻處理。由此，能夠使得蝕刻處理對(duì)發(fā)光層9R的影響為最小限度。此外，因?yàn)閷?duì)工序(a)后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，所以不需要使用掩模等的有選擇的蝕刻處理和用于確認(rèn)進(jìn)行蝕刻處理的部分的位置等的檢查工序，能夠提高制造效率。作為蝕刻處理?xiàng)l件，能夠根據(jù)顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的種類和蒸鍍條件適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行設(shè)定，例如優(yōu)選采用使用氣體為氧(O2)、高頻(RF：RadioFrequency)的頻率為13.56MHz、功率為100W、處理時(shí)間為30秒以下的條件。(c)顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍使用圖1中已說明的蒸鍍裝置11，如圖2(c)所示，在像素4G蒸鍍顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料而形成發(fā)光層9G。此時(shí)，由于上述(A)和(B)的已說明的原因，顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜10G比發(fā)光層9G薄地附著于像素4R、4B、邊緣罩6上的整個(gè)區(qū)域。另外，薄膜10G的分布區(qū)域根據(jù)蒸鍍條件而不同，例如也存在薄膜10G沒有分布在像素4R與像素4B間的邊緣罩6上的情況。雖然根據(jù)顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的種類和蒸鍍條件而不同，但例如在發(fā)光層9G的厚度為40nm時(shí)，薄膜10G的厚度為0.4nm。(d)工序(c)后的蝕刻處理使用圖1中已說明的等離子體處理裝置18a，如圖2(d)所示，對(duì)工序(c)后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，留下發(fā)光層9G而除去薄膜10G。此時(shí)，優(yōu)選進(jìn)行薄膜10G的厚度的量的蝕刻處理。由此，能夠使得蝕刻處理對(duì)發(fā)光層9G的影響為最小限度。此外，因?yàn)閷?duì)工序(c)后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，所以不需要使用掩模等的有選擇的蝕刻處理和用于確認(rèn)進(jìn)行蝕刻處理的部分的位置等的檢查工序，能夠提高制造效率。作為蝕刻處理?xiàng)l件，能夠根據(jù)顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的種類和蒸鍍條件適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行設(shè)定，例如，能夠采用使用氣體為O2、RF的頻率為13.56MHz、功率為100W、處理時(shí)間為30秒以下的條件。(e)顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍使用圖1中已說明的蒸鍍裝置11，如圖2(e)所示，在像素4B蒸鍍顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料而形成發(fā)光層9B。此時(shí)，由于上述(A)和(B)的已說明的原因，顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的薄膜10B比發(fā)光層9B薄地附著于像素4R、4G、邊緣罩6上的整個(gè)區(qū)域。另外，薄膜10B的分布區(qū)域根據(jù)蒸鍍條件而不同，例如也存在薄膜10B沒有分布在像素4R與像素4G間的邊緣罩6上的情況。雖然根據(jù)顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的種類和蒸鍍條件而不同，但例如在發(fā)光層9B的厚度為40nm時(shí)，薄膜10B的厚度為0.4nm。(f)工序(e)后的蝕刻處理使用圖1中已說明的等離子體處理裝置18a，如圖2(f)所示，對(duì)工序(e)后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，留下發(fā)光層9B而除去薄膜10B。此時(shí)，優(yōu)選進(jìn)行薄膜10B的厚度的量的蝕刻處理。由此，能夠使得蝕刻處理對(duì)發(fā)光層9B的影響為最小限度。此外，因?yàn)閷?duì)工序(e)后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，所以不需要使用掩模等的有選擇的蝕刻處理和用于確認(rèn)進(jìn)行蝕刻處理的部分的位置等的檢查工序，能夠提高制造效率。作為蝕刻處理?xiàng)l件，能夠根據(jù)顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的種類和蒸鍍條件適當(dāng)進(jìn)行設(shè)定，例如優(yōu)選采用使用氣體為O2、RF的頻率為13.56MHz、功率為100W、處理時(shí)間為30秒以下的條件。之后，在各發(fā)光層上，依次形成電子輸送層(未圖示)、電子注入層(未圖示)和陰極(未圖示)等，由此得到具有在基板2上形成的有機(jī)EL元件3的有機(jī)EL顯示面板1。如圖2(f)所示，在有機(jī)EL顯示面板1中，不會(huì)在相鄰的像素間發(fā)生混色，能夠得到所需的發(fā)光色，提高顯示品質(zhì)。如上所述，根據(jù)實(shí)施方式1的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，能夠防止混色的發(fā)生、提高顯示品質(zhì)并且提高制造效率。此處，作為顯示R、G和B發(fā)光色的發(fā)光材料，例如能夠舉出：蒽、萘、茚、菲、芘、丁省、三亞苯、二萘嵌苯、苉、熒蒽、醋菲烯、戊芬、并五苯、暈苯、丁二烯、香豆素、吖啶、芪和它們的派生物；8-羥基喹啉鋁絡(luò)合物；雙(苯并喹啉)鈹絡(luò)合物；三(二苯甲酰甲烷)菲羅啉銪絡(luò)合物；二甲苯基乙烯基聯(lián)苯等。另外，在實(shí)施方式1中，使用了3個(gè)圖1所示的裝置組件22a，但并不限定于該結(jié)構(gòu)。作為變形例，也可以采用在相同的腔室內(nèi)交替地各配置3個(gè)蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18a的結(jié)構(gòu)。此外，腔室21a的形狀也沒有特別限定。此外，在實(shí)施方式1中，在形成各發(fā)光層之前，在基板2上依次形成陽極5、空穴注入層7和空穴輸送層8，也可以為該結(jié)構(gòu)以外的結(jié)構(gòu)。例如，也可以采用在形成各發(fā)光層之前，在基板2上形成陰極、電子注入層和電子輸送層的結(jié)構(gòu)。此外，作為基板2，能夠舉出具有薄膜晶體管元件的有源矩陣基板、透明基板等。作為透明基板使用能夠彎曲的塑料基板時(shí)，能夠得到可撓的有機(jī)EL顯示面板。[實(shí)施方式2]實(shí)施方式2是在不同的腔室內(nèi)進(jìn)行發(fā)光材料的蒸鍍和蝕刻處理的情況。實(shí)施方式2除了在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的結(jié)構(gòu)以外與實(shí)施方式1同樣，因此省略重復(fù)內(nèi)容的說明。圖3是表示實(shí)施方式2的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中的形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖。如圖3所示，在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件22b包括蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18a。蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18a分別在腔室21b、21c內(nèi)依次配置。腔室21b、21c被擋板(未圖示)等劃分開，成為不將被處理基板2a送至腔室外而在腔室21b、21c間移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。通過使用這樣的裝置組件22b，一邊使被處理基板2a在箭頭方向上移動(dòng)一邊進(jìn)行各處理(蒸鍍和蝕刻)來形成發(fā)光層。裝置組件22b按發(fā)光色設(shè)置有3個(gè)，由該3個(gè)裝置組件依次進(jìn)行處理，即，通過交替進(jìn)行3次蒸鍍和蝕刻處理，形成顯示3種類(R、G、B)的發(fā)光色的發(fā)光層。形成發(fā)光層的工序的流程與實(shí)施方式1同樣，因此根據(jù)實(shí)施方式2的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，當(dāng)然能夠達(dá)到本發(fā)明的效果。根據(jù)實(shí)施方式2的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，在此效果之外，還能夠達(dá)到以下的添加效果。在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件中，根據(jù)蒸鍍裝置11的結(jié)構(gòu)，有時(shí)會(huì)由于來自等離子體處理裝置18a的處理氣體，對(duì)蒸鍍流17造成影響，結(jié)果難以在規(guī)定的像素形成發(fā)光層。根據(jù)實(shí)施方式2的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，在不同的腔室內(nèi)進(jìn)行蒸鍍和蝕刻處理，因此能夠不受等離子體處理裝置18a的影響地進(jìn)行蒸鍍。另外，在實(shí)施方式2中，成為不將被處理基板2a取出至腔室外而使其在腔室21b、21c間移動(dòng)的結(jié)構(gòu)，但該結(jié)構(gòu)并沒有特別限定。例如，也可以采用將2個(gè)腔室分開配置，在使處理基板2a在腔室間移動(dòng)時(shí)，將基板取出至腔室外的結(jié)構(gòu)。[實(shí)施方式3]實(shí)施方式3是在相同的腔室內(nèi)進(jìn)行蒸鍍了顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料后的蝕刻處理和顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍，且在相同的腔室內(nèi)進(jìn)行蒸鍍了顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料后的蝕刻處理和顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍的情況。實(shí)施方式3除了在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的結(jié)構(gòu)以外與實(shí)施方式1同樣，因此省略重複點(diǎn)的說明。圖4是表示實(shí)施方式3的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中的形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖(工序a～c)。首先，使用圖4(a)所示的裝置組件22c進(jìn)行處理。裝置組件22c中，在腔室21d內(nèi)配置有顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料用的蒸鍍裝置11R。使用這樣的裝置組件22c，一邊使被處理基板2b在箭頭方向上移動(dòng)，一邊利用蒸鍍裝置11R進(jìn)行顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍。接著，使用圖4(b)所示的裝置組件22d進(jìn)行處理。裝置組件22d中，在腔室21e內(nèi)依次配置有顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料用的等離子體處理裝置18R和顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料用的蒸鍍裝置11G。使用這樣的裝置組件22d，一邊使蒸鍍了顯示R發(fā)光色的發(fā)光材料的被處理基板2c在箭頭方向上移動(dòng)，一邊利用等離子體處理裝置18R進(jìn)行蝕刻處理，之后，利用蒸鍍裝置11G進(jìn)行顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍。最后，使用圖4(c)所示的裝置組件22e進(jìn)行處理。裝置組件22e中，在腔室21f內(nèi)依次配置有顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料用的等離子體處理裝置18G、顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料用的蒸鍍裝置11B、顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料用的等離子體處理裝置18B。使用這樣的裝置組件22e，使蒸鍍了顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的被處理基板2d在箭頭方向上移動(dòng)，并且依次進(jìn)行等離子體處理裝置18G的蝕刻處理、蒸鍍裝置11B的顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍和等離子體處理裝置18B的蝕刻處理。如上所述形成顯示3種類(R、G、B)的發(fā)光色的發(fā)光層。另外，蒸鍍裝置11R、11G、11B與圖1已說明的蒸鍍裝置11為相同結(jié)構(gòu)，等離子體處理裝置18R、18G、18B與圖1已說明的等離子體處理裝置18a為相同結(jié)構(gòu)。形成發(fā)光層的工序的流程與實(shí)施方式1同樣，因此根據(jù)實(shí)施方式3的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，當(dāng)然能夠達(dá)到本發(fā)明的效果。根據(jù)實(shí)施方式3的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，在此效果之外，還能夠達(dá)到以下的添加效果。在形成發(fā)光層的工序中，有時(shí)污染物會(huì)附著于在發(fā)光層之前已形成的層(例如空穴輸送層8)上，如果在該狀態(tài)下形成發(fā)光層，則由于該污染物可能引起亮度的劣化。根據(jù)實(shí)施方式3的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，因?yàn)槭褂醚b置組件22d，所以能夠在利用等離子體處理裝置18R除去附著在空穴輸送層8上的污染物之后，立即利用蒸鍍裝置11G進(jìn)行顯示G發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍。此外，因?yàn)槭褂醚b置組件22e，所以能夠在利用等離子體處理裝置18G除去附著在空穴輸送層8上的污染物后，立即利用蒸鍍裝置11B進(jìn)行顯示B發(fā)光色的發(fā)光材料的蒸鍍。以上內(nèi)容的結(jié)果是能夠防止污染物引起的亮度的劣化。[實(shí)施方式4]實(shí)施方式4是在不同的腔室內(nèi)進(jìn)行發(fā)光材料的蒸鍍和蝕刻處理的情況，是使用與實(shí)施方式1～3不同的方式的等離子體處理裝置的情況。實(shí)施方式4除了在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的結(jié)構(gòu)和使用不同方式的等離子體處理裝置以外與實(shí)施方式1同樣，因此省略重復(fù)點(diǎn)的說明。圖5是表示實(shí)施方式4的有機(jī)EL顯示面板的制造工序中形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件的截面示意圖。如圖5所示，在形成發(fā)光層的工序中使用的裝置組件22f包括蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18b。蒸鍍裝置11和等離子體處理裝置18b分別在腔室21g、21h內(nèi)依次配置。腔室21g、21h被擋板(未圖示)等劃分開，成為不將被處理基板2a取出至腔室外地使其在腔室21g、21h間移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。使用這樣的裝置組件22f，一邊使被處理基板2a在箭頭方向上移動(dòng)一邊進(jìn)行各處理(蒸鍍和蝕刻)，由此形成發(fā)光層。裝置組件22f按發(fā)光色設(shè)置有3個(gè)，由該3個(gè)裝置組件依次進(jìn)行處理，即，通過交替進(jìn)行3次蒸鍍和蝕刻處理，形成顯示3種類(R、G、B)的發(fā)光色的發(fā)光層。等離子體處理裝置18b具有一對(duì)電極19a、19b，在通過由該一對(duì)電極間放電而產(chǎn)生的放電空間AR內(nèi)，對(duì)蒸鍍后的基板的整個(gè)面一并照射等離子體20，由此對(duì)蒸鍍后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理。在使用等離子體處理裝置18b時(shí)也是對(duì)蒸鍍后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理，因此不需要使用掩模等的有選擇的蝕刻處理和相應(yīng)的高度校準(zhǔn)技術(shù)，能夠提高制造效率。形成發(fā)光層的工序的流程與實(shí)施方式1同樣，因此根據(jù)實(shí)施方式4的有機(jī)EL顯示面板的制造方法，當(dāng)然能夠達(dá)到本發(fā)明的效果。另外，等離子體處理裝置18b也能夠在實(shí)施方式1～3中代替等離子體處理裝置18a使用。如以上說明的各實(shí)施方式所示，本發(fā)明的有機(jī)EL顯示面板的制造方法適用于在形成發(fā)光材料的膜時(shí)使用圖1已說明的蒸鍍裝置進(jìn)行蒸鍍的情況，但也可以適用于以蒸鍍以外的方法成膜的情況。此外，在對(duì)發(fā)光材料成膜后的基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理時(shí)使用等離子體處理裝置，但只要是對(duì)基板的整個(gè)面進(jìn)行蝕刻處理的方法，則也可以由這以外的方法進(jìn)行蝕刻處理。[附記]以下舉出本發(fā)明的有機(jī)EL顯示面板的制造方法的優(yōu)選方式的例子。各例可以在不脫離本發(fā)明的主旨的范圍中適當(dāng)組合。上述工序(2)和上述工序(4)中可以進(jìn)行上述薄膜的厚度的量的蝕刻處理。由此，能夠使蝕刻處理對(duì)上述第一和第二發(fā)光層的影響為最小限度?？梢允巧鲜龉ば?1)與上述工序(2)在不同的腔室內(nèi)進(jìn)行，上述工序(3)與上述工序(4)在不同的腔室內(nèi)進(jìn)行。由此，能夠不受在上述工序(2)使用的裝置的影響地進(jìn)行上述工序(1)的成膜，能夠很好地在上述第一像素形成上述第一發(fā)光層。此外，能夠不受在上述工序(4)使用的裝置的影響地進(jìn)行上述工序(3)的成膜，能夠很好地在上述第二像素形成上述第二發(fā)光層。上述工序(2)和上述工序(3)可以在相同的腔室內(nèi)進(jìn)行。由此，在上述第二發(fā)光層之前已形成的層上附著有污染物時(shí)，在由上述工序(2)除去污染物后，立即由上述工序(3)形成上述第二發(fā)光層，因此能夠防止由污染物引起的亮度的劣化。上述工序(2)和上述工序(4)的蝕刻處理可以使用具有一對(duì)電極的等離子體處理裝置進(jìn)行。由此，能夠利用等離子體處理的效果很好地進(jìn)行蝕刻處理。上述等離子體處理裝置可以通過從上述一對(duì)電極形成的放電空間向被處理基板照射等離子體而進(jìn)行等離子體處理。上述等離子體處理裝置也可以通過在上述一對(duì)電極形成的放電空間內(nèi)對(duì)被處理基板的整個(gè)面一并照射等離子體從而進(jìn)行等離子體處理。由此，能夠有效地應(yīng)用各種方式的等離子體處理裝置?？梢允褂冒ň哂猩涑稣翦冾w粒的多個(gè)噴嘴的蒸鍍?cè)春驮O(shè)置有多個(gè)開口的掩模的蒸鍍裝置，一邊使被成膜基板或上述蒸鍍裝置相對(duì)移動(dòng)，一邊進(jìn)行上述工序(1)和上述工序(3)的膜的形成。由此特別在制造大型的有機(jī)EL顯示面板時(shí)，能夠很好地應(yīng)用本發(fā)明。附圖標(biāo)記說明1、101：有機(jī)EL顯示面板2：基板2a、2b、2c、2d：被處理基板3、103：有機(jī)EL元件4R、4G、4B：像素5：陽極6：邊緣罩7：空穴注入層8：空穴輸送層9R、9G、9B：發(fā)光層10R、10G、10B：薄膜11、11R、11G、11B、111：蒸鍍裝置12、112：噴嘴13、113：蒸鍍?cè)?4、114a、114b：開口115：限制板16、116：掩模17、117：蒸鍍流18a、18b、18R、18G、18B：等離子體處理裝置19a、19b：電極20：等離子體21a、21b、21c、21d、21e、21f、21g、21h：腔室22a、22b、22c、22d、22e、22f：裝置組件AR：放電空間。