過調(diào)制控制方法和裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種過調(diào)制控制方法和裝置。其中，該方法包括：獲取第一參考電壓及第二參考電壓，其中，第一參考電壓與第二參考電壓的取值根據(jù)控制電路中的交流電流變換得到；根據(jù)第一參考電壓及第二參考電壓計(jì)算待調(diào)制電壓矢量的矢量角度和調(diào)制比；判斷待調(diào)制電壓矢量的矢量角度是否在與調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)，并在判斷出矢量角度在過調(diào)制角度范圍之外時(shí)，根據(jù)調(diào)制比對控制電路中的待調(diào)制電壓矢量進(jìn)行過調(diào)制控制。本發(fā)明解決了采用現(xiàn)有的方式進(jìn)行過調(diào)制控制時(shí)控制準(zhǔn)確性較低的技術(shù)問題。
【專利說明】過調(diào)制控制方法和裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及電子電路領(lǐng)域，具體而言，涉及一種過調(diào)制控制方法和裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，在現(xiàn)有的逆變器電路控制過程中，通常采用的過調(diào)制方式是空間矢量脈沖 調(diào)制（SVPWM，Space Vector Pulse Width Modulation)，也就是說，判斷待控制矢量在空間 矢量各個(gè)扇區(qū)中所處的過調(diào)制區(qū)域，進(jìn)而根據(jù)不同過調(diào)制區(qū)域?qū)?yīng)的調(diào)制比，對上述矢量 進(jìn)行過調(diào)制控制。然而，上述不同過調(diào)制區(qū)的調(diào)制比都僅僅是依據(jù)輸出電壓幅值得到的，由 于輸出電壓幅值在過調(diào)制的一個(gè)周期內(nèi)無偏差，這樣就導(dǎo)致采用傳統(tǒng)的過調(diào)制控制方式， 不僅計(jì)算過程復(fù)雜，而且過調(diào)制控制的結(jié)果也不準(zhǔn)確。
[0003] 針對現(xiàn)有技術(shù)中提出的問題，目前尚未提出有效的解決方案。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明實(shí)施例提供了一種過調(diào)制控制方法和裝置，以至少解決采用現(xiàn)有的方式進(jìn) 行過調(diào)制控制時(shí)控制準(zhǔn)確性較低的技術(shù)問題。
[0005] 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)方面，提供了一種過調(diào)制控制方法，包括：獲取第一參考 電壓及第二參考電壓，其中，上述第一參考電壓與上述第二參考電壓的取值根據(jù)控制電路 中的交流電流變換得到；根據(jù)上述第一參考電壓及上述第二參考電壓計(jì)算待調(diào)制電壓矢量 的矢量角度和調(diào)制比；判斷上述待調(diào)制電壓矢量的上述矢量角度是否在與上述調(diào)制比對應(yīng) 的過調(diào)制角度范圍內(nèi)，并在判斷出上述矢量角度在上述過調(diào)制角度范圍之外時(shí)，根據(jù)上述 調(diào)制比對上述控制電路中的上述待調(diào)制電壓矢量進(jìn)行過調(diào)制控制。
[0006] 可選地，上述根據(jù)上述第一參考電壓及上述第二參考電壓計(jì)算待調(diào)制電壓矢 量的矢量角度和調(diào)制比包括：根據(jù)上述第一參考電壓與上述第二參考電壓 通過以下公式計(jì)算上述待調(diào)制電壓矢量的調(diào)制比及上述待調(diào)制電壓矢量的矢量角度；

【權(quán)利要求】
1. 一種過調(diào)制控制方法，其特征在于，包括： 獲取第一參考電壓及第二參考電壓，其中，所述第一參考電壓與所述第二參考電壓的 取值根據(jù)控制電路中的交流電流變換得到； 根據(jù)所述第一參考電壓及所述第二參考電壓計(jì)算待調(diào)制電壓矢量的矢量角度和調(diào)制 比； 判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢量角度是否在與所述調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范 圍內(nèi)，并在判斷出所述矢量角度在所述過調(diào)制角度范圍之外時(shí)，根據(jù)所述調(diào)制比對所述控 制電路中的所述待調(diào)制電壓矢量進(jìn)行過調(diào)制控制。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一參考電壓及所述第二 參考電壓計(jì)算待調(diào)制電壓矢量的矢量角度和調(diào)制比包括： 根據(jù)所述第一參考電壓與所述第二參考電壓通過以下公式計(jì)算所述待調(diào)制 電壓矢量的調(diào)制比及所述待調(diào)制電壓矢量的矢量角度； q = vr?i2+F?/22 > tciXKX=-5 其中，所述'@表示所述第一參考電壓V 的幅值，所述VMf2表示所述第二參考電壓 Vref/的幅值，所述q表示所述待調(diào)制電壓矢量的所述調(diào)制比；所述α表示所述待調(diào)制電壓 矢量的所述矢量角度。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述 矢量角度是否在與所述調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)之前，還包括： 根據(jù)所述調(diào)制比判斷所述待調(diào)制電壓矢量是否在矢量空間的第一過調(diào)制區(qū)； 若判斷出所述待調(diào)制電壓矢量在所述第一過調(diào)制區(qū)時(shí)，則通過以下公式計(jì)算與所述調(diào) 制比對應(yīng)的第一過調(diào)制角度幅度：
其中，所述Θ表示所述第一過調(diào)制角度幅度，所述q表示所述待調(diào)制電壓矢量的調(diào)制 比，所述Vstep表示基本矢量的幅值； 通過以下公式計(jì)算所述第一過調(diào)制角度范圍： δ i =60*η± Θ， 其中，所述S1表示所述第一過調(diào)制角度范圍，所述Θ表示所述第一過調(diào)制角度幅度， 所述η表示O至5中的任意一個(gè)自然數(shù)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述 矢量角度是否在與所述調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)之前，還包括： 根據(jù)所述調(diào)制比判斷所述待調(diào)制電壓矢量是否在矢量空間的第二過調(diào)制區(qū)； 若判斷出所述待調(diào)制電壓矢量在所述第二過調(diào)制區(qū)時(shí)，則通過以下公式計(jì)算與所述調(diào) 制比對應(yīng)的第二過調(diào)制角度幅度：
其中，所述γ表示所述第二過調(diào)制角度幅度，所述q表示所述待調(diào)制電壓矢量的調(diào)制 比，所述Vstep表示基本矢量的幅值； 通過以下公式計(jì)算所述第二過調(diào)制角度范圍：δ2= 60*m±γ， 其中，所述S2表示所述第二過調(diào)制角度范圍，所述γ表示所述第二過調(diào)制角度幅度， 所述m表示O至5中的任意一個(gè)自然數(shù)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢 量角度是否在與所述調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)包括： 根據(jù)所述調(diào)制比在預(yù)先設(shè)置的映射表中查找與所述調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào)制角度幅度； 判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢量角度是否在與所述調(diào)制比對應(yīng)的所述過調(diào)制角 度范圍內(nèi)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述調(diào)制比對所述 控制電路中的所述待調(diào)制電壓矢量進(jìn)行過調(diào)制控制包括： 根據(jù)所述調(diào)制比調(diào)整所述待調(diào)制電壓矢量的占空比，以實(shí)現(xiàn)對所述待調(diào)制電壓矢量的 過調(diào)制控制。
7.-種過調(diào)制控制裝置，其特征在于，包括： 獲取單元，用于獲取第一參考電壓及第二參考電壓，其中，所述第一參考電壓與所述第 二參考電壓的取值根據(jù)控制電路中的交流電流變換得到； 計(jì)算單元，用于根據(jù)所述第一參考電壓及所述第二參考電壓計(jì)算待調(diào)制電壓矢量的矢 量角度及調(diào)制比； 第一判斷單元，用于判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢量角度是否在與所述調(diào)制比對 應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)； 控制單元，用于在判斷出所述矢量角度在所述過調(diào)制角度范圍之外時(shí)，根據(jù)所述調(diào)制 比對所述控制電路中的所述待調(diào)制電壓矢量進(jìn)行過調(diào)制控制。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述計(jì)算單元包括： 第一計(jì)算模塊，用于根據(jù)所述第一參考電壓與所述第二參考電壓V 通過以下 公式計(jì)算所述待調(diào)制電壓矢量的調(diào)制比及所述待調(diào)制電壓矢量的矢量角度；dv'+γμ-二 tana= ， 1Kfl 其中，所述'@表示所述第一參考電壓V 的幅值，所述VMf2表示所述第二參考電壓 Vref/的幅值，所述q表示所述待調(diào)制電壓矢量的所述調(diào)制比；所述α表示所述待調(diào)制電壓 矢量的所述矢量角度。
9. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，還包括： 第二判斷單元，用于在所述判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢量角度是否在與所述調(diào) 制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)之前，根據(jù)所述調(diào)制比判斷所述待調(diào)制電壓矢量是否在矢量 空間的第一過調(diào)制區(qū)； 若判斷出所述待調(diào)制電壓矢量在所述第一過調(diào)制區(qū)時(shí)，則通過以下公式計(jì)算與所述調(diào) 制比對應(yīng)的第一過調(diào)制角度幅度：
其中，所述Θ表示所述第一過調(diào)制角度幅度，所述q表示所述待調(diào)制電壓矢量的調(diào)制 比，所述Vstep表示基本矢量的幅值； 通過以下公式計(jì)算所述第一過調(diào)制角度范圍： δi= 60*η±Θ， 其中，所述S1表示所述第一過調(diào)制角度范圍，所述Θ表示所述第一過調(diào)制角度幅度， 所述η表示O至5中的任意一個(gè)自然數(shù)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求8所述的裝置，其特征在于，還包括： 第三判斷單元，用于在所述判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢量角度是否在與所述調(diào) 制比對應(yīng)的過調(diào)制角度范圍內(nèi)之前，根據(jù)所述調(diào)制比判斷所述待調(diào)制電壓矢量是否在矢量 空間的第二過調(diào)制區(qū)； 若判斷出所述待調(diào)制電壓矢量在所述第二過調(diào)制區(qū)時(shí)，則通過以下公式計(jì)算與所述調(diào) 制比對應(yīng)的第二過調(diào)制角度幅度：
其中，所述γ表示所述第二過調(diào)制角度幅度，所述q表示所述待調(diào)制電壓矢量的調(diào)制 比，所述Vstep表示基本矢量的幅值； 通過以下公式計(jì)算所述第二過調(diào)制角度范圍： δ2= 60*m±γ， 其中，所述S2表示所述第二過調(diào)制角度范圍，所述γ表示所述第二過調(diào)制角度幅度， 所述m表示0至5中的任意一個(gè)自然數(shù)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征在于，所述第一判斷單元包括： 查找模塊，用于根據(jù)所述調(diào)制比在預(yù)先設(shè)置的映射表中查找與所述調(diào)制比對應(yīng)的過調(diào) 制角度幅度； 判斷模塊，用于判斷所述待調(diào)制電壓矢量的所述矢量角度是否在與所述調(diào)制比對應(yīng)的 所述過調(diào)制角度范圍內(nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求7-11中任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述控制單元包括： 控制模塊，用于根據(jù)所述調(diào)制比調(diào)整所述待調(diào)制電壓矢量的占空比，以實(shí)現(xiàn)對所述待 調(diào)制電壓矢量的過調(diào)制控制。
【文檔編號】H02M7/48GK104467495SQ201410666012
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月19日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月19日
【發(fā)明者】景鐵龍, 武建飛, 胡晰怡 申請人:珠海格力電器股份有限公司