旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置的制造方法
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種流體收集裝置，特別涉及一種適用于基板的旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置。
【【背景技術(shù)】】
[0002]在半導(dǎo)體晶圓、顯示器基板、太陽能基板、LED基板等的工藝中，都需要對(duì)基板進(jìn)行處理，例如對(duì)基板的表面供給處理液(例如化學(xué)品或去離子水等)進(jìn)行蝕刻、清洗等處理程序，而在所述基板處理中，則必須借助一流體處理裝置來針對(duì)使用過的處理液進(jìn)行收集、排液、回收等后續(xù)處理。然而，蝕刻過程產(chǎn)生的廢液多為有毒液體，必須謹(jǐn)慎處理。因此，如何收集甚至回收再利用不同的廢液為一重要課題。
[0003 ]現(xiàn)有的旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)可參考中國臺(tái)灣新型專利號(hào)M505052U，其揭露在旋轉(zhuǎn)蝕刻槽中設(shè)有一載臺(tái)用以承載及固定晶圓，載臺(tái)下方的轉(zhuǎn)軸可高速旋轉(zhuǎn)，蝕刻液則由上方的液體供給單元流下。流體收集裝置其采用包括多個(gè)收集環(huán)的收集環(huán)模塊以收集不同的液體，當(dāng)轉(zhuǎn)軸高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，可將廢液離心拋向收集環(huán)。所述多個(gè)收集環(huán)必須利用外部升降機(jī)構(gòu)(例如升降氣壓缸)驅(qū)動(dòng)以相對(duì)進(jìn)行升降作動(dòng)。在進(jìn)行不同液體收集時(shí)，可事先升降特定收集環(huán)，使液體順著各所述收集環(huán)的引導(dǎo)由各所述收集環(huán)下方的排液管排出。
[0004]然而，為了帶動(dòng)一個(gè)收集環(huán)升降，一般在收集環(huán)周圍設(shè)置多個(gè)升降氣壓缸以平穩(wěn)的控制收集環(huán)的升降，但也因采用多個(gè)氣壓缸，如有某一氣壓缸的做動(dòng)不同步，系統(tǒng)即可能產(chǎn)生警報(bào)而停機(jī)，進(jìn)而導(dǎo)致蝕刻液可能對(duì)基板過度侵蝕而需報(bào)廢掉所述基板，或因停機(jī)修護(hù)降低設(shè)備產(chǎn)能，導(dǎo)致生產(chǎn)成本提高及產(chǎn)品良率下降。
【【實(shí)用新型內(nèi)容】】
[0005]有鑒于此，為了提升流體收集裝置的可靠度，本實(shí)用新型的目的在于提供一種旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置，其透過每一收集環(huán)對(duì)應(yīng)一個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置，克服了現(xiàn)有技術(shù)中采用多個(gè)氣壓缸來升降一個(gè)收集環(huán)而容易造成升降構(gòu)件不同步的問題。
[0006]為達(dá)成上述目的，本實(shí)用新型提供的旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置用于收集由一基板表面飛濺的流體，所述流體收集裝置包括多個(gè)收集單元及多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置。所述多個(gè)收集單元環(huán)設(shè)于所述基板的周圍。所述多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置分別連接于所述多個(gè)收集單元，用于獨(dú)立控制各個(gè)收集單元的升降，使得所述多個(gè)收集單元可各自收集不同的流體，其中所述多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置的數(shù)量等于所述多個(gè)收集單元的數(shù)量。
[0007]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述多個(gè)收集單元包括多個(gè)收集環(huán)，所述多個(gè)收集環(huán)依序徑向設(shè)置。
[0008]在一優(yōu)選實(shí)施例中，每一驅(qū)動(dòng)裝置包括連結(jié)機(jī)構(gòu)，所述連接機(jī)構(gòu)用于穩(wěn)定地帶動(dòng)所述收集環(huán)的升降，避免升降構(gòu)件不同步。具體地，所述連結(jié)機(jī)構(gòu)耦接于所述收集環(huán)之外周緣上之第一觸點(diǎn)及第二觸點(diǎn)。
[0009]在此優(yōu)選實(shí)施例中，所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)于所述收集環(huán)的所述外周緣上定義出一弧度，所述弧度介于V2至31。
[0010]在此優(yōu)選實(shí)施例中，所述收集環(huán)包括位于所述外周緣上的連接于所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)的補(bǔ)強(qiáng)件。
[0011]在另一優(yōu)選實(shí)施例中，所述連結(jié)機(jī)構(gòu)包括連接于所述第一觸點(diǎn)及所述第二觸點(diǎn)的支撐件，所述支撐件設(shè)置于所述收集環(huán)的所述外周緣的底部。
[0012]在一優(yōu)選實(shí)施例中，所述驅(qū)動(dòng)裝置包括一滑軌，所述連接機(jī)構(gòu)包括連接于所述滑軌上做線性移動(dòng)之環(huán)抱臂，所述環(huán)抱臂具有第一端點(diǎn)及第二端點(diǎn)。
[0013]在此優(yōu)選實(shí)施例中，所述連結(jié)機(jī)構(gòu)還包括:第一頂柱，耦接于所述環(huán)抱臂的所述第一端點(diǎn)；第二頂柱，耦接于所述環(huán)抱臂的所述第二端點(diǎn)；第一吊柱，耦接于所述收集環(huán)的所述第一觸點(diǎn)；第二吊柱，耦接于所述收集環(huán)的所述第二觸點(diǎn)；第一鎖合件，用于鎖合所述第一頂柱以及所述第一吊柱；以及第二鎖合件，用于鎖合所述第二頂柱以及所述第二吊柱。
[0014]在此優(yōu)選實(shí)施例中，所述第一鎖合件以及所述第二鎖合件具有至少一水平調(diào)整螺絲，用于微調(diào)所述收集環(huán)的水平。
[0015]相較于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的流體收集裝置，其透過驅(qū)動(dòng)裝置一對(duì)一地連接所述多個(gè)收集環(huán)，而克服了現(xiàn)有采用多個(gè)氣壓缸而有不同步的問題。另外，為了強(qiáng)化升降時(shí)收集環(huán)的水平穩(wěn)定性，透過本實(shí)用新型的連結(jié)機(jī)構(gòu)的環(huán)抱臂對(duì)所述收集環(huán)外周緣上的第一觸點(diǎn)及第二觸點(diǎn)作為抬升的支點(diǎn)，而可順利平穩(wěn)的進(jìn)行升降。
[0016]為讓本實(shí)用新型之上述和其他目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下:
【【附圖說明】】
[0017]圖1為本實(shí)用新型之一優(yōu)選實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的剖面示意圖；
[0018]圖2為此優(yōu)選實(shí)施例的流體收集裝置的立體示意圖；
[0019]圖3為本實(shí)施例的流體收集裝置收集第一流體時(shí)的剖面示意圖；
[0020]圖4為本實(shí)施例的流體收集裝置收集第二流體時(shí)的剖面示意圖；
[0021 ]圖5為對(duì)應(yīng)圖3的流體收集裝置的立體視圖；
[0022]圖6為本實(shí)施例的流體收集裝置的俯視示意圖。
【【具體實(shí)施方式】】
[0023]本實(shí)用新型的數(shù)個(gè)優(yōu)選實(shí)施例借助所附圖式與下面的說明作詳細(xì)描述，在不同的圖式中，相同的元件符號(hào)表示相同或相似的元件。
[0024]請(qǐng)參照?qǐng)D1及圖2，圖1為本實(shí)用新型之一優(yōu)選實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的剖面示意圖，圖2為此優(yōu)選實(shí)施例的流體收集裝置的立體示意圖。如圖所示，本實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)100的流體收集裝置120用于收集由一基板10表面飛濺的流體。詳細(xì)而言，旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)100設(shè)有一載臺(tái)11，載臺(tái)11下方則連設(shè)一轉(zhuǎn)軸12，可承載及旋轉(zhuǎn)基板10，其中所述基板10可為半導(dǎo)體晶圓、顯示器基板、太陽能基板、LED基板等。所述流體收集裝置120包括多個(gè)收集單元20及多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置30。
[0025]所述多個(gè)收集單元20環(huán)設(shè)于所述基板10的周圍，詳細(xì)而言，所述多個(gè)收集單元20包括多個(gè)收集環(huán)22連設(shè)于收集環(huán)22底部的泄液管21，所述多個(gè)收集環(huán)22依序徑向設(shè)置，在此實(shí)施例中，所述多個(gè)收集環(huán)22包括第一收集環(huán)222及第二收集環(huán)224，第一收集環(huán)222及第二收集環(huán)224為同心環(huán)狀，其中位于外側(cè)的第一收集環(huán)222亦可稱為門環(huán)。本實(shí)施例的流體收集裝置120在圖1的狀態(tài)時(shí)，所述基板10露出于整個(gè)收集單元20外，此時(shí)可加載或卸載基板10。值得一提的是，本實(shí)用新型的收集單元20可為環(huán)狀或管狀等形式，且可視所收集流體種類向外增設(shè)，如三個(gè)收集環(huán)或四個(gè)收集環(huán)等。
[0026]請(qǐng)參照?qǐng)D3至圖4，圖3為本實(shí)施例的流體收集裝置120收集第一流體時(shí)的剖面示意圖，圖4為本實(shí)施例的流體收集裝置120收集第二流體時(shí)的剖面示意圖。如圖3所示，第一收集環(huán)222上升，而由第一收集環(huán)222收集第一流體。如圖4所示，當(dāng)?shù)诙占h(huán)224也上升時(shí)，而由第二收集環(huán)224收集第二流體。以下將詳細(xì)說明驅(qū)動(dòng)收集單元20的驅(qū)動(dòng)裝置30。
[0027]如圖2所示，所述多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置30分別連接于所述多個(gè)收集單元20(即第一收集環(huán)222及第二收集環(huán)224)，用于獨(dú)立控制各個(gè)收集單元20的升降，使得所述多個(gè)收集單元20可各自收集不同的流體，其中所述多個(gè)驅(qū)動(dòng)裝置30的數(shù)量等于所述多個(gè)收集單元20的數(shù)量。在此實(shí)施例中，收集單元20的數(shù)量為兩個(gè)，驅(qū)動(dòng)裝置30的數(shù)量也為兩個(gè)。以下將詳細(xì)說明驅(qū)動(dòng)裝置30的做動(dòng)原理。
[0028]如圖5所示，圖5為對(duì)應(yīng)圖3的流體收集裝置120的立體