一種等離子體刻蝕機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種干法刻蝕裝置，具體涉及一種等離子體刻蝕機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，等離子刻蝕技術(shù)作為干法刻蝕中最常見的形式之一，因其具有良好的各向異性以及工藝可控性被廣泛用于集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、先進(jìn)封裝、光波導(dǎo)等領(lǐng)域。
[0003]等離子體刻蝕是采用高頻輝光放電反應(yīng)，使反應(yīng)氣體激活成活性粒子，如原子或游離基，這些活性粒子擴(kuò)散到需刻蝕的部位，在那里與被刻蝕材料進(jìn)行反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物而被去除，從而實(shí)現(xiàn)刻蝕的目的。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，等離子體刻蝕機(jī)一般由反應(yīng)室、送氣單元、抽氣單元、電氣自動控制單元、高頻電源、匹配器以及主機(jī)柜等組成。反應(yīng)室是等離子刻蝕機(jī)的核心，內(nèi)部設(shè)置電感線圈，電感線圈利用線圈支架支撐，高頻輝光放電反應(yīng)過程采用電感線圈產(chǎn)生輝光放電，并在電感線圈內(nèi)側(cè)放置石英坩禍作為反應(yīng)場所。
[0005]現(xiàn)有等離子體刻蝕機(jī)中，線圈支架內(nèi)側(cè)壁設(shè)置線圈槽，電感線圈沿線圈槽纏繞在線圈支架上，線圈槽起到固定電感線圈的作用。由于電感線圈固定在線圈支架內(nèi)側(cè)，缺乏定位，在工作時，反應(yīng)室內(nèi)外的溫度會升高，電感線圈會產(chǎn)生高溫變形，觸碰坩禍導(dǎo)致其燒穿，極大的降低了坩禍的使用壽命，還會造成工件表面刻蝕不均勻，影響刻蝕效果。
[0006]因此，開發(fā)一種新的用于等離子體刻蝕機(jī)線圈支架，以固定電感線圈，在工作時，提供均勻的電場和氣體分布，具有積極的現(xiàn)實(shí)意義。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本實(shí)用新型的發(fā)明目的是提供一種等離子體刻蝕機(jī)。
[0008]為達(dá)到上述發(fā)明目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案是:一種等離子體刻蝕機(jī)，包括線圈支架和電感線圈，所述線圈支架包括上固定環(huán)、下固定環(huán)、設(shè)于上固定環(huán)與下固定環(huán)之間的至少3根支撐桿；所述支撐桿的外側(cè)壁上設(shè)有線圈槽，使電感線圈沿著線圈槽螺旋纏繞于支架之上；所述支撐桿的外側(cè)還設(shè)有配合的蓋板，使電感線圈夾持于支撐桿和蓋板之間。
[0009]上文中，上固定環(huán)、下固定環(huán)與支撐桿構(gòu)成一固定的柱形線圈架；支撐桿上設(shè)置凹槽作為線圈槽，感應(yīng)線沿著線圈槽纏繞在支架上形成螺旋形電感線圈；支撐桿最接近電感線圈的一面為內(nèi)側(cè)，相對于內(nèi)側(cè)的一面為外側(cè)；蓋板設(shè)置于支撐桿外側(cè)，防止電感線圈變形。
[0010]所述線圈槽可以是圓弧槽結(jié)構(gòu)，也可以是長方體槽等常規(guī)結(jié)構(gòu)。
[0011]上述技術(shù)方案中，所述支撐桿的數(shù)量為3?8根，且支撐桿均勻分布在上固定環(huán)與下固定環(huán)之間。優(yōu)選的，所述支撐桿的數(shù)量為6根。
[0012]上述技術(shù)方案中，每根支撐桿上設(shè)有8?10個線圈槽。電感線圈纏繞的圈數(shù)為8?9圈。
[0013]上述技術(shù)方案中，所述線圈槽的寬度為6?6.5 mm，深度為7?9 mm。感應(yīng)線可以順利穿過線槽，并且被線槽固定。優(yōu)選的，所述線圈槽的寬度為6.1 mm，深度為8 mm。
[0014]上述技術(shù)方案中，所述上固定環(huán)與下固定環(huán)為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)。
[0015]上述技術(shù)方案中，所述蓋板為長方體形結(jié)構(gòu)；其通過螺絲固定連接于支撐桿上。在工作時，線圈受熱變形，在蓋板的保護(hù)下，位移極小，保證電場均勻，而且不會觸碰坩禍。
[0016]上述技術(shù)方案中，所述上固定環(huán)與下固定環(huán)均為環(huán)氧樹脂環(huán)。所述支撐桿的材質(zhì)為特氟龍。
[0017]上述技術(shù)方案中，所述線圈支架內(nèi)設(shè)有坩禍，電感線圈與坩禍的間隙為5?7 mm。
[0018]由于上述技術(shù)方案運(yùn)用，本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
[0019]1、本實(shí)用新型在等離子體刻蝕機(jī)的線圈支架外側(cè)壁設(shè)置線圈槽，通過該線圈槽來固定電感線圈，從而避免了現(xiàn)有線圈在工作時變形觸碰坩禍導(dǎo)致其損壞的缺陷，有利于延長坩禍?zhǔn)褂脡勖?；同時在線圈支架外側(cè)穿線更為方便，有利于設(shè)備生產(chǎn)、維護(hù)；
[0020]2、本實(shí)用新型通過設(shè)置蓋板進(jìn)一步穩(wěn)定電感線圈；在工作時，線圈受熱變形，在蓋板的保護(hù)下，位移極小，保證電場均勻，有利于刻蝕效果的穩(wěn)定；同時使得線圈不易變形，減少電感線圈的更換頻次；
[0021]3、本實(shí)用新型的等離子體刻蝕機(jī)用線圈支架結(jié)構(gòu)簡單，位于反應(yīng)室內(nèi)，保證反應(yīng)過程中電場、氣體的穩(wěn)定，減少電感線圈的更換頻次，延長坩禍?zhǔn)褂脡勖?，提高整體設(shè)備的穩(wěn)定性，保證刻蝕效果，適合工業(yè)化應(yīng)用。
【附圖說明】
[0022]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例一中線圈支架的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例一中帶有電感線圈的線圈支架的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0024]其中:1、上固定環(huán)；2、下固定環(huán)；3、支撐桿；4、蓋板；5、線圈槽；6、螺絲；7、電感線圈。
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述:
[0026]實(shí)施例一
[0027]參見附圖1所示，一種等離子體刻蝕機(jī)用線圈支架，包括上固定環(huán)1、下固定環(huán)2、設(shè)于上固定環(huán)與下固定環(huán)之間的支撐桿3 ;固定環(huán)為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)；6根支撐桿均勻分布在上固定環(huán)與下固定環(huán)之間；支撐桿3的外側(cè)設(shè)有線圈槽5 ;蓋板4通過螺絲6安裝在支撐桿3的外側(cè)。為了顯示線圈槽的結(jié)構(gòu)，附圖只體現(xiàn)了 I個蓋板。
[0028]本實(shí)施例中，每根支撐桿上設(shè)有9個線圈槽；線圈槽為圓弧形結(jié)構(gòu)，線圈槽的寬度為6.1mm，深度為8mm ;蓋板為269X 10X20mm的長方體；上固定環(huán)與下固定環(huán)的材質(zhì)為環(huán)氧樹脂；支撐桿的材質(zhì)為特氟龍。
[0029]上固定環(huán)、下固定環(huán)與支撐桿構(gòu)成一固定的柱形線圈架，感應(yīng)線沿著線圈槽纏繞在支架上形成螺旋形電感線圈7，蓋板設(shè)置于支撐桿外側(cè)，防止電感線圈變形，參見附圖2所示。
[0030]實(shí)際工作時，用以上新型線圈支架以及電感線圈代替現(xiàn)有線圈支架與電感線圈，形成新的等離子體刻蝕機(jī)；坩禍置于電感線圈內(nèi)側(cè)，電感線圈與坩禍的間隙為5 _，工件置于坩禍內(nèi)，通電即可進(jìn)行等離子刻蝕。在刻蝕過程中，反應(yīng)室內(nèi)外的溫度會升高，電感線圈會產(chǎn)生高溫變形，本實(shí)用新型的線圈支架不僅起到固定作用，還保證線圈不易變形，減少電感線圈的更換頻次，延長石英坩禍的使用壽命，提高設(shè)備的穩(wěn)定性；從而有效提高了刻蝕效果ο
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種等離子體刻蝕機(jī)，包括線圈支架和電感線圈，其特征在于:所述線圈支架包括上固定環(huán)(1)、下固定環(huán)(2)、設(shè)于上固定環(huán)(I)與下固定環(huán)(2)之間的至少3根支撐桿(3); 所述支撐桿(3)的外側(cè)壁上設(shè)有線圈槽(5)，使電感線圈沿著線圈槽螺旋纏繞于支架之上； 所述支撐桿(3)的外側(cè)還設(shè)有配合的蓋板(4)，使電感線圈夾持于支撐桿和蓋板之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述支撐桿的數(shù)量為3?8根，且支撐桿均勻分布在上固定環(huán)與下固定環(huán)之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述支撐桿的數(shù)量為6根。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:每根支撐桿(3)上設(shè)有8?10個線圈槽。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述線圈槽的寬度為6?6.5_，深度為7~9 mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述上固定環(huán)與下固定環(huán)為圓環(huán)形結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述蓋板(4)通過螺絲(6)固定連接于支撐桿上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述上固定環(huán)與下固定環(huán)均為環(huán)氧樹脂環(huán)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體刻蝕機(jī)，其特征在于:所述線圈支架內(nèi)設(shè)有坩禍，電感線圈與i甘禍的間隙為5?7 mm。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種等離子體刻蝕機(jī)，包括線圈支架和電感線圈，所述線圈支架包括上固定環(huán)、下固定環(huán)、設(shè)于上固定環(huán)與下固定環(huán)之間的至少3根支撐桿；所述支撐桿的外側(cè)壁上設(shè)有線圈槽，使電感線圈沿著線圈槽螺旋纏繞于支架之上；所述支撐桿的外側(cè)還設(shè)有配合的蓋板，使電感線圈夾持于支撐桿和蓋板之間。本實(shí)用新型的線圈支架不僅起到固定作用，還保證線圈不易變形，減少電感線圈的更換頻次，延長石英坩堝的使用壽命，提高設(shè)備的穩(wěn)定性；從而有效提高了刻蝕效果。
【IPC分類】H01J37-32
【公開號】CN204391038
【申請?zhí)枴緾N201520127847
【發(fā)明人】繆國芳, 王志寶, 謝賢清
【申請人】蘇州阿特斯陽光電力科技有限公司, 鹽城阿特斯協(xié)鑫陽光電力科技有限公司
【公開日】2015年6月10日
【申請日】2015年3月5日