型顯示圖像。例如，光學(xué)膜102可以粘附至陣列基板101的背表面。可以應(yīng)用偏振膜、圖案化相位延遲膜(FPR)或三維(3D)偏振膜作為光學(xué)膜102。
[0060]在陣列基板的有源區(qū)(例如，圖3示例中的有源區(qū)110)上可以形成多個像素112。為了顯示全色圖像，可以將紅色子像素R、綠色子像素G、藍(lán)色子像素B和白色子像素W構(gòu)成一個像素112。子像素中的每一個可以包括0LED和像素電路，該像素電路可以包括驅(qū)動TFT、掃描TFT和感測TFT。
[0061]封裝基板150可以形成為覆蓋整個有源區(qū)以物理地保護(hù)形成在每個子像素中的0LED免受外部干擾。此外，封裝基板150可以形成為覆蓋非顯示區(qū)的一部分和整個有源區(qū)。
[0062]在陣列基板101的非顯示區(qū)中可以形成多個焊盤(未示出)、多個鏈路線140和多個計程線(未示出)，上述的多個焊盤、多個鏈路線140和多個計程線可以連接至驅(qū)動電路單元并且可以向多個像素中的每一個提供驅(qū)動信號。多個鏈路線140和多個計程線可以提供驅(qū)動信號。多個鏈路線140和多個計程線可以以預(yù)定間隔布置在顯示面板100的非顯示區(qū)中，例如在顯示面板100的外圍部分處。
[0063]可以將每個鏈路線140和每個計程線的一側(cè)連接至驅(qū)動電路單元的輸出端。可以將每個鏈路線140和每個計程線的另一側(cè)連接至多個子像素的信號線?？梢詫Ⅱ?qū)動電壓和驅(qū)動信號提供至每個子像素。
[0064]在外部光被線反射時，多個鏈路線140和多個計程線對用戶可以是可見的。可以期望通過實現(xiàn)不具有邊框的底部發(fā)射型顯示面板來增進(jìn)0LED裝置的美學(xué)外觀。然而，因為形成在非顯示區(qū)中的線的圖案由于光的反射而是可見的，所以相關(guān)技術(shù)的0LED裝置的外部美學(xué)外觀劣化。
[0065]根據(jù)實施例的0LED裝置可以包括形成在多個鏈路線140和多個計程線之間的緩沖層130。緩沖層130可以防止在非顯示區(qū)中線的圖案由于光的反射而變得可見。
[0066]圖6為示出了沿著圖5的線A1-A2截取的橫截面的圖。在下文中，將參照圖6描述其中形成有緩沖層130以防止在非顯示區(qū)中線的圖案由于光的反射而變得可見的詳細(xì)示例。
[0067]如圖6的(A)處的示例所示，緩沖層130可以在陣列基板101上形成為與多個鏈路線140之間的空間交疊。例如，緩沖層130和多個鏈路線140可以形成在不同的層上，在阻擋層130和多個鏈路線140之間有絕緣層103。緩沖層130可以形成在陣列基板101的第一層上，而多個鏈路線140可以形成在第二層上。
[0068]緩沖層130可以由例如金屬材料形成并且可以具有與多個鏈路線140的光反射率相同的光反射率。多個鏈路線140和緩沖層130可以由相同的金屬形成。然而，例如，在光反射率之間沒有差別的情況下，多個鏈路線140和緩沖層130可以由不同金屬形成。
[0069]在圖6的(A)處的示例中，緩沖層130示出為形成在多個鏈路線140之間，并且已經(jīng)在上面對緩沖層130進(jìn)行了描述。然而，實施例不限于此。例如，緩沖層130可以形成在非顯示區(qū)中形成的多個計程線之間，并且所述多個計程線之間的空間可以用緩沖層130填充。
[0070]在一個示例中，緩沖層130的寬度可以寬廣地形成為充分覆蓋多個鏈路線140之間的空間以及多個計程線之間的空間。緩沖層130可以被圖案化并且形成為使得緩沖層130的端部可以與下述這樣的空間交疊:該空間在比每個鏈路線140和每個計程線的端部更向內(nèi)的部分處。
[0071]如上所述，形成在陣列基板101上的多個鏈路線140之間的空間以及多個計程線之間的空間可以用緩沖層130填充。因而，可以防止多個鏈路線140的圖案由于來自外部的入射光的反射而變得可見。
[0072]參照圖6的⑶處的示例，緩沖層130和多個鏈路線140可以形成在不同的層上，在阻擋層130和多個鏈路線140之間有絕緣層103。緩沖層130可以形成在陣列基板101上的第一層上，而多個鏈路線140可以形成在第二層上。緩沖層130可以形成在多個鏈路線140之下以覆蓋多個鏈路線140的下部和多個鏈路線之間的空間。
[0073]在圖6的⑶處的示例中，緩沖層130被示出為形成在多個鏈路線140之下，并且已經(jīng)在上面對緩沖層130進(jìn)行了描述。然而，實施例不限于此。例如，緩沖層130可以形成在非顯示區(qū)中的多個計程線之下。
[0074]如上所述，緩沖層130可以形成為覆蓋多個鏈路線140的下部、多個計程線的下部以及這些線之間的空間。因而，可以防止所述多個鏈路線140的圖案由于來自外部的入射光的反射而變得可見。
[0075]在顯示面板100的TFT以共面的方式形成的情況下，在每個TFT之下可以形成遮光層，該遮光層可以防止光入射到每個TFT的半導(dǎo)體層上。遮光層可以設(shè)置在基板101的最下部，并且通過使用在有源區(qū)中形成遮光層的工藝可以在非顯示區(qū)中形成緩沖層130。如上所述，在通過使用金屬圖案以及在有源區(qū)中形成遮光層的工藝來在非顯示區(qū)中形成緩沖層130時，在不執(zhí)行附加工藝或不增加制造成本的情況下，可以防止多個鏈路線的圖案由于來自外部的入射光的反射而被顯現(xiàn)。
[0076]然而，實施例不限于此，緩沖層130可以通過使用形成在有源區(qū)中形成的多個金屬層之中的與鏈路線140和計程線所處的層不同的層上的金屬圖案來形成。例如，在有源區(qū)中形成柵極線時，可以通過使用柵極金屬圖案以及形成柵極線的工藝來在非顯示區(qū)中形成緩沖層130。
[0077]圖7為示出了根據(jù)一個實施例的非顯示區(qū)的橫截面的圖。
[0078]參照圖7，可以在多個鏈路線140之下并且在陣列基板101上形成遮光層135。在一個示例中，遮光層135和多個鏈路線140可以形成在不同的層上，在遮光層135和多個鏈路線140之間有絕緣層103。遮光層135可以形成在陣列基板101上的第一層上，而多個鏈路線140可以形成在第二層上。遮光層135可以形成在多個鏈路線140之下以覆蓋多個鏈路線140的下部以及多個鏈路線之間的空間。
[0079]在圖7的示例中，遮光層135被示出為形成在多個鏈路線140之下，并且已經(jīng)在上面對遮光層135進(jìn)行了描述。然而，實施例不限于此。例如，遮光層135可以形成在非顯示區(qū)中形成的多個計程線之下。遮光層135可以由例如吸收光的黑色顏料形成。
[0080]如上所述，遮光層135可以形成為覆蓋多個鏈路線140的下部、多個計程線的下部以及這些線之間的空間。因而，可以防止多個鏈路線的圖案由于來自外部的入射光的反射而變得可見。
[0081]圖8為示出了設(shè)置在有源區(qū)中的像素的橫截面結(jié)構(gòu)和設(shè)置在非顯示區(qū)中的遮光層的橫截面結(jié)構(gòu)的圖。
[0082]在圖8中，示出了設(shè)置在有源區(qū)中的多個像素之一。此外，示出了設(shè)置在非顯示區(qū)中的多個鏈路線中的一條鏈路線140。此外，示出了設(shè)置在非顯示區(qū)中的多個緩沖層中的兩個緩沖層130。
[0083]參照圖8，光學(xué)膜102設(shè)置在陣列基板101之下。光學(xué)膜102可以使用偏振膜、圖案化相位延遲膜(FPR)或3D偏振膜。
[0084]在陣列基板101上，在有源區(qū)中設(shè)置有遮光層LS，并且在非顯示區(qū)中設(shè)置有多個緩沖層130。在陣列基板101和遮光層LS上設(shè)置有TFT的有源層ACT。絕緣層103被設(shè)置成覆蓋有源層ACT的一部分和多個緩沖層130。
[0085]在有源區(qū)中，在有源層ACT上設(shè)置有柵極絕緣體GI，并且在該柵極絕緣體GI上設(shè)置有柵電極Gate。在非顯示區(qū)中，柵極絕緣體GI設(shè)置在絕緣層103上的與多個緩沖層130之間的空間對應(yīng)的部分處。在柵極絕緣體GI上設(shè)置有焊盤PAD。有源區(qū)中的柵電極Gate和非顯示區(qū)中的焊盤PAD由相同的金屬材料形成。
[0086]在柵電極Gate和焊盤PAD上設(shè)置有層間電介質(zhì)ILD。
[0087]設(shè)置有穿過有源區(qū)中的層間電介質(zhì)ILD連接至有源層ACT的第一側(cè)的源電極S和連接至有源層ACT的第二側(cè)的漏電極。如上所述，驅(qū)動TFT配置有有源層ACT、柵極絕緣體G1、源電極S和漏電極D。
[0088]此外，設(shè)置有穿過非顯示區(qū)中的層間電介質(zhì)ILD連接至焊盤PAD