器件的可見范圍中。在這個校準步驟中，右下光學器件的位置優(yōu)選地遠離右標記以移動襯底，使得首先進行大致定位。接著，通過精確度高且主要可再現(xiàn)的移位，使右下光學器件接近右標記，直到右標記位于右下光學器件的景深區(qū)中。由于右下光學器件不能在水平平面內(nèi)、即沿X方向和Y方向移位，所以通過校準襯底經(jīng)由上平移單元的平移移動，使右標記接近右下光學器件的光軸，理想情況下重合，然而由于時間和/或成本的原因理想情況不一定合乎需要。
[0040]在第四校準步驟，右上光學器件朝著校準襯底的右標記取向，如同左光學器件的校準中一樣，左上光學器件朝左標記取向。首要的是，僅有意義的又是，右標記位于右上光學器件的可見范圍中。優(yōu)選地，右標記的位置應當再次盡可能接近右上光學器件的光軸，以便使因圖像傳感器和/或光學器件的可能失真引起的位置確定的可能的測量準確度最小。按照一實施方式，規(guī)定使右標記和右上光學器件的光軸完全重合。
[0041]右上光學器件固定在這個位置中，并且在直到對齊的理想情況下必須不再移動。存儲左下光學器件的Z位置(檢測數(shù)據(jù))，以便能夠使它以后再次移動到完全相同的位置。
[0042]通過這個優(yōu)選過程(其中光軸盡可能準確但未精準地固定左標記)，確定能夠參照的左零點，但是光軸沒有準確地切入左標記。
[0043]在相當特殊但是難以實現(xiàn)或者由于時間和成本原因而不合需要的一實施方式中，兩個光軸精準地以右標記為中心。兩個右光軸的相交點則至少位于兩個右光學器件的景深區(qū)之內(nèi)并且優(yōu)選地甚至精準地位于右標記的中心。在這種理想情況下，右相交點優(yōu)選精準地對應于右零點。
[0044]因此，兩個相對的檢測單元尤其作為檢測對一起工作。右下光學器件這時能夠再次達到起始位置，其中它不阻止以后引入對齊室的下襯底的加載。
[0045]利用這四個校準步驟，兩個檢測對的光軸的校準結(jié)束，并且這些標記的景深區(qū)為已知(檢測數(shù)據(jù))。它們能夠轉(zhuǎn)移/轉(zhuǎn)換到尤其在尺寸上與第一校準襯底相似的襯底上。
[0046]兩個光軸優(yōu)選地按照使得它們切入以后的接合平面的方式來定向。如已經(jīng)所述的那樣，由于相交點的精準確定僅對于較大時間開銷是可能的，所以至少按照本發(fā)明進行對齊，使得以后的接合平面位于光學器件的景深區(qū)內(nèi)(當它們位于由前一校準過程所確定的那些位置時)。
[0047]在對測試襯底的標記進行聚焦時，光學器件優(yōu)選地通過上光學器件和下光學器件來聚焦，其方式使得標記(如以上在校準步驟中已經(jīng)進一步詳細所述的那樣)精準地在兩個光學器件中居中。如果看來標記在兩個光學器件中居中，則兩個光學器件均與標記精準地對齊，使得這些光學器件的相交點在標記中相遇。
[0048]就兩個光學器件之一沒有在中心檢測到標記而言，通過軟件、固件或硬件存儲標記與光軸之間的偏移，并且因而能夠用于以后的換算。如果對應軟件、固件或硬件因此存儲后一接合平面中光軸的相交點之間的距離，則能夠棄用后一接合平面中光軸的精準相交點，并且使用偏移，以便仍然能夠?qū)蓚€襯底精準地相互對齊。
[0049]下光學器件能夠?qū)匾菩械狡浯鎯Φ腪位置上。在理想情況下，這個校準必須僅執(zhí)行單次。但是，如果在系統(tǒng)處發(fā)生變化、例如一個或多個光學器件的交換、機械部件的交換或者可能甚至僅對齊室的凈化，則可需要進行重新校準。尤其是，當進行和/或確定左側(cè)和/或右側(cè)的光軸的相交點的移位時，則始終實行校準。
[0050]作為下一個步驟，校準在上光學器件與第二校準襯底之間進行，所述第二校準襯底提供有多個標記(換言之，標記矩陣)，尤其是以便檢測第一容納件的平移單元和/或第一檢測單元的平移單元的X-Y移動，以及對應地校準它們。
[0051]下文中，不再按照先前部分進行的相同方式區(qū)分一方面光軸到標記的精準調(diào)整以及另一方面在光軸與標記之間的接近的方式。按照本發(fā)明，用于確定標記的位置的兩種方法中的每種方法是可能的。為了使按照本發(fā)明的實施方式保持為盡可能簡單，下文中，僅多次提到標記的精準檢測。以上公開的特征類似地適用于以下實施方式。在第一校準步驟中，第二校準襯底在左上光學器件之下移動，直到標記之一準確地位于左上光學器件的光軸的中心。然后，進行由上容納件對第二校準襯底的固定，使得第二校準襯底在后續(xù)校準步驟期間保持在同一 χ-γ位置。
[0052]在第二校準步驟，左上光學器件借助檢測單元的X和Y平移單元將第二校準襯底的左側(cè)上的標記矩陣的標記向下指向，并且將左上光學器件定位在每個標記上方，使得當前操控的標記設置在左上光學器件的光軸中心。
[0053]第二校準襯底的標記矩陣的標記尤其通過沉積過程來產(chǎn)生，并且彼此之間具有準確度高地、尤其是等距的間距和/或準確已知的間距。標記矩陣的標記之間的間距小于100μ m、優(yōu)選地小于10 μ m、更優(yōu)選地小于1 μ m以及最優(yōu)選地小于100 nm。標記矩陣的標記之間的間距的偏差或誤差尤其小于左上光學器件的光學器件電機的分辨率邊界和/或準確性。
[0054]控制單元的X-Y位置尤其由中央控制裝置作為檢測數(shù)據(jù)來存儲。所述中央控制裝置將它們與對應標記的所存放值有關(guān)系。因此，得到兩個位置圖，即具有理想X和Y位置的理想/預設位置圖以及能夠與其相關(guān)并且給出左上光學器件的實際X和Y坐標(或位置)的真實位置圖。兩個位置圖均(能夠)經(jīng)由雙射圖相互鏈接。通過內(nèi)插，能夠產(chǎn)生連續(xù)位置圖，以便確定真實X和Y位置，其啟動理想X和Y位置上方的左上光學器件。
[0055]在第三校準步驟，第二校準襯底在右上光學器件之下移動，直到標記之一準確地位于右上光學器件的光軸的中心。然后，進行由上容納件對第二校準襯底的固定，使得第二校準襯底在后續(xù)校準步驟期間保持在同一 χ-γ位置。
[0056]用于右上光學器件的第四校準步驟對應于第二校準步驟，轉(zhuǎn)移到右側(cè)。
[0057]按照本發(fā)明的最終校準步驟涉及下容納件的z平移單元。按照本發(fā)明，下容納件尤其僅提供有沿z方向的一個平移自由度。由此確保下容納件的精確度高的引導。就在沿Z方向移動下容納件時可能沿X方向和/或y方向有偏差而言，尤其通過相對于Z軸傾斜下容納件的運動方向或者通過位置的誤差，按照本發(fā)明的一優(yōu)選實施方式來觀察下容納件的χ-y平面內(nèi)的一個或多個標記的運動。尤其是，下容納件沿X方向和/或y方向在一個或多個標記處的移位作為沿z方向的位置的函數(shù)來確定。尤其是，該函數(shù)作為線性函數(shù)來內(nèi)插。這樣，在控制裝置或者軟件、固件或硬件中已知，當襯底在路徑Z之上移動時，當襯底在路徑z上行進時襯底通過哪一個路徑X和/或y移位。
[0058]在第一實施方式中，所觀測標記在整個路徑z之上始終保持在光學器件的可見范圍中以及在其景深區(qū)中。但是，這對沿z方向的顯著行進距離而言，僅當景深區(qū)對應大時，才是可能的。這僅對于具有小放大倍率和分辨能力的光學器件才是可能的(若存在的話)。
[0059]在第二優(yōu)選實施方式中，上光學器件沿z軸隨襯底一起運動。由于上光學器件按照本發(fā)明尤其還具有z平移單元，所以這是有利的。這個校準步驟優(yōu)選地在所有其他上述校準步驟之前實施，因而光學器件在后續(xù)校準步驟中不再必須沿z方向移動。
[0060]另外，按照本發(fā)明可設想:上光學器件和襯底沿正和負z方向移位多次，以及通過對多個這種循環(huán)取平均來確定最優(yōu)函數(shù)。
[0061 ] 在甚至更有效且更優(yōu)選的第三實施方式中，使用具有至少四個、尤其是準確地是四個標記的校準襯底。頂側(cè)上兩個標記，分別是校準襯底的左側(cè)一個和右側(cè)一個，以及底側(cè)上的兩個標記，同樣分別是校準襯底的左側(cè)一個和右側(cè)一個。
[0062]校準襯底具有精準已知或者測量的厚度。厚度至少在標記附近是最準確已知的。在這種情況下，校準襯底的厚度至少在標記附近更準確地已知為100 μm、優(yōu)選地更準確地已知為10 μ m、更優(yōu)選地更準確地已知為1 μ m、最優(yōu)選地更準確地已知為100 nm，其中最優(yōu)選地更準確地已知為10 nm、其中最優(yōu)選地更準確地已知為1 nm。
[0063]就分別相對的標記沿X方向和/或y方向彼此間的移位而言，測量兩個相對標記在X和y方向上的相對間距。誤差在這種情況下尤其小于100 μπκ優(yōu)選地小于10 μπκ更優(yōu)選地小于1 μπκ最優(yōu)選地小于100 nm，以最優(yōu)選的方式小于10 nm、最優(yōu)選地小于1 nm。
[0064]為了確定z平移單元沿X方向和/或y方向、沿預設路徑的偏差，與按照本發(fā)明的兩個先前所述實施方式相反，上光學器件尤其聚焦在上標記上。然后，在稱作部分校準步驟的移動中，在與校準襯底的厚度對應的距離上將z平移單元接近上光學器件。在該接近期間，z平移單元沿X方向和/或y方向的移位能夠通過上標記(以及對于在該過程期間下標記也位于景深區(qū)的情況，通過下標記)的移位來測量。在上光學器件聚焦下標記之后，光學器件行進，直到上標記再次位于焦點上。由于兩個標記沿X方向和/或y方向的相對間距從不改變，所以上光學器件能夠在沿z方向移位之后再次相對于其中在這個部分校準步驟之前發(fā)現(xiàn)它的上標記設定成相同位置。就光學器件在每個新的部分校準步驟之前相對于上標記重新定位而言，通過上光學器件的z移動可能產(chǎn)生的X移位和/或y移位對平移單元的X移位和/或1移位的確定而言是不重要的。這個部分校準步驟能夠在任意距離上重復進行。
[0065]換言之，上光學器件和校準襯底逐步地以及交替地沿將要測量的路徑移動，其中，光學器件在新校準步驟之前始終再次朝著校準襯底的標記定向。
[0066]按照本發(fā)明，恰恰相反的過程也是可設想的，S卩，上光學器件首先聚焦在下標記上，以及校準襯底然后運動離開上光學器件。
[0067]在完成校準襯底的z移位后，然后上光學器件遵循相同的過程。
[0068]當上標記和下標記在校準襯底的運動期間始終設置在上光學器件的景深區(qū)內(nèi)部時，校準步驟特別有效。在按照本發(fā)明的這個實施方式中，校準襯底是透明的。另外，校準襯底選擇成盡可能薄但厚至盡可能防止彎曲所需。校準襯底尤其具有小于2000 μπκ優(yōu)選地小于1000 μπκ更優(yōu)選地小于500 μπκ最優(yōu)選地小于100 μπι的厚度。當左上光學器件對左光學器件以及上右光學器件執(zhí)行上述測量、尤其同時對右側(cè)執(zhí)行測量時，對ζ平移單元沿X和y方向的偏差的校準特別有效。
[0069]如果這個校準步驟也已經(jīng)結(jié)束，則關(guān)于襯底在沿正或負ζ方向移動時沿X方向和/或y方向移位多少的精準預測是可能的。
[0070]在利用校準襯底的所有校準過程已經(jīng)結(jié)束之后，襯底的處理能夠開始。下文中，在按照本發(fā)明的先前正確校準的實施方式中示出優(yōu)選面對面對齊過程。在面對面對齊過程的情況下，標記位于兩個襯底的相互接合的接觸面處。面對面對齊過程應該用作示例性對齊過程。面對面對齊過程也是適當示例，因為它示出最復雜對齊過程。這歸因于在面對面對齊過程中，在接近光學器件的襯底期間標記是不可達到的，即，按照幾乎盲目地使襯底接近。[0071 ] 執(zhí)行背對背過程、面對背過程和背對面過程也是可設想的。在背對背過程中，對齊標記始終